G03F 1/00

Definition

Diese Klassifikationsstelle umfasst:

Gemusterte und Strahlung modifizierende Produkte, die chemisch definiert sind und gemustert wurden, um während der Bildgebung Strahlung zu modifizieren (z.B. Masken, Fotomasken, Retikel), die Herstellung solcher gemusterten und Strahlung modifizierenden Produkte, ähnliche oder gleiche Produkte, welche als Maskenrohlinge oder spezialisierte Substrate dienen, an sich, für die Herstellung solcher gemusterten und Strahlung modifizierenden Produkte, Verfahren zur Herstellung solcher Maskenrohlinge oder spezialisierter Substrate an sich (falls nicht anderweitig vorgesehen), Pellikel an sich oder Pellikel in Kombination mit gemusterten und Strahlung modifizierenden Produkten, Herstellungsverfahren für solche Pellikel (falls nicht anderweitig vorgesehen), besonders dafür ausgebildete Behälter, oder Herstellungsverfahren dafür (falls nicht anderweitig vorgesehen).

Querverweise

Informative Querverweise

Elektrografie; Elektrofotografie
G03G
Fotomechanische Verfahren, Vorrichtungen, lichtempfindliches Material, z.B. Fotolack, allgemein
G03F 7/00
Verwendung von Fotolack-Strukturen für spezielle Produktionsprozesse, z.B.:
  • Verfahren zum Herstellen von Verzierungen
B44C
  • Herstellung oder Behandlung von Halbleiter- oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
H01L 21/00
Gedruckte Schaltungen; Einzelheiten von elektrischen Geräten; Herstellung von elektrischen Elementen allgemein
H05K
Holografische Verfahren oder Vorrichtungen
G03H

Spezielle Klassifizierungsregeln

In dieser Hauptgruppe wird auf jeder hierarchischen Ebene, in Abwesenheit einer gegenteiligen Angabe, an die erste geeignete Stelle klassifiziert.

G03F 1/00

Definition Statement

This place covers:

Patterned radiation modifying products that are chemically defined and have been patterned to modify radiation during imaging (e.g., masks, photomasks, reticles), preparation of such patterned radiation modifying products, similar or like products that function as mask blanks or specialized substrates, per se, for preparing such patterned radiation modifying products, processes of preparing such mask blanks or specialized substrates, per se (when not provided for elsewhere), pellicles, per se or pellicles in combination with patterned radiation modifying products, processes of preparing such pellicles (when not provided for elsewhere), containers that are specially adapted therefor, or processes of preparing the same (when not provided for elsewhere).

References

Informative references

Electrography; electrophotography
G03G
Photomechanical process; apparatus; photosensitive material, e.g., photoresist, in general
G03F 7/00
Use of photoresist structures for special production processes, e.g.:
Producing decorative effects
B44C
Manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or parts thereof
H01L 21/00
Printed circuits; details of electric apparatus; manufacture of electrical components, in general
H05K
Holographic processes or apparatus
G03H

Special rules of classification

In this main group, at each hierarchical level, in the absence of an indication to the contrary, classification is made in the first appropriate place.