Gegenstand der Untergruppe
G03F 1/26,
wobei die Phasenverschiebungsmaske (PSM) klare Regionen mit alternierend angeordnet unterschiedlichen Phasen aufweist, die jeweils durch eine Absorberregion getrennt sind, welche ein zu reproduzierendes Muster darstellt, wobei die Absorberregion gewöhnlich in der Form ist von Absorberlinien getrennt durch alternierende phasenverschiebende und nicht-phasenverschiebende Bereiche in wiederholter Abfolge über eine Hauptoberfläche der Phasenverschiebungsmaske (z.B. Levenson-Shibuya PSM usw.), und wobei das Herstellungsverfahren auf die Herstellung von solch einer alternierenden Phasenverschiebungsmaske gerichtet ist.