Gegenstand der Hauptgruppe
G03F 1/00,
wobei die Pellikel an sich oder die Pellikel in Kombination mit den Strahlung modifizierenden Produkten Schutz für eine gemusterte Maske bieten durch den Ausschluss von Fremdmaterial (z.B. feste Staubpartikel), das ansonsten die eigentliche Abbildung der gemusterten Maske verschlechtern würde (z.B. Pellikelanordnung mit einer Membran auf einem Stützrahmen).
Anmerkung: In dieser Untergruppe umfasst das Pellikel oft eine dünne transparente Schicht (wie eine transparente flexible Membran), die an einem starren Rahmen angebracht ist, um die dünne transparente Schicht in einem vorgegebenen Abstand von der gemusterten Maske zu halten, so dass Fremdmaterial auf der Außenseite des Pellikels gesammelt wird und nicht in Reichweite des Fokus während der Abbildung ist, um eine Verschlechterung des resultierenden abgebildeten Musters, das von der Maske erzeugt wird, zu verhindern. Alternativ kann das Pellikel eine harte selbsttragende Schicht mit einer spezifischen Dicke und Lichtdurchlässigkeit sein, die auf einer gemusterten Maske gebildet wird. In beiden Fällen schützt das Pellikel die Maske, an der das Pellikel angebracht ist, vor Staub auf dem Maskenmuster, der ansonsten während der Abbildung der Maske ohne Pellikel auftreten würde.