Gemusterte und Strahlung modifizierende Produkte, die chemisch definiert sind und gemustert wurden, um während der Bildgebung Strahlung zu modifizieren (z.B. Masken, Fotomasken, Retikel), die Herstellung solcher gemusterten und Strahlung modifizierenden Produkte, ähnliche oder gleiche Produkte, welche als Maskenrohlinge oder spezialisierte Substrate dienen, an sich, für die Herstellung solcher gemusterten und Strahlung modifizierenden Produkte, Verfahren zur Herstellung solcher Maskenrohlinge oder spezialisierter Substrate an sich (falls nicht anderweitig vorgesehen), Pellikel an sich oder Pellikel in Kombination mit gemusterten und Strahlung modifizierenden Produkten, Herstellungsverfahren für solche Pellikel (falls nicht anderweitig vorgesehen), besonders dafür ausgebildete Behälter, oder Herstellungsverfahren dafür (falls nicht anderweitig vorgesehen).
|
Elektrografie; Elektrofotografie
| G03G |
|
Fotomechanische Verfahren, Vorrichtungen, lichtempfindliches Material, z.B. Fotolack, allgemein
| G03F 7/00 |
|
Verwendung von Fotolack-Strukturen für spezielle Produktionsprozesse, z.B.:
| |
| B44C |
| H01L 21/00 |
|
Gedruckte Schaltungen; Einzelheiten von elektrischen Geräten; Herstellung von elektrischen Elementen allgemein
| H05K |
|
Holografische Verfahren oder Vorrichtungen
| G03H |
In dieser Hauptgruppe wird auf jeder hierarchischen Ebene, in Abwesenheit einer gegenteiligen Angabe, an die erste geeignete Stelle klassifiziert.