 | G03F | Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür (Lichtsetzmaschinen B41B; lichtempfindliche Materialien oder fotografische Verfahren G03C; Elektrografie, lichtempfindliche Schichten oder Verfahren dafür G03G) | PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR (phototypographic composing devices B41B; photosensitive materials or processes for photographic purposes G03C; electrography, sensitive layers or processes G03G) |
 | G03F 5/00 | Rasterverfahren; Raster dafür [1, 2006.01] | Screening processes; Screens therefor [1, 2006.01] |