Gegenstand der Untergruppe
G03F 1/68,
wobei die Verfahren zur Herstellung von gemusterten und Strahlung absorbierenden Produkten das Mustern von Masken durch Abbildung umfassen.
Anmerkung: Typischerweise wird diese Abbildung zur Musterung der Maske erreicht durch selektives Belichten und Entwickeln einer fotosensitiven Schicht (z.B. einer Fotolackschicht auf einem Maskenrohling), um darin ein Muster zu definieren, das zur Bildung der resultierenden gemusterten Maske benutzt wird.