Gegenstand der Hauptgruppe
G03F 1/00,
wobei die Strahlung modifizierenden Produkte entweder gemusterte Masken für die Bildgebung mit Strahlung von 100 nm oder kürzerer Wellenlänge sind (z.B. Röntgenmasken, extrem ultraviolette (EUV-) Masken), Maskenrohlinge dafür, oder spezialisierte Substrate zur Herstellung solcher gemusterten Masken; sowie Herstellungsverfahren zur Herstellung solcher gemusterten Masken mit Strahlung von 100 nm oder kürzerer Wellenlänge (z.B. Röntgenmasken, extrem ultraviolette (EUV-) Masken), Herstellung von Maskenrohlingen dafür, oder Herstellung spezialisierter Substrate dafür.