C	Sektion C — Chemie; Hüttenwesen	CHEMISTRY; METALLURGY
		Chemie	CHEMISTRY
	C01	Anorganische Chemie	INORGANIC CHEMISTRY
	C01B	Nichtmetallische Elemente; deren Verbindungen (Gärungsverfahren oder Verfahren unter Verwendung von Enzymen zur Herstellung von Elementen oder von anorganischen Verbindungen außer Kohlendioxid C12P 3/00; Herstellung nichtmetallischer Elemente oder anorganischer Verbindungen durch Elektrolyse C25B)	NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF (fermentation or enzyme-using processes for the preparation of elements or inorganic compounds except carbon dioxide C12P 3/00;  production of non-metallic elements or inorganic compounds by electrolysis or electrophoresis C25B)
	C01B 33/00	Silicium; dessen Verbindungen (C01B 21/00 , C01B 23/00 haben Vorrang; Persilicate C01B 15/14; Carbide C01B 32/956) [1, 3, 2006.01]	Silicon; Compounds thereof (C01B 21/00, C01B 23/00 take precedence;  persilicates C01B 15/14;  carbides C01B 32/956) [1, 3, 2006.01]
	C01B 33/02	.  Silicium (Herstellung von Einkristallen oder homogenem polykristallinem Material mit definierter Struktur C30B) [1, 5, 2006.01]	.  Silicon (forming single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure C30B) [1, 5, 2006.01]
	C01B 33/021	. .  Herstellung (chemisches Beschichten aus der Dampfphase C23C 16/00) [5, 2006.01]	. .  Preparation (chemical coating from the vapour phase C23C 16/00) [5, 2006.01]
	C01B 33/027	. . .  durch Zersetzung oder Reduktion von gasförmigen oder dampfförmigen Siliciumverbindungen außer Siliciumdioxid oder Material, das Siliciumdioxid enthält [5, 2006.01]	. . .  by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material [5, 2006.01]
	C01B 33/035	. . . .  durch Zersetzung oder Reduktion von gasförmigen oder dampfförmigen Siliciumverbindungen in Gegenwart erhitzter Filamente von Silicium, Kohlenstoff oder einem hochtemperaturbeständigen Metall, z.B. Tantal oder Wolfram, oder in Gegenwart von erhitzten Siliciumstäben, auf welche das geformte Silicium aufgebracht wird, wobei ein Siliciumstab erhalten wird, z.B. Siemens-Verfahren [5, 2006.01]	. . . .  by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds in the presence of heated filaments of silicon, carbon or a refractory metal, e.g. tantalum or tungsten, or in the presence of heated silicon rods on which the formed silicon is deposited, a silicon rod being obtained, e.g. Siemens process [5, 2006.01]