Gegenstand der Hauptgruppe
G03F 1/00,
wobei die Strahlung modifizierenden Produkte entweder gemusterte Masken für die Bildgebung mit Strahlung von 100 nm oder kürzerer Wellenlänge sind (z.B. Röntgenmasken, extrem ultraviolette (EUV-) Masken), Maskenrohlinge dafür, oder spezialisierte Substrate zur Herstellung solcher gemusterten Masken; sowie Herstellungsverfahren zur Herstellung solcher gemusterten Masken mit Strahlung von 100 nm oder kürzerer Wellenlänge (z.B. Röntgenmasken, extrem ultraviolette (EUV-) Masken), Herstellung von Maskenrohlingen dafür, oder Herstellung spezialisierter Substrate dafür.
Subject matter of main group G03F 1/00 in which the radiation modifying products are either patterned masks for imaging by radiation of 100 nanometers or shorter wavelength (e.g., X-ray masks, extreme ultraviolet (EUV) masks), mask blanks therefor, or specialized substrates for preparing such patterned masks; and the processes of preparing are directed to preparation of such patterned masks for imaging by radiation of 100 nanometers or shorter wavelength (e.g., X-ray masks, extreme ultraviolet (EUV) masks), preparation of mask blanks therefor, or preparation of specialized substrates therefor.