Gegenstand der Hauptgruppe
G03F 1/00,
wobei die Pellikel an sich oder die Pellikel in Kombination mit den Strahlung modifizierenden Produkten Schutz für eine gemusterte Maske bieten durch den Ausschluss von Fremdmaterial (z.B. feste Staubpartikel), das ansonsten die eigentliche Abbildung der gemusterten Maske verschlechtern würde (z.B. Pellikelanordnung mit einer Membran auf einem Stützrahmen).
Anmerkung: In dieser Untergruppe umfasst das Pellikel oft eine dünne transparente Schicht (wie eine transparente flexible Membran), die an einem starren Rahmen angebracht ist, um die dünne transparente Schicht in einem vorgegebenen Abstand von der gemusterten Maske zu halten, so dass Fremdmaterial auf der Außenseite des Pellikels gesammelt wird und nicht in Reichweite des Fokus während der Abbildung ist, um eine Verschlechterung des resultierenden abgebildeten Musters, das von der Maske erzeugt wird, zu verhindern. Alternativ kann das Pellikel eine harte selbsttragende Schicht mit einer spezifischen Dicke und Lichtdurchlässigkeit sein, die auf einer gemusterten Maske gebildet wird. In beiden Fällen schützt das Pellikel die Maske, an der das Pellikel angebracht ist, vor Staub auf dem Maskenmuster, der ansonsten während der Abbildung der Maske ohne Pellikel auftreten würde.
Subject matter of main group G03F 1/00 in which the pellicles, per se, or the pellicles in combination with radiation modifying products, provide protection for a patterned mask by excluding foreign matter (e.g., solid particles of dust) that would otherwise degrade proper imaging from the patterned mask (e.g., pellicle assembly having membrane on support frame).
Note. In this subgroup, the pellicle often includes a thin transparent layer (such as a transparent flexible membrane) attached to a rigid frame to hold the thin transparent layer at a specified distance away from the mask pattern so that foreign matter collecting on the outside of the pellicle will not be in the range of focus during imaging, in order to avoid degradation of the resulting imaged pattern produced from the mask. Alternatively, the pellicle can be a hard self-supporting layer, having a specified thickness and transparency, that is formed on the patterned mask. In either case, the pellicle still protects the mask, to which the pellicle is attached, from dust adhering on the mask pattern that would otherwise occur during imaging of the mask without any benefit of the pellicle.