Gegenstand der Hauptgruppe
G03F 1/00,
wobei die Strahlung modifizierenden Produkte entweder gemusterte Masken für die Bildgebung mit geladenen Teilchenstrahlen (z.B. Elektronenstrahlen), Maskenrohlinge dafür oder spezialisierte Substrate zur Herstellung solcher gemusterten Masken sind; sowie Herstellungsverfahren zur Herstellung solcher gemusterten Masken für die Bildgebung mit geladenen Teilchenstrahlen, Herstellung von Maskenrohlingen dafür, oder Herstellung spezialisierter Substrate dafür.
Subject matter of main group G03F 1/00 in which the radiation modifying products are either patterned masks for imaging by charged particle beam (CPB) radiation (e.g., by electron beam), mask blanks therefor, or specialized substrates for preparing such patterned masks; and the processes of preparing are directed to preparation of such patterned masks for imaging by charged particle beam (CPB) radiation, preparation of mask blanks therefor, or preparation of specialized substrates therefor.