G	Sektion G — Physik	PHYSICS
	G03	Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie [4]	PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY [4]
	G03F	Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür (Lichtsetzmaschinen B41B; lichtempfindliche Materialien oder fotografische Verfahren G03C; Elektrografie, lichtempfindliche Schichten oder Verfahren dafür G03G)	PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR (phototypographic composing devices B41B; photosensitive materials or processes for photographic purposes G03C; electrography, sensitive layers or processes G03G)
	G03F 1/00	Kopiervorlagen für die fotomechanische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Masken, Fotomasken oder Zielmarken; zugehörige Maskenrohlinge oder Pellicles; besonders hierfür ausgebildete Behälter; Herstellung derselben [1, 3, 2006.01, 2012.01]	Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g. masks, photo-masks or reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof [1, 3, 2006.01, 2012.01]
	G03F 1/20	.  Masken oder Maskenrohlinge zur Abbildung mittels Strahlung geladener Teilchen, z.B. mittels Elektronenstrahlung; Herstellung derselben [2012.01]	.  Masks or mask blanks for imaging by charged particle beam [CPB] radiation, e.g. by electron beam; Preparation thereof [2012.01]
	G03F 1/22	.  Masken oder Maskenrohlinge zur Abbildung mittels Strahlung von 100 nm oder kürzerer Wellenlänge, z.B. Röntgen-Masken, EUV-Masken; Herstellung derselben [2012.01]	.  Masks or mask blanks for imaging by radiation of 100 nm or shorter wavelength, e.g. X-ray masks, extreme ultraviolet [EUV] masks; Preparation thereof [2012.01]
	G03F 1/24	. .  Reflexionsmasken; Herstellung derselben [2012.01]	. .  Reflection masks; Preparation thereof [2012.01]
	G03F 1/26	.  Phasenverschiebungsmasken (PSM); PSM-Rohlinge; Herstellung derselben [2012.01]	.  Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof [2012.01]
	G03F 1/28	. .  mit drei oder mehr unterschiedlichen Phasen auf derselben PSM; Herstellung derselben [2012.01]	. .  with three or more diverse phases on the same PSM; Preparation thereof [2012.01]
	G03F 1/29	. .  Rim-PSM oder Outrigger-PSM; Herstellung derselben [2012.01]	. .  Rim PSM or outrigger PSM; Preparation thereof [2012.01]
	G03F 1/30	. .  Alternierende PSM, z.B. Levenson-Shibuya-PSM; Herstellung derselben [2012.01]	. .  Alternating PSM, e.g. Levenson-Shibuya PSM; Preparation thereof [2012.01]
	G03F 1/32	. .  Abschwächende PSM (attenuating PSM, att PSM), z.B. PSM mit einem halbdurchlässigen Phasenverschiebungsbereich, Halbton-PSM; Herstellung derselben [2012.01]	. .  Attenuating PSM [att-PSM], e.g. halftone PSM or PSM having semi-transparent phase shift portion; Preparation thereof [2012.01]
	G03F 1/34	. .  Phasenkanten-PSM, z.B. chromlose PSM; Herstellung derselben [2012.01]	. .  Phase-edge PSM, e.g. chromeless PSM; Preparation thereof [2012.01]
	G03F 1/36	.  Masken mit Strukturen zur Proximity Correction; Herstellung derselben, z.B. Entwurfsprozesse (Optical Proximity Correction [OPC]) [2012.01]	.  Masks having proximity correction features; Preparation thereof, e.g. optical proximity correction [OPC] design processes [2012.01]
	G03F 1/38	.  Masken mit Hilfsstrukturen, z.B. speziellen Beschichtungen oder Ausrichtungsmarken oder Prüfmarken; Herstellung derselben [2012.01]	.  Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof [2012.01]
	G03F 1/40	. .  Besonderheiten, die auf die elektrostatische Entladung [ESD] bezogen sind, z.B. antistatische Beschichtungen oder ein elektrisch leitfähiger Metallmantel, der das Äußere des Maskensubstrates umschließt [2012.01]	. .  Electrostatic discharge [ESD] related features, e.g. antistatic coatings or a conductive metal layer around the periphery of the mask substrate [2012.01]
	G03F 1/42	. .  Strukturen für Ausrichtung, Registrierung oder Identifizierung der Maske, z.B. Ausrichtungsmarken auf den Maskensubstraten [2012.01]	. .  Alignment or registration features, e.g. alignment marks on the mask substrates [2012.01]
	G03F 1/44	. .  Prüfstrukturen oder Messstrukturen, z.B. Gitterstrukturen, Strukturen zur Fokusüberwachung, Sägezahnskalen oder Kerbskalen [2012.01]	. .  Testing or measuring features, e.g. grid patterns, focus monitors, sawtooth scales or notched scales  [2012.01]
	G03F 1/46	. .  Antireflexbeschichtungen [2012.01]	. .  Antireflective coatings [2012.01]
	G03F 1/48	. .  Schutzbeschichtungen [2012.01]	. .  Protective coatings [2012.01]
	G03F 1/50	.  Maskenrohlinge, die nicht durch die Gruppen G03F 1/20-G03F 1/26 abgedeckt werden; Herstellung derselben [2012.01]	.  Mask blanks not covered by groups G03F 1/20-G03F 1/26; Preparation thereof [2012.01]
	G03F 1/52	.  Reflektoren [2012.01]	.  Reflectors [2012.01]
	G03F 1/54	.  Absorber, z.B. opakes Material [2012.01]	.  Absorbers, e.g. opaque materials [2012.01]
	G03F 1/56	. .  Organische Absorber, z.B. Fotolack [2012.01]	. .  Organic absorbers, e.g. photo-resists [2012.01]
	G03F 1/58	. .  mit zwei oder mehr verschiedenen Absorberschichten, z.B. Mehrlagenabsorber [2012.01]	. .  having two or more different absorber layers, e.g. stacked multilayer absorbers [2012.01]
	G03F 1/60	.  Substrate [2012.01]	.  Substrates [2012.01]
	G03F 1/62	.  Pellikel oder Pellikelanordnungen, z.B. Anordnung eines Pellikels auf einem Stützrahmen; Herstellung derselben [2012.01]	.  Pellicles or pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof [2012.01]
	G03F 1/64	. .  charakterisiert durch die Rahmen, z.B. deren Struktur oder Material [2012.01]	. .  characterised by the frames, e.g. structure or material thereof [2012.01]
	G03F 1/66	.  Behälter, besonders ausgebildet für Masken, Maskenrohlinge oder Pellikel; Herstellung derselben [2012.01]	.  Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof [2012.01]
	G03F 1/68	.  Herstellungsprozesse, die nicht durch die Gruppen G03F 1/20-G03F 1/50 abgedeckt sind [2012.01]	.  Preparation processes not covered by groups G03F 1/20-G03F 1/50 [2012.01]
	G03F 1/70	. .  Anpassung des grundlegenden Entwurfs oder des Aufbaus der Masken an die Anforderungen des lithografischen Prozesses, z.B. Zweischrittkorrektur von Maskenmustern für Abbildungsverfahren [2012.01]	. .  Adapting basic layout or design of masks to lithographic process requirements, e.g. second iteration correction of mask patterns for imaging [2012.01]
	G03F 1/72	. .  Reparatur oder Korrektur von Maskenfehlern [2012.01]	. .  Repair or correction of mask defects [2012.01]
	G03F 1/74	. . .  mittels Strahlung geladener Teilchen, z.B. fokussierter Ionenstrahl [2012.01]	. . .  by charged particle beam [CPB], e.g. focused ion beam [2012.01]
	G03F 1/76	. .  Erstellen von Mustern auf Masken durch Abbildungsverfahren [2012.01]	. .  Patterning of masks by imaging [2012.01]
	G03F 1/78	. . .  mittels Strahlung geladener Teilchen, z.B. Elektronenstrahlung [2012.01]	. . .  by charged particle beam [CPB], e.g. electron beam [2012.01]
	G03F 1/80	. .  Ätzen [2012.01]	. .  Etching [2012.01]
	G03F 1/82	. .  Hilfsprozesse, z.B. Reinigen [2012.01]	. .  Auxiliary processes, e.g. cleaning [2012.01]
	G03F 1/84	. . .  Überprüfen [2012.01]	. . .  Inspecting [2012.01]
	G03F 1/86	. . . .  mittels Strahlung geladener Teilchen [2012.01]	. . . .  by charged particle beam [CPB] [2012.01]
	G03F 1/88	.  hergestellt mittels fotografischer Arbeitsgänge, um Kopiervorlagen zu bilden, die ein Relief simulieren [2012.01]	.  prepared by photographic processes for producing originals simulating relief [2012.01]
	G03F 1/90	.  hergestellt durch Montageverfahren [2012.01]	.  prepared by montage processes [2012.01]
	G03F 1/92	.  hergestellt ausgehend von Druckflächen [2012.01]	.  prepared from printing surfaces [2012.01]
	G03F 3/00	Farbtrennung; Berichtigung des Farbwertes (fotografische Kopierapparate allgemein G03B) [1, 2006.01]	Colour separation; Correction of tonal value (photographic copying apparatus in general G03B) [1, 2006.01]
	G03F 3/02	.  durch Retuschieren [1, 2006.01]	.  by retouching [1, 2006.01]
	G03F 3/04	.  durch fotografische Verfahren [1, 2006.01]	.  by photographic means [1, 2006.01]
	G03F 3/06	. .  durch Maskieren [1, 2006.01]	. .  by masking [1, 2006.01]
	G03F 3/08	.  durch fotoelektrische Mittel [1, 2006.01]	.  by photoelectric means [1, 2006.01]
	G03F 3/10	.  Prüfen des Farbwertes oder Tonwertes der Auszugsnegative oder Auszugspositive [1, 2006.01]	.  Checking the colour or tonal value of separation negatives or positives [1, 2006.01]
	G03F 5/00	Rasterverfahren; Raster dafür [1, 2006.01]	Screening processes; Screens therefor [1, 2006.01]
	G03F 5/02	.  durch Projektion (Kameras G03B) [1, 2006.01]	.  by projecting methods (cameras G03B) [1, 2006.01]
	G03F 5/04	. .  durch Wechsel der Rasterwirkung [1, 2006.01]	. .  changing the screen effect [1, 2006.01]
	G03F 5/06	. .  durch Wechsel der Blendenwirkung [1, 2006.01]	. .  changing the diaphragm effect [1, 2006.01]
	G03F 5/08	. .  durch Linienraster [1, 2006.01]	. .  using line screens [1, 2006.01]
	G03F 5/10	. .  durch Kreuzlinienraster [1, 2006.01]	. .  using cross-line screens [1, 2006.01]
	G03F 5/12	. .  durch andere, z.B. Kornraster [1, 2006.01]	. .  using other screens, e.g. granulated screen [1, 2006.01]
	G03F 5/14	.  durch Kontaktverfahren [1, 2006.01]	.  by contact methods [1, 2006.01]
	G03F 5/16	. .  durch graue Halbtonraster [1, 2006.01]	. .  using grey half-tone screens [1, 2006.01]
	G03F 5/18	. .  durch Farb-Halbtonraster [1, 2006.01]	. .  using colour half-tone screens [1, 2006.01]
	G03F 5/20	.  durch Raster für Tiefdruck [1, 2006.01]	.  using screens for gravure printing [1, 2006.01]
	G03F 5/22	.  durch Kombination verschiedener Raster; Beseitigung von Moire. [1, 2006.01]	.  combining several screens; Elimination of moire [1, 2006.01]
	G03F 5/24	.  durch mehrfache Belichtung, z.B. Kombination von Strichraster und Linienraster [1, 2006.01]	.  by multiple exposure, e.g. combined processes for line photo and screen [1, 2006.01]
	G03F 7/00	Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür (Fotolackstrukturen für spezielle Herstellungsverfahren siehe die entsprechenden Stellen z.B. B44C , H01L , z.B. H01L 21/00 , H05K) [1, 3, 5, 2006.01]	Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor (using photoresist structures for special production processes, see the relevant places, e.g. B44C, H01L, e.g. H01L 21/00, H05K) [1, 3, 5, 2006.01]
	G03F 7/004	.  Lichtempfindliche Materialien (G03F 7/12 , G03F 7/14 haben Vorrang) [5, 2006.01]	.  Photosensitive materials (G03F 7/12, G03F 7/14 take precedence) [5, 2006.01]
	G03F 7/008	. .  Azide (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01]	. .  Azides (G03F 7/075 takes precedence) [5, 2006.01]
	G03F 7/012	. . .  Makromolekulare Azide; makromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5, 2006.01]	. . .  Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders [5, 2006.01]
	G03F 7/016	. .  Diazoniumsalze oder Diazoniumverbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01]	. .  Diazonium salts or compounds (G03F 7/075 takes precedence) [5, 2006.01]
	G03F 7/021	. . .  Makromolekulare Diazoniumverbindungen; makromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5, 2006.01]	. . .  Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders [5, 2006.01]
	G03F 7/022	. .  Chinondiazide (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01]	. .  Quinonediazides (G03F 7/075 takes precedence) [5, 2006.01]
	G03F 7/023	. . .  Makromolekulare Chinondiazide; makromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5, 2006.01]	. . .  Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders [5, 2006.01]
	G03F 7/025	. .  Nicht-makromolekulare fotopolymerisierbare Verbindungen mit Kohlenstoff-Kohlenstoff-Dreifachbindung, z.B. Acetylenverbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01]	. .  Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon triple bonds, e.g. acetylenic compounds (G03F 7/075 takes precedence) [5, 2006.01]
	G03F 7/027	. .  Nicht-makromolekulare fotopolymerisierbare Verbindungen mit Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung, z.B. Ethylenverbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01]	. .  Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds (G03F 7/075 takes precedence) [5, 2006.01]
	G03F 7/028	. . .  mit Zusätzen zum Erhöhen der Lichtempfindlichkeit, z.B. Fotoinitiatoren [5, 2006.01]	. . .  with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators [5, 2006.01]
	G03F 7/029	. . . .  Anorganische Verbindungen; Oniumverbindungen; organische Verbindungen mit anderen Heteroatomen als Sauerstoff, Stickstoff oder Schwefel [5, 2006.01]	. . . .  Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur [5, 2006.01]
	G03F 7/031	. . . .  Organische Verbindungen soweit nicht von G03F 7/029 umfasst [5, 2006.01]	. . . .  Organic compounds not covered by group G03F 7/029 [5, 2006.01]
	G03F 7/032	. . .  mit Bindemitteln [5, 2006.01]	. . .  with binders [5, 2006.01]
	G03F 7/033	. . . .  mit Polymeren als Bindemittel, erhalten durch Reaktionen, an denen nur ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindungen beteiligt sind, z.B. Vinylpolymere [5, 2006.01]	. . . .  the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers [5, 2006.01]
	G03F 7/035	. . . .  mit Polyurethanen als Bindemittel [5, 2006.01]	. . . .  the binders being polyurethanes [5, 2006.01]
	G03F 7/037	. . . .  mit Polyamiden oder Polyimiden als Bindemittel [5, 2006.01]	. . . .  the binders being polyamides or polyimides [5, 2006.01]
	G03F 7/038	. .  makromolekulare Verbindungen, die unlöslich oder unterschiedlich benetzbar gemacht werden (G03F 7/075 hat Vorrang; makromolekulare Azide G03F 7/012; makromolekulare Diazoniumverbindungen G03F 7/021) [5, 2006.01]	. .  Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable (G03F 7/075 takes precedence; macromolecular azides G03F 7/012; macromolecular diazonium compounds G03F 7/021) [5, 2006.01]
	G03F 7/039	. .  Makromolekulare fotodepolymerisierbare Verbindungen, z.B. positiv arbeitende elektronenempfindliche Fotolacke [Resists] (G03F 7/075 hat Vorrang; makromolekulare Chinondiazide G03F 7/023) [5, 2006.01]	. .  Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists (G03F 7/075 takes precedence; macromolecular quinonediazides G03F 7/023) [5, 2006.01]
	G03F 7/04	. .  Chromate (G03F 7/075 hat Vorrang) [1, 5, 2006.01]	. .  Chromates (G03F 7/075 takes precedence) [1, 5, 2006.01]
	G03F 7/06	. .  Silbersalze (G03F 7/075 hat Vorrang) [1, 5, 2006.01]	. .  Silver salts (G03F 7/075 takes precedence) [1, 5, 2006.01]
	G03F 7/07	. . .  für Diffusionsübertragung [5, 2006.01]	. . .  used for diffusion transfer [5, 2006.01]
	G03F 7/075	. .  Siliciumhaltige Verbindungen [5, 2006.01]	. .  Silicon-containing compounds [5, 2006.01]
	G03F 7/085	. .  Lichtempfindliche Zusammensetzungen, gekennzeichnet durch haftungsverbessernde nicht-makromolekulare Zusätze (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01]	. .  Photosensitive compositions characterised by adhesion-promoting non-macromolecular additives (G03F 7/075 takes precedence) [5, 2006.01]
	G03F 7/09	. .  gekennzeichnet durch Einzelheiten des Aufbaus, z.B. Schichtträger, Hilfsschichten (Schichtträger für Druckformen allgemein B41N) [5, 2006.01]	. .  characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers (supports for printing plates in general B41N) [5, 2006.01]
	G03F 7/095	. . .  mit mehr als einer lichtempfindlichen Schicht (G03F 7/075 hat Vorrang) [5, 2006.01]	. . .  having more than one photosensitive layer (G03F 7/075 takes precedence) [5, 2006.01]
	G03F 7/105	. . .  mit Substanzen, z.B. Indikatoren, zum Sichtbarmachen der Strukturen [5, 2006.01]	. . .  having substances, e.g. indicators, for forming visible images [5, 2006.01]
	G03F 7/11	. . .  mit Deckschichten oder Zwischenschichten, z.B. Trennschichten [5, 2006.01]	. . .  having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers [5, 2006.01]
	G03F 7/115	. . .  mit Schichtträgern oder Schichten zum Erhalt eines Rastereffektes oder zum Verbessern des Kontaktes beim Kontaktkopieren in einem Vakuumrahmen [5, 2006.01]	. . .  having supports or layers with means for obtaining a screen effect or for obtaining better contact in vacuum printing [5, 2006.01]
	G03F 7/12	.  Herstellen von Siebdruckformen oder ähnlichen Druckformen, z.B. Schablonen [1, 2006.01]	.  Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils [1, 2006.01]
	G03F 7/14	.  Herstellen von Lichtdruckformen [1, 2006.01]	.  Production of collotype printing forms [1, 2006.01]
	G03F 7/16	.  Beschichtungsverfahren; Vorrichtungen dafür (Aufbringen von Beschichtungen auf Trägermaterialien allgemein B05; Aufbringen lichtempfindlicher Zusammensetzungen auf den Schichtträger für fotografische Zwecke G03C 1/74) [1, 2006.01]	.  Coating processes; Apparatus therefor (applying coatings to base materials in general B05; applying photosensitive compositions to the base for photographic purposes G03C 1/74) [1, 2006.01]
	G03F 7/18	. .  Beschichten gekrümmter Oberflächen [1, 2006.01]	. .  Coating curved surfaces [1, 2006.01]
	G03F 7/20	.  Belichten; Vorrichtungen dafür (fotografische Kopiergeräte G03B 27/00) [1, 4, 2006.01]	.  Exposure; Apparatus therefor (photographic printing apparatus for making copies G03B 27/00) [1, 4, 2006.01]
	G03F 7/207	. .  Vorrichtungen zum Scharfeinstellen, z.B. selbsttätig (Kombinationen von Positionieren und Scharfeinstellen G03F 9/02; Systeme zum automatischen Erzeugen von Scharfeinstellungssignalen allgemein G02B 7/28; Vorrichtungen zum selbsttätigen Scharfeinstellen von Projektions-Kopier- Geräten G03B 27/34) [4, 2006.01]	. .  Means for focusing, e.g. automatically (combination of positioning and focusing G03F 9/02; systems for automatic generation of focusing signals in general G02B 7/28; means for automatic focusing of projection printing apparatus G03B 27/34) [4, 2006.01]
	G03F 7/213	. .  gleichzeitiges Belichten von verschiedenen Stellen derselben Oberfläche mit demselben Lichtmuster (G03F 7/207 hat Vorrang) [4, 2006.01]	. .  Exposing with the same light pattern different positions of the same surface at the same time (G03F 7/207 takes precedence) [4, 2006.01]
	G03F 7/22	. .  aufeinanderfolgendes Belichten von verschiedenen Stellen derselben Oberfläche mit demselben Lichtmuster (G03F 7/207 hat Vorrang) [1, 4, 2006.01]	. .  Exposing sequentially with the same light pattern different positions of the same surface (G03F 7/207 takes precedence) [1, 4, 2006.01]
	G03F 7/23	. . .  selbsttätige Vorrichtungen dafür [4, 2006.01]	. . .  Automatic means therefor [4, 2006.01]
	G03F 7/24	. .  Gekrümmte Oberflächen [1, 2006.01]	. .  Curved surfaces [1, 2006.01]
	G03F 7/26	.  Verarbeitung von lichtempfindlichen Materialien; Vorrichtungen dafür (G03F 7/12-G03F 7/24 haben Vorrang) [3, 5, 2006.01]	.  Processing photosensitive materials; Apparatus therefor (G03F 7/12-G03F 7/24 take precedence) [3, 5, 2006.01]
	G03F 7/28	. .  zur Herstellung von Pulverbildern (G03F 3/10 hat Vorrang) [5, 2006.01]	. .  for obtaining powder images (G03F 3/10 takes precedence) [5, 2006.01]
	G03F 7/30	. .  Bildmäßiges Entfernen mit Hilfe von Flüssigkeiten [5, 2006.01]	. .  Imagewise removal using liquid means [5, 2006.01]
	G03F 7/32	. . .  Flüssigkeitszusammensetzungen dafür, z.B. Entwickler [5, 2006.01]	. . .  Liquid compositions therefor, e.g. developers [5, 2006.01]
	G03F 7/34	. .  Bildmäßiges Entfernen durch selektive Übertragung, z.B. Abziehverfahren [5, 2006.01]	. .  Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away [5, 2006.01]
	G03F 7/36	. .  Bildmäßiges Entfernen, soweit nicht von den Gruppen G03F 7/30-G03F 7/34 umfasst, z.B. mittels eines Gasstromes, Plasmas [5, 2006.01]	. .  Imagewise removal not covered by groups G03F 7/30-G03F 7/34, e.g. using gas streams, using plasma [5, 2006.01]
	G03F 7/38	. .  Vorbehandlung vor dem bildmäßigen Entfernen, z.B. Vorbacken [5, 2006.01]	. .  Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking [5, 2006.01]
	G03F 7/40	. .  Nachbehandlung nach dem bildmäßigen Entfernen, z.B. Backen [5, 2006.01]	. .  Treatment after imagewise removal, e.g. baking [5, 2006.01]
	G03F 7/42	. .  Abziehen oder Agenzien dafür [5, 2006.01]	. .  Stripping or agents therefor [5, 2006.01]
	G03F 9/00	Registergerechtes oder sonstiges Positionieren von Kopiervorlagen, Masken, Rastern, fotografischen Folien oder strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. selbsttätig (G03F 7/22 hat Vorrang; Herstellen von Kopiervorlagen G03F 1/00; bei fotografischen Kopiergeräten zur Herstellung von Kopien G03B 27/00) [1, 4, 2006.01]	Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically (G03F 7/22 takes precedence; preparation of photographic masks G03F 1/00; within photographic printing apparatus for making copies G03B 27/00) [1, 4, 2006.01]
	G03F 9/02	.  kombiniert mit Mitteln zum automatischen Scharfeinstellen (automatisches Scharfeinstellen allgemein G02B 7/09; Systeme zum automatischen Erzeugen von Scharfeinstellsignalen G02B 7/28) [4, 2006.01]	.  combined with means for automatic focusing (automatic focusing in general G02B 7/09; systems for automatic generation of focusing signals G02B 7/28) [4, 2006.01]