Gegenstand der Hauptgruppe
G03F 1/00,
wobei die Strahlung modifizierende Produkte entweder gemusterte Phasenverschiebungsmasken (PSM), PSM-Rohlinge dafür, oder spezialisierte Substrate zur Herstellung solcher PSM sind; sowie Herstellungsverfahren zur Herstellung solcher gemusterten PSM, Herstellung von PSM-Rohlingen dafür, oder Herstellung spezialisierter Substrate dafür.
(1) Anmerkung: In dieser Untergruppe hat die Phasenverschiebungsmaske (PSM) eine die Phase verschiebende transmissive oder reflektive Region (PS-Region), die eine verschiedene effektive optische Weglänge für die aus der PS-Region austretende Strahlung bereit stellt im Vergleich zu einer anderen (gewöhnlich benachbarten nicht-PS) Region, so dass Strahlung, welche aus den separaten Regionen austritt, eine unterschiedliche relative Phase besitzt. Wenn die Phasendifferenz zwischen benachbarten PS- und nicht-PS-Regionen 180 Grad ist, ist die destruktive Interferenz maximal für die austretende Strahlung zwischen diesen Bereichen, was ein Minimum für die kombinierte gebeugte Lichtintensität verursacht, was wiederum in einer verdunkelten projizierten Lichtintensität resultiert, die die Auflösung bei der Belichtung einer fotosensitiven Schicht (wie ein Fotolack) verbessert.
(2) Anmerkung: Für eine transmissive Phasenverschiebungsmaske (PSM) wird die phasenverschiebende (PS-) Region gewöhnlich durch die selektive Addition einer transparenten PS-Schicht erzeugt, die die effektive Dicke eines transmissiven Substrats erhöht, oder durch selektives Ätzen, um eine Aussparung zu erzeugen, die die Dicke des transmissiven Substrates verringert, wobei beides ausgehende Strahlung bereitstellt, die sich in der Phase von ausgehender Strahlung einer anderen, unveränderten Region des transmissiven Substrates unterscheidet. Jedoch kann die Phasendifferenz in der phasenverschiebenden Region auch durch selektives Dotieren oder Implantation von speziellen Ionen in das transmissive Substrat erzeugt werden, um selektiv den Brechungsindex oder ein anderes optisches Merkmal des transparenten Substrates zu ändern, und somit den Durchgang von Licht, welches aus der phasenverschiebenden Region austritt, relativ zu Licht, welches aus einer anderen nicht-phasenverschiebenden Region des transmissiven Substrates austritt, zu ändern.