| G | Sektion G — Physik |
| G03 | Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie [4] |
| G03F | Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür (Lichtsetzmaschinen B41B; lichtempfindliche Materialien oder fotografische Verfahren G03C; Elektrografie, lichtempfindliche Schichten oder Verfahren dafür G03G) |
| G03F 1/00 | Kopiervorlagen für die fotomechanische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Masken, Fotomasken oder Zielmarken; zugehörige Maskenrohlinge oder Pellicles; besonders hierfür ausgebildete Behälter; Herstellung derselben [1, 3, 2006.01, 2012.01] |
| G03F 1/20 | . | Masken oder Maskenrohlinge zur Abbildung mittels Strahlung geladener Teilchen, z.B. mittels Elektronenstrahlung; Herstellung derselben [2012.01] |
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| G03F 1/22 | . | Masken oder Maskenrohlinge zur Abbildung mittels Strahlung von 100 nm oder kürzerer Wellenlänge, z.B. Röntgen-Masken, EUV-Masken; Herstellung derselben [2012.01] |
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| G03F 1/24 | . . | Reflexionsmasken; Herstellung derselben [2012.01] |
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| G03F 1/26 | . | Phasenverschiebungsmasken (PSM); PSM-Rohlinge; Herstellung derselben [2012.01] |
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| G03F 1/28 | . . | mit drei oder mehr unterschiedlichen Phasen auf derselben PSM; Herstellung derselben [2012.01] |
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| G03F 1/29 | . . | Rim-PSM oder Outrigger-PSM; Herstellung derselben [2012.01] |
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| G03F 1/30 | . . | Alternierende PSM, z.B. Levenson-Shibuya-PSM; Herstellung derselben [2012.01] |
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| G03F 1/32 | . . | Abschwächende PSM (attenuating PSM, att PSM), z.B. PSM mit einem halbdurchlässigen Phasenverschiebungsbereich, Halbton-PSM; Herstellung derselben [2012.01] |
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| G03F 1/34 | . . | Phasenkanten-PSM, z.B. chromlose PSM; Herstellung derselben [2012.01] |
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| G03F 1/36 | . | Masken mit Strukturen zur Proximity Correction; Herstellung derselben, z.B. Entwurfsprozesse (Optical Proximity Correction [OPC]) [2012.01] |
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| G03F 1/38 | . | Masken mit Hilfsstrukturen, z.B. speziellen Beschichtungen oder Ausrichtungsmarken oder Prüfmarken; Herstellung derselben [2012.01] |
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| G03F 1/40 | . . | Besonderheiten, die auf die elektrostatische Entladung [ESD] bezogen sind, z.B. antistatische Beschichtungen oder ein elektrisch leitfähiger Metallmantel, der das Äußere des Maskensubstrates umschließt [2012.01] |
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| G03F 1/42 | . . | Strukturen für Ausrichtung, Registrierung oder Identifizierung der Maske, z.B. Ausrichtungsmarken auf den Maskensubstraten [2012.01] |
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| G03F 1/44 | . . | Prüfstrukturen oder Messstrukturen, z.B. Gitterstrukturen, Strukturen zur Fokusüberwachung, Sägezahnskalen oder Kerbskalen [2012.01] |
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| G03F 1/46 | . . | Antireflexbeschichtungen [2012.01] |
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| G03F 1/48 | . . | Schutzbeschichtungen [2012.01] |
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| G03F 1/50 | . | Maskenrohlinge, die nicht durch die Gruppen G03F 1/20-G03F 1/26 abgedeckt werden; Herstellung derselben [2012.01] |
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| G03F 1/52 | |
| G03F 1/54 | . | Absorber, z.B. opakes Material [2012.01] |
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| G03F 1/56 | . . | Organische Absorber, z.B. Fotolack [2012.01] |
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| G03F 1/58 | . . | mit zwei oder mehr verschiedenen Absorberschichten, z.B. Mehrlagenabsorber [2012.01] |
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| G03F 1/60 | |
| G03F 1/62 | . | Pellikel oder Pellikelanordnungen, z.B. Anordnung eines Pellikels auf einem Stützrahmen; Herstellung derselben [2012.01] |
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| G03F 1/64 | . . | charakterisiert durch die Rahmen, z.B. deren Struktur oder Material [2012.01] |
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| G03F 1/66 | . | Behälter, besonders ausgebildet für Masken, Maskenrohlinge oder Pellikel; Herstellung derselben [2012.01] |
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| G03F 1/68 | . | Herstellungsprozesse, die nicht durch die Gruppen G03F 1/20-G03F 1/50 abgedeckt sind [2012.01] |
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| G03F 1/70 | . . | Anpassung des grundlegenden Entwurfs oder des Aufbaus der Masken an die Anforderungen des lithografischen Prozesses, z.B. Zweischrittkorrektur von Maskenmustern für Abbildungsverfahren [2012.01] |
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| G03F 1/72 | . . | Reparatur oder Korrektur von Maskenfehlern [2012.01] |
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| G03F 1/74 | . . . | mittels Strahlung geladener Teilchen, z.B. fokussierter Ionenstrahl [2012.01] |
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| G03F 1/76 | . . | Erstellen von Mustern auf Masken durch Abbildungsverfahren [2012.01] |
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| G03F 1/78 | . . . | mittels Strahlung geladener Teilchen, z.B. Elektronenstrahlung [2012.01] |
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| G03F 1/80 | |
| G03F 1/82 | . . | Hilfsprozesse, z.B. Reinigen [2012.01] |
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| G03F 1/84 | . . . | Überprüfen [2012.01] |
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| G03F 1/86 | . . . . | mittels Strahlung geladener Teilchen [2012.01] |
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| G03F 1/88 | . | hergestellt mittels fotografischer Arbeitsgänge, um Kopiervorlagen zu bilden, die ein Relief simulieren [2012.01] |
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| G03F 1/90 | . | hergestellt durch Montageverfahren [2012.01] |
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| G03F 1/92 | . | hergestellt ausgehend von Druckflächen [2012.01] |
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| G03F 3/00 | Farbtrennung; Berichtigung des Farbwertes (fotografische Kopierapparate allgemein G03B) [1, 2006.01] |
| G03F 3/02 | . | durch Retuschieren [1, 2006.01] |
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| G03F 3/04 | . | durch fotografische Verfahren [1, 2006.01] |
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| G03F 3/06 | . . | durch Maskieren [1, 2006.01] |
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| G03F 3/08 | . | durch fotoelektrische Mittel [1, 2006.01] |
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| G03F 3/10 | . | Prüfen des Farbwertes oder Tonwertes der Auszugsnegative oder Auszugspositive [1, 2006.01] |
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| G03F 5/00 | Rasterverfahren; Raster dafür [1, 2006.01] |
| G03F 5/02 | . | durch Projektion (Kameras G03B) [1, 2006.01] |
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| G03F 5/04 | . . | durch Wechsel der Rasterwirkung [1, 2006.01] |
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| G03F 5/06 | . . | durch Wechsel der Blendenwirkung [1, 2006.01] |
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| G03F 5/08 | . . | durch Linienraster [1, 2006.01] |
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| G03F 5/10 | . . | durch Kreuzlinienraster [1, 2006.01] |
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| G03F 5/12 | . . | durch andere, z.B. Kornraster [1, 2006.01] |
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| G03F 5/14 | . | durch Kontaktverfahren [1, 2006.01] |
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| G03F 5/16 | . . | durch graue Halbtonraster [1, 2006.01] |
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| G03F 5/18 | . . | durch Farb-Halbtonraster [1, 2006.01] |
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| G03F 5/20 | . | durch Raster für Tiefdruck [1, 2006.01] |
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| G03F 5/22 | . | durch Kombination verschiedener Raster; Beseitigung von Moire. [1, 2006.01] |
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| G03F 5/24 | . | durch mehrfache Belichtung, z.B. Kombination von Strichraster und Linienraster [1, 2006.01] |
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| G03F 7/00 | Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür (Fotolackstrukturen für spezielle Herstellungsverfahren siehe die entsprechenden Stellen z.B. B44C , H01L , z.B. H01L 21/00 , H05K) [1, 3, 5, 2006.01] |
| G03F 7/004 | |
| G03F 7/008 | |
| G03F 7/012 | . . . | Makromolekulare Azide; makromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5, 2006.01] |
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| G03F 7/016 | . . | Diazoniumsalze oder Diazoniumverbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01] |
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| G03F 7/021 | . . . | Makromolekulare Diazoniumverbindungen; makromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5, 2006.01] |
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| G03F 7/022 | . . | Chinondiazide (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01] |
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| G03F 7/023 | . . . | Makromolekulare Chinondiazide; makromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5, 2006.01] |
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| G03F 7/025 | . . | Nicht-makromolekulare fotopolymerisierbare Verbindungen mit Kohlenstoff-Kohlenstoff-Dreifachbindung, z.B. Acetylenverbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01] |
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| G03F 7/027 | . . | Nicht-makromolekulare fotopolymerisierbare Verbindungen mit Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung, z.B. Ethylenverbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01] |
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| G03F 7/028 | . . . | mit Zusätzen zum Erhöhen der Lichtempfindlichkeit, z.B. Fotoinitiatoren [5, 2006.01] |
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| G03F 7/029 | . . . . | Anorganische Verbindungen; Oniumverbindungen; organische Verbindungen mit anderen Heteroatomen als Sauerstoff, Stickstoff oder Schwefel [5, 2006.01] |
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| G03F 7/031 | . . . . | Organische Verbindungen soweit nicht von G03F 7/029 umfasst [5, 2006.01] |
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| G03F 7/032 | . . . | mit Bindemitteln [5, 2006.01] |
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| G03F 7/033 | . . . . | mit Polymeren als Bindemittel, erhalten durch Reaktionen, an denen nur ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindungen beteiligt sind, z.B. Vinylpolymere [5, 2006.01] |
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| G03F 7/035 | . . . . | mit Polyurethanen als Bindemittel [5, 2006.01] |
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| G03F 7/037 | . . . . | mit Polyamiden oder Polyimiden als Bindemittel [5, 2006.01] |
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| G03F 7/038 | . . | makromolekulare Verbindungen, die unlöslich oder unterschiedlich benetzbar gemacht werden (G03F 7/075 hat Vorrang; makromolekulare Azide G03F 7/012; makromolekulare Diazoniumverbindungen G03F 7/021) [5, 2006.01] |
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| G03F 7/039 | . . | Makromolekulare fotodepolymerisierbare Verbindungen, z.B. positiv arbeitende elektronenempfindliche Fotolacke [Resists] (G03F 7/075 hat Vorrang; makromolekulare Chinondiazide G03F 7/023) [5, 2006.01] |
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| G03F 7/04 | . . | Chromate (G03F 7/075 hat Vorrang) [1, 5, 2006.01] |
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| G03F 7/06 | . . | Silbersalze (G03F 7/075 hat Vorrang) [1, 5, 2006.01] |
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| G03F 7/07 | . . . | für Diffusionsübertragung [5, 2006.01] |
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| G03F 7/075 | . . | Siliciumhaltige Verbindungen [5, 2006.01] |
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| G03F 7/085 | . . | Lichtempfindliche Zusammensetzungen, gekennzeichnet durch haftungsverbessernde nicht-makromolekulare Zusätze (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01] |
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| G03F 7/09 | . . | gekennzeichnet durch Einzelheiten des Aufbaus, z.B. Schichtträger, Hilfsschichten (Schichtträger für Druckformen allgemein B41N) [5, 2006.01] |
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| G03F 7/095 | . . . | mit mehr als einer lichtempfindlichen Schicht (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01] |
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| G03F 7/105 | . . . | mit Substanzen, z.B. Indikatoren, zum Sichtbarmachen der Strukturen [5, 2006.01] |
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| G03F 7/11 | . . . | mit Deckschichten oder Zwischenschichten, z.B. Trennschichten [5, 2006.01] |
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| G03F 7/115 | . . . | mit Schichtträgern oder Schichten zum Erhalt eines Rastereffektes oder zum Verbessern des Kontaktes beim Kontaktkopieren in einem Vakuumrahmen [5, 2006.01] |
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| G03F 7/12 | . | Herstellen von Siebdruckformen oder ähnlichen Druckformen, z.B. Schablonen [1, 2006.01] |
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| G03F 7/14 | . | Herstellen von Lichtdruckformen [1, 2006.01] |
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| G03F 7/16 | . | Beschichtungsverfahren; Vorrichtungen dafür (Aufbringen von Beschichtungen auf Trägermaterialien allgemein B05; Aufbringen lichtempfindlicher Zusammensetzungen auf den Schichtträger für fotografische Zwecke G03C 1/74) [1, 2006.01] |
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| G03F 7/18 | . . | Beschichten gekrümmter Oberflächen [1, 2006.01] |
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| G03F 7/20 | . | Belichten; Vorrichtungen dafür (fotografische Kopiergeräte G03B 27/00) [1, 4, 2006.01] |
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| G03F 7/207 | . . | Vorrichtungen zum Scharfeinstellen, z.B. selbsttätig (Kombinationen von Positionieren und Scharfeinstellen G03F 9/02; Systeme zum automatischen Erzeugen von Scharfeinstellungssignalen allgemein G02B 7/28; Vorrichtungen zum selbsttätigen Scharfeinstellen von Projektions-Kopier- Geräten G03B 27/34) [4, 2006.01] |
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| G03F 7/213 | . . | gleichzeitiges Belichten von verschiedenen Stellen derselben Oberfläche mit demselben Lichtmuster (G03F 7/207 hat Vorrang) [4, 2006.01] |
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| G03F 7/22 | . . | aufeinanderfolgendes Belichten von verschiedenen Stellen derselben Oberfläche mit demselben Lichtmuster (G03F 7/207 hat Vorrang) [1, 4, 2006.01] |
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| G03F 7/23 | . . . | selbsttätige Vorrichtungen dafür [4, 2006.01] |
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| G03F 7/24 | . . | Gekrümmte Oberflächen [1, 2006.01] |
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| G03F 7/26 | . | Verarbeitung von lichtempfindlichen Materialien; Vorrichtungen dafür (G03F 7/12-G03F 7/24 haben Vorrang) [3, 5, 2006.01] |
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| G03F 7/28 | . . | zur Herstellung von Pulverbildern (G03F 3/10 hat Vorrang) [5, 2006.01] |
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| G03F 7/30 | . . | Bildmäßiges Entfernen mit Hilfe von Flüssigkeiten [5, 2006.01] |
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| G03F 7/32 | . . . | Flüssigkeitszusammensetzungen dafür, z.B. Entwickler [5, 2006.01] |
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| G03F 7/34 | . . | Bildmäßiges Entfernen durch selektive Übertragung, z.B. Abziehverfahren [5, 2006.01] |
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| G03F 7/36 | . . | Bildmäßiges Entfernen, soweit nicht von den Gruppen G03F 7/30-G03F 7/34 umfasst, z.B. mittels eines Gasstromes, Plasmas [5, 2006.01] |
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| G03F 7/38 | . . | Vorbehandlung vor dem bildmäßigen Entfernen, z.B. Vorbacken [5, 2006.01] |
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| G03F 7/40 | . . | Nachbehandlung nach dem bildmäßigen Entfernen, z.B. Backen [5, 2006.01] |
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| G03F 7/42 | . . | Abziehen oder Agenzien dafür [5, 2006.01] |
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| G03F 9/00 | Registergerechtes oder sonstiges Positionieren von Kopiervorlagen, Masken, Rastern, fotografischen Folien oder strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. selbsttätig (G03F 7/22 hat Vorrang; Herstellen von Kopiervorlagen G03F 1/00; bei fotografischen Kopiergeräten zur Herstellung von Kopien G03B 27/00) [1, 4, 2006.01] |
| G03F 9/02 | . | kombiniert mit Mitteln zum automatischen Scharfeinstellen (automatisches Scharfeinstellen allgemein G02B 7/09; Systeme zum automatischen Erzeugen von Scharfeinstellsignalen G02B 7/28) [4, 2006.01] |
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