Gegenstand der Untergruppe
G03F 1/26,
wobei die Phasenverschiebungsmaske (PSM) mindestens zwei klare direkt benachbarte Regionen hat, die unterschiedliche Phasen erzeugen (gewöhnlich 180° Phasenunterschied), um eine Phasenkante zwischen diesen verschiedenen klaren Regionen in Bezug auf die ausgehende Strahlung zu erzeugen, wobei die Phasenkante ein zu reproduzierendes Muster darstellt (z.B. chromlose PSM usw.), und wobei das Herstellungsverfahren auf die Herstellung von solchen Phasenkanten-Phasenverschiebungsmasken gerichtet ist.
Anmerkung: In dieser Untergruppe kann eine solche Phasenkanten-Phasenverschiebungsmaske ohne jegliche lichtundurchlässige Region (wie eine chromlose PSM) ausgebildet sein. Alternativ ist erlaubt, dass die Phasenkanten-Phasenverschiebungsmaske eine lichtundurchlässige Region oder eine Absorberregion umfasst, wie eine Randzone einer Phasenkanten-Phasenverschiebungsmaske zur Vermeidung ungewollter Artefakte, die ansonsten in einer gemeinsamen Fotolackschicht durch Belichtung nach dem Step-and-Repeat-Prinzip in diesen Phasenkanten-Phasenverschiebungsmasken entstehen könnten. Jedoch muss eine solche Phasenkanten-Phasenverschiebungsmaske immer noch mindestens eine freie Phasenkante zwischen zwei direkt benachbarten klaren Regionen besitzen, die ausgehende Strahlung unterschiedlicher Phase (z.B. 0° und 180° usw.) erzeugt, wobei die Phasenkante, wie oben beschrieben, ein zu reproduzierendes Muster darstellt.