Gegenstand der Untergruppe
G03F 1/68,
wobei die Verfahren zur Herstellung von gemusterten und Strahlung absorbierenden Produkten das Mustern von Masken durch Abbildung umfassen.
Anmerkung: Typischerweise wird diese Abbildung zur Musterung der Maske erreicht durch selektives Belichten und Entwickeln einer fotosensitiven Schicht (z.B. einer Fotolackschicht auf einem Maskenrohling), um darin ein Muster zu definieren, das zur Bildung der resultierenden gemusterten Maske benutzt wird.
Subject matter of subgroup G03F 1/68 in which the processes for preparing patterned radiation modifying products include patterning of masks by imaging.
Note. Typically, this imaging to pattern the mask is accomplished by selectively exposing and developing a photosensitive layer (e.g., a photoresist layer on a mask blank) for defining a pattern therein that is used to form the resulting patterned mask.