H10K 71/00

Definition

Diese Klassifikationsstelle umfasst:

Verfahren oder Vorrichtungen, besonders ausgebildet für die Herstellung von organischen Festkörperbauelementen, einschließlich der Herstellung, Strukturierung oder Behandlung der organischen Materialien, die in aktiven Schichten, in Schichten mit hoher Ladungsträgerbeweglichkeit oder in Elektroden eines organischen Festkörperbauelements verwendet werden.

Querverweise

Informative Querverweise

Sprühvorrichtungen
B05B 7/00
Verfahren zum Aufbringen von Flüssigkeiten oder von anderen fließfähigen Stoffen
B05D 1/00
Tintenstrahl-Drucker
B41J 2/01
Druckverfahren zum Erzeugen von besonderen Arten von Druckwerken
B41M 3/00
Oberflächenbehandlung von Glassubstraten durch mindestens zwei Beschichtungen
C03C 17/34
Verbindung von Glas mit anorganischem Material oder Glas
C03C 27/00
Ätzmittel, Glänzmittel oder Beizmittel
C09K 13/00
Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen
C23C 16/00
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
C23C 14/00
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen
G03F 7/00

H10K 71/00

Definition Statement

This place covers:

Processes or apparatus specially adapted for the formation of organic solid state devices, including the formation, patterning, or treatment of the organic materials used in active layers, in layers having high carrier mobility, or in electrodes of an organic solid state device.

References

Informative references

Spraying apparatus
B05B 7/00
Processes for applying liquids or other fluent materials
B05D 1/00
Ink jet printers
B41J 2/01
Printing processes to produce particular kinds of printed work
B41M 3/00
Surface treatment of glass substrates by at least two coatings
C03C 17/34
Joining glass to inorganic material or glass
C03C 27/00
Etching, surface-brightening or pickling compositions
C09K 13/00
Chemical coating by decomposition of gaseous compounds
C23C 16/00
Coating by vacuum evaporation, sputtering or by ion implantation of the coating forming material
C23C 14/00
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces
G03F 7/00