G	Sektion G — Physik
		Anmerkung: In dieser Sektion wird der folgende Begriff mit der angegebenen Bedeutung verwendet: "Veränderliche" bedeutet ein charakteristisches Merkmal oder eine Eigenschaft, z.B. eine Abmessung, einen physikalischen Zustand, wie Temperatur, eine Beschaffenheit, wie Dichte oder Farbe, die an einer bestimmten Sache, z.B. an einem Gegenstand, einer Stoffmenge, einem Lichtstrahl und in einem bestimmten Augenblick gemessen werden kann; die Veränderliche kann sich ändern, sodass ihr Zahlenwert zu verschiedenen Zeiten oder unter verschiedenen Bedingungen oder in bestimmten Fällen verschieden groß sein kann. Die Veränderliche kann aber auch für eine bestimmte Sache unter gewissen Bedingungen oder für praktische Zwecke konstant sein, z.B. kann die Länge eines Stabes für viele Zwecke als konstant angesehen werden. Es sind die Definitionen von Begriffen oder Ausdrücken zu beachten. Einige sind in den Anmerkungen zu einzelnen Klassen dieser Sektion enthalten, siehe besonders die Definition zu "Messen" in Klasse G01. Andere sind in Abschnitt 187 des Handbuchs zur IPC enthalten, siehe insbesondere die Erklärungen zu "Steuern" und "Regeln". Das Klassifizieren kann in dieser Sektion mehr Schwierigkeiten als in anderen Sektionen bereiten, weil die Unterscheidung zwischen verschiedenen Anwendungsgebieten in sehr viel stärkerem Ausmaß auf Unterschieden in der Absicht des Benutzers als auf konstruktiven Unterschieden oder auf Unterschieden in der Art der Verwendung der Erfindung beruht, und auch, weil die hier behandelten Gegenstände im Wesentlichen eher Einrichtungen oder Kombinationen mit gemeinsamem Wesen oder gemeinsamen Bestandteilen darstellen als "Dinge" betreffen, die schon für sich unterscheidbar sind. So kann eine Information, z.B. eine Reihe von Symbolen, zum Zwecke der Unterrichtung oder der Reklame, umfasst von Klasse G09, dargestellt werden, um Messresultate anzuzeigen, umfasst von Klasse G01, um eine Information von oder zu einer entfernten Stelle zu übermitteln, umfasst von Klasse G08. Die zur Beschreibung der Verwendung gemachten Angaben hängen von Merkmalen ab, die für die Form des betreffenden Gerätes unwesentlich sein können, z.B. Merkmale, die die erwünschte Wirkung auf die Person betreffen, die die Darstellung wahrnimmt, oder solche, die sich auf die Darstellung von aus der Ferne gesteuerten Informationen beziehen. Ferner kann eine Einrichtung, die auf eine Zustandsänderung, z.B. im Druck einer Flüssigkeit, anspricht, ohne Änderung der Einrichtung dazu benutzt werden, Angaben über diesen Druck, umfasst von Unterklasse G01L, oder über einen anderen Zustand, der mit dem Druck zusammenhängt, zu geben, eine andere Unterklasse von G01, z.B. G01K für die Temperatur, den Druck oder seinen Verlauf, umfasst von Unterklasse G07C, aufzuzeichnen, einen Alarm auszulösen, umfasst von Unterklasse G08B oder um andere Einrichtungen zu steuern, umfasst von Klasse G05. Das Klassifikationssystem soll es möglich machen, Gegenstände ähnlicher Natur, wie oben angegeben, an gleicher Stelle zu klassifizieren, und es ist deshalb besonders wichtig, den Kern jedes technischen Gegenstandes zu bestimmen, bevor er genau klassifiziert werden kann.
	G03	Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie [4]
		Anmerkung: Diese Klasse umfasst nicht die Aufzeichnung von Bildern oder Mustern durch Abtasten und die Umwandlung in elektrische Signale, welche von der Unterklasse H04N umfasst wird. In dieser Klasse werden die folgenden Begriffe mit den angegebenen Bedeutungen verwendet: "Aufzeichnungen" bedeutet fotografische Bilder oder jede andere Art von latenter, direkt sichtbarer oder dauernder Speicherung einer bildlichen Information, die aus einer bildmäßigen Verteilung einer Größe besteht, z.B. ein elektrisches Ladungsbild, gespeichert auf einem Träger. "optisch" bezieht sich nicht nur auf sichtbares Licht, sondern auch auf ultraviolette oder infrarote Strahlungen.
	G03F	Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür (Lichtsetzmaschinen B41B; lichtempfindliche Materialien oder fotografische Verfahren G03C; Elektrografie, lichtempfindliche Schichten oder Verfahren dafür G03G)
		Anmerkung: In dieser Unterklasse werden folgende Begriffe oder Ausdrücke mit den angegebenen Bedeutungen verwendet: "lichtempfindlich" bedeutet nicht nur Empfindlichkeit gegenüber elektromagnetischer Strahlung, sondern auch gegen Korpuskularstrahlung; "lichtempfindliche Zusammensetzungen" umfassen lichtempfindliche Substanzen, z.B. Chinondiazide und gegebenenfalls Bindemittel oder Zusätze; "lichtempfindliche Materialien" umfassen lichtempfindliche Zusammensetzungen, z.B. Fotolacke [Resists], Schichtträger dafür und gegebenenfalls Hilfsschichten.
	G03F 1/00	Kopiervorlagen für die fotomechanische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Masken, Fotomasken oder Zielmarken; zugehörige Maskenrohlinge oder Pellicles; besonders hierfür ausgebildete Behälter; Herstellung derselben [1, 3, 2006.01, 2012.01]
		Anmerkung: In dieser Hauptgruppe wird, sofern nichts Gegenteiliges angegeben ist, in jeder hierarchischen Ebene die Erste-Stelle-Vorrangregel angewendet, d.h. in die erste zutreffende Stelle klassifiziert.
	G03F 1/20	.  Masken oder Maskenrohlinge zur Abbildung mittels Strahlung geladener Teilchen, z.B. mittels Elektronenstrahlung; Herstellung derselben [2012.01]
	G03F 1/22	.  Masken oder Maskenrohlinge zur Abbildung mittels Strahlung von 100 nm oder kürzerer Wellenlänge, z.B. Röntgen-Masken, EUV-Masken; Herstellung derselben [2012.01]
	G03F 1/24	. .  Reflexionsmasken; Herstellung derselben [2012.01]
	G03F 1/26	.  Phasenverschiebungsmasken (PSM); PSM-Rohlinge; Herstellung derselben [2012.01]
	G03F 1/28	. .  mit drei oder mehr unterschiedlichen Phasen auf derselben PSM; Herstellung derselben [2012.01]
	G03F 1/29	. .  Rim-PSM oder Outrigger-PSM; Herstellung derselben [2012.01]
	G03F 1/30	. .  Alternierende PSM, z.B. Levenson-Shibuya-PSM; Herstellung derselben [2012.01]
	G03F 1/32	. .  Abschwächende PSM (attenuating PSM, att PSM), z.B. PSM mit einem halbdurchlässigen Phasenverschiebungsbereich, Halbton-PSM; Herstellung derselben [2012.01]
	G03F 1/34	. .  Phasenkanten-PSM, z.B. chromlose PSM; Herstellung derselben [2012.01]
	G03F 1/36	.  Masken mit Strukturen zur Proximity Correction; Herstellung derselben, z.B. Entwurfsprozesse (Optical Proximity Correction [OPC]) [2012.01]
	G03F 1/38	.  Masken mit Hilfsstrukturen, z.B. speziellen Beschichtungen oder Ausrichtungsmarken oder Prüfmarken; Herstellung derselben [2012.01]
	G03F 1/40	. .  Besonderheiten, die auf die elektrostatische Entladung [ESD] bezogen sind, z.B. antistatische Beschichtungen oder ein elektrisch leitfähiger Metallmantel, der das Äußere des Maskensubstrates umschließt [2012.01]
	G03F 1/42	. .  Strukturen für Ausrichtung, Registrierung oder Identifizierung der Maske, z.B. Ausrichtungsmarken auf den Maskensubstraten [2012.01]
	G03F 1/44	. .  Prüfstrukturen oder Messstrukturen, z.B. Gitterstrukturen, Strukturen zur Fokusüberwachung, Sägezahnskalen oder Kerbskalen [2012.01]
	G03F 1/46	. .  Antireflexbeschichtungen [2012.01]
	G03F 1/48	. .  Schutzbeschichtungen [2012.01]
	G03F 1/50	.  Maskenrohlinge, die nicht durch die Gruppen G03F 1/20-G03F 1/26 abgedeckt werden; Herstellung derselben [2012.01]
	G03F 1/52	.  Reflektoren [2012.01]
	G03F 1/54	.  Absorber, z.B. opakes Material [2012.01]
	G03F 1/56	. .  Organische Absorber, z.B. Fotolack [2012.01]
	G03F 1/58	. .  mit zwei oder mehr verschiedenen Absorberschichten, z.B. Mehrlagenabsorber [2012.01]
	G03F 1/60	.  Substrate [2012.01]
	G03F 1/62	.  Pellikel oder Pellikelanordnungen, z.B. Anordnung eines Pellikels auf einem Stützrahmen; Herstellung derselben [2012.01]
	G03F 1/64	. .  charakterisiert durch die Rahmen, z.B. deren Struktur oder Material [2012.01]
	G03F 1/66	.  Behälter, besonders ausgebildet für Masken, Maskenrohlinge oder Pellikel; Herstellung derselben [2012.01]
	G03F 1/68	.  Herstellungsprozesse, die nicht durch die Gruppen G03F 1/20-G03F 1/50 abgedeckt sind [2012.01]
	G03F 1/70	. .  Anpassung des grundlegenden Entwurfs oder des Aufbaus der Masken an die Anforderungen des lithografischen Prozesses, z.B. Zweischrittkorrektur von Maskenmustern für Abbildungsverfahren [2012.01]
	G03F 1/72	. .  Reparatur oder Korrektur von Maskenfehlern [2012.01]
	G03F 1/74	. . .  mittels Strahlung geladener Teilchen, z.B. fokussierter Ionenstrahl [2012.01]
	G03F 1/76	. .  Erstellen von Mustern auf Masken durch Abbildungsverfahren [2012.01]
	G03F 1/78	. . .  mittels Strahlung geladener Teilchen, z.B. Elektronenstrahlung [2012.01]
	G03F 1/80	. .  Ätzen [2012.01]
	G03F 1/82	. .  Hilfsprozesse, z.B. Reinigen [2012.01]
	G03F 1/84	. . .  Überprüfen [2012.01]
	G03F 1/86	. . . .  mittels Strahlung geladener Teilchen [2012.01]
	G03F 1/88	.  hergestellt mittels fotografischer Arbeitsgänge, um Kopiervorlagen zu bilden, die ein Relief simulieren [2012.01]
	G03F 1/90	.  hergestellt durch Montageverfahren [2012.01]
	G03F 1/92	.  hergestellt ausgehend von Druckflächen [2012.01]
	G03F 3/00	Farbtrennung; Berichtigung des Farbwertes (fotografische Kopierapparate allgemein G03B) [1, 2006.01]
	G03F 3/02	.  durch Retuschieren [1, 2006.01]
	G03F 3/04	.  durch fotografische Verfahren [1, 2006.01]
	G03F 3/06	. .  durch Maskieren [1, 2006.01]
	G03F 3/08	.  durch fotoelektrische Mittel [1, 2006.01]
	G03F 3/10	.  Prüfen des Farbwertes oder Tonwertes der Auszugsnegative oder Auszugspositive [1, 2006.01]
	G03F 5/00	Rasterverfahren; Raster dafür [1, 2006.01]
	G03F 5/02	.  durch Projektion (Kameras G03B) [1, 2006.01]
	G03F 5/04	. .  durch Wechsel der Rasterwirkung [1, 2006.01]
	G03F 5/06	. .  durch Wechsel der Blendenwirkung [1, 2006.01]
	G03F 5/08	. .  durch Linienraster [1, 2006.01]
	G03F 5/10	. .  durch Kreuzlinienraster [1, 2006.01]
	G03F 5/12	. .  durch andere, z.B. Kornraster [1, 2006.01]
	G03F 5/14	.  durch Kontaktverfahren [1, 2006.01]
	G03F 5/16	. .  durch graue Halbtonraster [1, 2006.01]
	G03F 5/18	. .  durch Farb-Halbtonraster [1, 2006.01]
	G03F 5/20	.  durch Raster für Tiefdruck [1, 2006.01]
	G03F 5/22	.  durch Kombination verschiedener Raster; Beseitigung von Moire. [1, 2006.01]
	G03F 5/24	.  durch mehrfache Belichtung, z.B. Kombination von Strichraster und Linienraster [1, 2006.01]
	G03F 7/00	Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür (Fotolackstrukturen für spezielle Herstellungsverfahren siehe die entsprechenden Stellen z.B. B44C , H01L , z.B. H01L 21/00 , H05K) [1, 3, 5, 2006.01]
	G03F 7/004	.  Lichtempfindliche Materialien (G03F 7/12 , G03F 7/14 haben Vorrang) [5, 2006.01]
	G03F 7/008	. .  Azide (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01]
	G03F 7/012	. . .  Makromolekulare Azide; makromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5, 2006.01]
	G03F 7/016	. .  Diazoniumsalze oder Diazoniumverbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01]
	G03F 7/021	. . .  Makromolekulare Diazoniumverbindungen; makromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5, 2006.01]
	G03F 7/022	. .  Chinondiazide (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01]
	G03F 7/023	. . .  Makromolekulare Chinondiazide; makromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5, 2006.01]
	G03F 7/025	. .  Nicht-makromolekulare fotopolymerisierbare Verbindungen mit Kohlenstoff-Kohlenstoff-Dreifachbindung, z.B. Acetylenverbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01]
	G03F 7/027	. .  Nicht-makromolekulare fotopolymerisierbare Verbindungen mit Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung, z.B. Ethylenverbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01]
	G03F 7/028	. . .  mit Zusätzen zum Erhöhen der Lichtempfindlichkeit, z.B. Fotoinitiatoren [5, 2006.01]
	G03F 7/029	. . . .  Anorganische Verbindungen; Oniumverbindungen; organische Verbindungen mit anderen Heteroatomen als Sauerstoff, Stickstoff oder Schwefel [5, 2006.01]
	G03F 7/031	. . . .  Organische Verbindungen soweit nicht von G03F 7/029 umfasst [5, 2006.01]
	G03F 7/032	. . .  mit Bindemitteln [5, 2006.01]
	G03F 7/033	. . . .  mit Polymeren als Bindemittel, erhalten durch Reaktionen, an denen nur ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindungen beteiligt sind, z.B. Vinylpolymere [5, 2006.01]
	G03F 7/035	. . . .  mit Polyurethanen als Bindemittel [5, 2006.01]
	G03F 7/037	. . . .  mit Polyamiden oder Polyimiden als Bindemittel [5, 2006.01]
	G03F 7/038	. .  makromolekulare Verbindungen, die unlöslich oder unterschiedlich benetzbar gemacht werden (G03F 7/075 hat Vorrang; makromolekulare Azide G03F 7/012; makromolekulare Diazoniumverbindungen G03F 7/021) [5, 2006.01]
	G03F 7/039	. .  Makromolekulare fotodepolymerisierbare Verbindungen, z.B. positiv arbeitende elektronenempfindliche Fotolacke [Resists] (G03F 7/075 hat Vorrang; makromolekulare Chinondiazide G03F 7/023) [5, 2006.01]
	G03F 7/04	. .  Chromate (G03F 7/075 hat Vorrang) [1, 5, 2006.01]
	G03F 7/06	. .  Silbersalze (G03F 7/075 hat Vorrang) [1, 5, 2006.01]
	G03F 7/07	. . .  für Diffusionsübertragung [5, 2006.01]
	G03F 7/075	. .  Siliciumhaltige Verbindungen [5, 2006.01]
	G03F 7/085	. .  Lichtempfindliche Zusammensetzungen, gekennzeichnet durch haftungsverbessernde nicht-makromolekulare Zusätze (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01]
	G03F 7/09	. .  gekennzeichnet durch Einzelheiten des Aufbaus, z.B. Schichtträger, Hilfsschichten (Schichtträger für Druckformen allgemein B41N) [5, 2006.01]
	G03F 7/095	. . .  mit mehr als einer lichtempfindlichen Schicht (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01]
	G03F 7/105	. . .  mit Substanzen, z.B. Indikatoren, zum Sichtbarmachen der Strukturen [5, 2006.01]
	G03F 7/11	. . .  mit Deckschichten oder Zwischenschichten, z.B. Trennschichten [5, 2006.01]
	G03F 7/115	. . .  mit Schichtträgern oder Schichten zum Erhalt eines Rastereffektes oder zum Verbessern des Kontaktes beim Kontaktkopieren in einem Vakuumrahmen [5, 2006.01]
	G03F 7/12	.  Herstellen von Siebdruckformen oder ähnlichen Druckformen, z.B. Schablonen [1, 2006.01]
	G03F 7/14	.  Herstellen von Lichtdruckformen [1, 2006.01]
	G03F 7/16	.  Beschichtungsverfahren; Vorrichtungen dafür (Aufbringen von Beschichtungen auf Trägermaterialien allgemein B05; Aufbringen lichtempfindlicher Zusammensetzungen auf den Schichtträger für fotografische Zwecke G03C 1/74) [1, 2006.01]
	G03F 7/18	. .  Beschichten gekrümmter Oberflächen [1, 2006.01]
	G03F 7/20	.  Belichten; Vorrichtungen dafür (fotografische Kopiergeräte G03B 27/00) [1, 4, 2006.01]
	G03F 7/207	. .  Vorrichtungen zum Scharfeinstellen, z.B. selbsttätig (Kombinationen von Positionieren und Scharfeinstellen G03F 9/02; Systeme zum automatischen Erzeugen von Scharfeinstellungssignalen allgemein G02B 7/28; Vorrichtungen zum selbsttätigen Scharfeinstellen von Projektions-Kopier- Geräten G03B 27/34) [4, 2006.01]
	G03F 7/213	. .  gleichzeitiges Belichten von verschiedenen Stellen derselben Oberfläche mit demselben Lichtmuster (G03F 7/207 hat Vorrang) [4, 2006.01]
	G03F 7/22	. .  aufeinanderfolgendes Belichten von verschiedenen Stellen derselben Oberfläche mit demselben Lichtmuster (G03F 7/207 hat Vorrang) [1, 4, 2006.01]
	G03F 7/23	. . .  selbsttätige Vorrichtungen dafür [4, 2006.01]
	G03F 7/24	. .  Gekrümmte Oberflächen [1, 2006.01]
	G03F 7/26	.  Verarbeitung von lichtempfindlichen Materialien; Vorrichtungen dafür (G03F 7/12-G03F 7/24 haben Vorrang) [3, 5, 2006.01]
	G03F 7/28	. .  zur Herstellung von Pulverbildern (G03F 3/10 hat Vorrang) [5, 2006.01]
	G03F 7/30	. .  Bildmäßiges Entfernen mit Hilfe von Flüssigkeiten [5, 2006.01]
	G03F 7/32	. . .  Flüssigkeitszusammensetzungen dafür, z.B. Entwickler [5, 2006.01]
	G03F 7/34	. .  Bildmäßiges Entfernen durch selektive Übertragung, z.B. Abziehverfahren [5, 2006.01]
	G03F 7/36	. .  Bildmäßiges Entfernen, soweit nicht von den Gruppen G03F 7/30-G03F 7/34 umfasst, z.B. mittels eines Gasstromes, Plasmas [5, 2006.01]
	G03F 7/38	. .  Vorbehandlung vor dem bildmäßigen Entfernen, z.B. Vorbacken [5, 2006.01]
	G03F 7/40	. .  Nachbehandlung nach dem bildmäßigen Entfernen, z.B. Backen [5, 2006.01]
	G03F 7/42	. .  Abziehen oder Agenzien dafür [5, 2006.01]
	G03F 9/00	Registergerechtes oder sonstiges Positionieren von Kopiervorlagen, Masken, Rastern, fotografischen Folien oder strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. selbsttätig (G03F 7/22 hat Vorrang; Herstellen von Kopiervorlagen G03F 1/00; bei fotografischen Kopiergeräten zur Herstellung von Kopien G03B 27/00) [1, 4, 2006.01]
	G03F 9/02	.  kombiniert mit Mitteln zum automatischen Scharfeinstellen (automatisches Scharfeinstellen allgemein G02B 7/09; Systeme zum automatischen Erzeugen von Scharfeinstellsignalen G02B 7/28) [4, 2006.01]