Gegenstand der Untergruppe
G03F 1/26,
wobei die Phasenverschiebungsmaske (PSM) eine Absorberregion mit einem angrenzenden klaren engen Grat hat, welche die phasenverschobene ausgehende Strahlung erzeugt (180° phasenverschoben) in Bezug auf nicht-phasenverschobene Strahlung, welche aus der nicht-phasenverschobenen klaren Region des transparenten Substrats austritt, wobei die Absorberregion ein zu reproduzierendes Muster darstellt (Rim-PSM oder Outrigger-PSM), und wobei das Herstellungsverfahren auf die Herstellung von solch einer Rim-PSM oder Outrigger-PSM gerichtet ist.