IPC-Stelle: G03F 7/07 [Version 2008.04]

SymbolTypTitel
GSKSektion G — Physik
G03KLFotografieKinematografievergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen WellenElektrografieHolografie (Aufzeichnen durch Abtasten und Umwandeln in elektrische Signale H04N) [4]
G03FUKLFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von HalbleiterbauelementenMaterialien dafürKopiervorlagen dafürVorrichtungen besonders ausgebildet dafür (Lichtsetzmaschinen B41B; lichtempfindliche Materialien oder fotografische Verfahren G03C; Elektrografie, lichtempfindliche Schichten oder Verfahren dafür G03G)
G03F 1/00HGRHerstellung von Kopiervorlagen für die fotomechanische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen (fotomechanische Verfahren allgemein G03F 7/00) [3]
G03F 1/02UGR1
.Herstellung von Kopiervorlagen, die ein Relief simulieren, durch fotografische Verfahren
G03F 1/04UGR1
.durch Montageverfahren
G03F 1/06UGR1
.von Druckflächen [5]
G03F 1/08UGR1
.Kopiervorlagen mit anorganischen Bildschichten, z.B. Chrommasken (G03F 1/12 hat Vorrang) [5]
G03F 1/10UGR1
.durch Belichten und Auswaschen von pigmentierten oder gefärbten organischen Schichtendurch Färben makromolekularer Muster [5]
G03F 1/12UGR1
.durch Belichten silberhalogenidhaltiger lichtempfindlicher Materialien oder lichtempfindlicher Materialien des Diazo-Typs [5]
G03F 1/14UGR1
.Originale, gekennzeichnet durch strukturelle Einzelheiten, z.B. Träger, Deckschichten, ringförmige Maskenhalterahmen [5]
G03F 1/16UGR1
.Originale mit freien Öffnungen, z.B. für Korpuskularstrahlenlithografie [5]
G03F 3/00HGRFarbtrennungBerichtigung des Farbwertes (fotografische Kopierapparate allgemein G03B)
G03F 3/02UGR1
.durch Retuschieren
G03F 3/04UGR1
.durch fotografische Verfahren
G03F 3/06UGR2
. .durch Maskieren
G03F 3/08UGR1
.durch fotoelektrische Mittel
G03F 3/10UGR1
.Prüfen des Farb- oder Tonwertes der Auszugsnegative oder -positive
G03F 5/00HGRRasterverfahrenRaster dafür
G03F 5/02UGR1
.durch Projektion (Kameras G03B)
G03F 5/04UGR2
. .durch Wechsel der Rasterwirkung
G03F 5/06UGR2
. .durch Wechsel der Blendenwirkung
G03F 5/08UGR2
. .durch Linienraster
G03F 5/10UGR2
. .durch Kreuzlinienraster
G03F 5/12UGR2
. .durch andere, z.B. Kornraster
G03F 5/14UGR1
.durch Kontaktverfahren
G03F 5/16UGR2
. .durch graue Halbtonraster
G03F 5/18UGR2
. .durch Farb-Halbtonraster
G03F 5/20UGR1
.durch Raster für Tiefdruck
G03F 5/22UGR1
.durch Kombination verschiedener RasterBeseitigung von Moire.
G03F 5/24UGR1
.durch mehrfache Belichtung, z.B. Kombination von Strich- und Linienraster
G03F 7/00HGRFotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. DruckflächenMaterialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür (Fotolackstrukturen für spezielle Herstellungsverfahren siehe die entsprechenden Stellen z.B. B44C , H01L , z.B. H01L 21/00 , H05K) [3, 5]
G03F 7/004UGR1
.Lichtempfindliche Materialien (G03F 7/12 , G03F 7/14 haben Vorrang) [5]
G03F 7/008UGR2
. .Azide (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/012UGR3
. . .Makromolekulare Azidemakromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5]
G03F 7/016UGR2
. .Diazoniumsalze oder -verbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/021UGR3
. . .Makromolekulare Diazoniumverbindungenmakromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5]
G03F 7/022UGR2
. .Chinondiazide (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/023UGR3
. . .Makromolekulare Chinondiazidemakromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5]
G03F 7/025UGR2
. .Nicht-makromolekulare fotopolymerisierbare Verbindungen mit Kohlenstoff- Kohlenstoff-Dreifachbindung, z.B. Acetylenverbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/027UGR2
. .Nicht-makromolekulare fotopolymerisierbare Verbindungen mit Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung, z.B. Ethylenverbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/028UGR3
. . .mit Zusätzen zum Erhöhen der Lichtempfindlichkeit, z.B. Fotoinitiatoren [5]
G03F 7/029UGR4
. . . .Anorganische VerbindungenOniumverbindungenorganische Verbindungen mit anderen Heteroatomen als Sauerstoff, Stickstoff oder Schwefel [5]
G03F 7/031UGR4
. . . .Organische Verbindungen soweit nicht von G03F 7/029 umfasst [5]
G03F 7/032UGR3
. . .mit Bindemitteln [5]
G03F 7/033UGR4
. . . .mit Polymeren als Bindemittel, erhalten durch Reaktionen, an denen nur ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindungen beteiligt sind, z.B. Vinylpolymere [5]
G03F 7/035UGR4
. . . .mit Polyurethanen als Bindemittel [5]
G03F 7/037UGR4
. . . .mit Polyamiden oder Polyimiden als Bindemittel [5]
G03F 7/038UGR2
. .makromolekulare Verbindungen, die unlöslich oder unterschiedlich benetzbar gemacht werden (G03F 7/075 hat Vorrang; makromolekulare Azide G03F 7/012; makromolekulare Diazoniumverbindungen G03F 7/021) [5]
G03F 7/039UGR2
. .Makromolekulare fotodepolymerisierbare Verbindungen, z.B. positiv arbeitende elektronenempfindliche Fotolacke [Resists] (G03F 7/075 hat Vorrang; makromolekulare Chinondiazide G03F 7/023) [5]
G03F 7/04UGR2
. .Chromate (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/06UGR2
. .Silbersalze (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/07UGR3
. . .für Diffusionsübertragung [5]
G03F 7/075UGR2
. .Siliciumhaltige Verbindungen [5]
G03F 7/085UGR2
. .Lichtempfindliche Zusammensetzungen, gekennzeichnet durch haftungsverbessernde nicht- makromolekulare Zusätze (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/09UGR2
. .gekennzeichnet durch Einzelheiten des Aufbaus, z.B. Schichtträger, Hilfsschichten (Schichtträger für Druckformen allgemein B41N) [5]
G03F 7/095UGR3
. . .mit mehr als einer lichtempfindlichen Schicht (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/105UGR3
. . .mit Substanzen, z.B. Indikatoren, zum Sichtbarmachen der Strukturen [5]
G03F 7/11UGR3
. . .mit Deck- oder Zwischenschichten, z.B. Trennschichten [5]
G03F 7/115UGR3
. . .mit Schichtträgern oder Schichten zum Erhalt eines Rastereffektes oder zum Verbessern des Kontaktes beim Kontaktkopieren in einem Vakuumrahmen [5]
G03F 7/12UGR1
.Herstellen von Siebdruck- oder ähnlichen Druckformen, z.B. Schablonen
G03F 7/14UGR1
.Herstellen von Lichtdruckformen
G03F 7/16UGR1
.BeschichtungsverfahrenVorrichtungen dafür (Aufbringen von Beschichtungen auf Trägermaterialien allgemein B05; Aufbringen lichtempfindlicher Zusammensetzungen auf den Schichtträger für fotografische Zwecke G03C 1/74)
G03F 7/18UGR2
. .Beschichten gekrümmter Oberflächen
G03F 7/20UGR1
.BelichtenVorrichtungen dafür (fotografische Kopiergeräte G03B 27/00) [4]
G03F 7/207UGR2
. .Vorrichtungen zum Scharfeinstellen, z.B. selbsttätig (Kombinationen von Positionieren und Scharfeinstellen G03F 9/02; Systeme zum automatischen Erzeugen von Scharfeinstellungssignalen allgemein G02B 7/28)Vorrichtungen zum selbsttätigen Scharfeinstellen von Projektions-Kopier- Geräten G03B 27/34 [4]
G03F 7/213UGR2
. .gleichzeitiges Belichten von verschiedenen Stellen derselben Oberfläche mit demselben Lichtmuster (G03F 7/207 hat Vorrang) [4]
G03F 7/22UGR2
. .aufeinanderfolgendes Belichten von verschiedenen Stellen derselben Oberfläche mit demselben Lichtmuster (G03F 7/207 hat Vorrang) [4]
G03F 7/23UGR3
. . .selbsttätige Vorrichtungen dafür [4]
G03F 7/24UGR2
. .Gekrümmte Oberflächen
G03F 7/26UGR1
.Verarbeitung von lichtempfindlichen MaterialienVorrichtungen dafür (G03F 7/12-G03F 7/24 haben Vorrang) [3, 5]
G03F 7/28UGR2
. .zur Herstellung von Pulverbildern (G03F 3/10 hat Vorrang) [5]
G03F 7/30UGR2
. .Bildmäßiges Entfernen mit Hilfe von Flüssigkeiten [5]
G03F 7/32UGR3
. . .Flüssigkeitszusammensetzungen dafür, z.B. Entwickler [5]
G03F 7/34UGR2
. .Bildmäßiges Entfernen durch selektive Übertragung, z.B. Abziehverfahren [5]
G03F 7/36UGR2
. .Bildmäßiges Entfernen, soweit nicht von den Gruppen G03F 7/30-G03F 7/34 umfasst, z.B. mittels eines Gasstromes, Plasmas [5]
G03F 7/38UGR2
. .Vorbehandlung vor dem bildmäßigen Entfernen, z.B. Vorbacken [5]
G03F 7/40UGR2
. .Nachbehandlung nach dem bildmäßigen Entfernen, z.B. Backen [5]
G03F 7/42UGR2
. .Abziehen oder Agenzien dafür [5]
G03F 9/00HGRRegistergerechtes oder sonstiges Positionieren von Kopiervorlagen, Masken, Rastern, fotografischen Folien oder strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. selbsttätig (G03F 7/22 hat Vorrang; Herstellen von Kopiervorlagen G03F 1/00; bei fotografischen Kopiergeräten zur Herstellung von Kopien G03B 27/00) [4]
G03F 9/02UGR1
.kombiniert mit Mitteln zum automatischen Scharfeinstellen (automatisches Scharfeinstellen allgemein G02B 7/09; Systeme zum automatischen Erzeugen von Scharfeinstellsignalen G02B 7/28) [4]