Gegenstand der Hauptgruppe
G03F 1/00,
wobei die Strahlung modifizierenden Produkte entweder gemusterte Masken für die Bildgebung mit geladenen Teilchenstrahlen (z.B. Elektronenstrahlen), Maskenrohlinge dafür oder spezialisierte Substrate zur Herstellung solcher gemusterten Masken sind; sowie Herstellungsverfahren zur Herstellung solcher gemusterten Masken für die Bildgebung mit geladenen Teilchenstrahlen, Herstellung von Maskenrohlingen dafür, oder Herstellung spezialisierter Substrate dafür.