Gegenstand der Untergruppe
G03F 1/26,
wobei die Phasenverschiebungsmaske (PSM) eine Absorberregion mit einem angrenzenden klaren engen Grat hat, welche die phasenverschobene ausgehende Strahlung erzeugt (180° phasenverschoben) in Bezug auf nicht-phasenverschobene Strahlung, welche aus der nicht-phasenverschobenen klaren Region des transparenten Substrats austritt, wobei die Absorberregion ein zu reproduzierendes Muster darstellt (Rim-PSM oder Outrigger-PSM), und wobei das Herstellungsverfahren auf die Herstellung von solch einer Rim-PSM oder Outrigger-PSM gerichtet ist.
Subject matter of subgroup G03F 1/26 in which the phase shift mask (PSM) has an absorber region with an adjacent clear narrow ridge that produces phase shifted exiting illumination (180 degrees out of phase) with respect to non-phase shifted illumination exiting a non-phase shifted clear region of a transparent substrate, where the absorber region represents a pattern to be reproduced (rim PSM or outrigger PSM); and in which the process of preparing is directed to preparation of such a rim PSM or an outrigger PSM.