Gegenstand der Hauptgruppe
G03F 1/00,
wobei die gemusterten und Strahlung modifizierenden Produkte Masken mit Hilfsstrukturen ausgebildet sind, wobei die Maske eine Struktur zusätzlich zu der zur Bildgebung benutzten besitzt, und diese Struktur für ergänzende Zwecke verwendet wird, und wobei die Herstellungsverfahren auf die Herstellung von solchen Masken mit Hilfsstrukturen gerichtet sind.
Anmerkung: Ergänzende Zwecke können beispielsweise zur Ausrichtung der Maske in einem Belichtungsgerät sein, zum Testen der Maske, zum Schützen der Maske oder zum Verbessern des erhaltenen Maskenbildes.
Subject matter of main group G03F 1/00 in which the patterned radiation modifying products are masks having auxiliary features, where the mask possesses some structure in addition to that used for imaging and this structure is used for subsidiary purposes; and in which the processes of preparing are directed to preparation of such masks having auxiliary features.
Note. For example, the subsidiary purposes may be for alignment of the mask within an exposure apparatus, for testing of the mask, for protecting the mask, or for improving an image obtained from the mask.