G | SK | Sektion G — Physik |
G03 | KL | Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie (Aufzeichnen durch Abtasten und Umwandeln in elektrische Signale H04N) [4] |
G03F | UKL | Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür (Lichtsetzmaschinen B41B; lichtempfindliche Materialien oder fotografische Verfahren G03C; Elektrografie, lichtempfindliche Schichten oder Verfahren dafür G03G) |
G03F 1/00 | HGR | Herstellung von Kopiervorlagen für die fotomechanische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen (fotomechanische Verfahren allgemein G03F 7/00) [3] |
G03F 1/02 | UGR1 | . | Herstellung von Kopiervorlagen, die ein Relief simulieren, durch fotografische Verfahren |
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G03F 1/04 | UGR1 | |
G03F 1/06 | UGR1 | |
G03F 1/08 | UGR1 | . | Kopiervorlagen mit anorganischen Bildschichten, z.B. Chrommasken (G03F 1/12 hat Vorrang) [5] |
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G03F 1/10 | UGR1 | . | durch Belichten und Auswaschen von pigmentierten oder gefärbten organischen Schichten; durch Färben makromolekularer Muster [5] |
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G03F 1/12 | UGR1 | . | durch Belichten silberhalogenidhaltiger lichtempfindlicher Materialien oder lichtempfindlicher Materialien des Diazo-Typs [5] |
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G03F 1/14 | UGR1 | . | Originale, gekennzeichnet durch strukturelle Einzelheiten, z.B. Träger, Deckschichten, ringförmige Maskenhalterahmen [5] |
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G03F 1/16 | UGR1 | . | Originale mit freien Öffnungen, z.B. für Korpuskularstrahlenlithografie [5] |
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G03F 3/00 | HGR | Farbtrennung; Berichtigung des Farbwertes (fotografische Kopierapparate allgemein G03B) |
G03F 3/02 | UGR1 | |
G03F 3/04 | UGR1 | . | durch fotografische Verfahren |
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G03F 3/06 | UGR2 | |
G03F 3/08 | UGR1 | . | durch fotoelektrische Mittel |
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G03F 3/10 | UGR1 | . | Prüfen des Farb- oder Tonwertes der Auszugsnegative oder -positive |
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G03F 5/00 | HGR | Rasterverfahren; Raster dafür |
G03F 5/02 | UGR1 | . | durch Projektion (Kameras G03B) |
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G03F 5/04 | UGR2 | . . | durch Wechsel der Rasterwirkung |
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G03F 5/06 | UGR2 | . . | durch Wechsel der Blendenwirkung |
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G03F 5/08 | UGR2 | |
G03F 5/10 | UGR2 | . . | durch Kreuzlinienraster |
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G03F 5/12 | UGR2 | . . | durch andere, z.B. Kornraster |
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G03F 5/14 | UGR1 | |
G03F 5/16 | UGR2 | . . | durch graue Halbtonraster |
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G03F 5/18 | UGR2 | . . | durch Farb-Halbtonraster |
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G03F 5/20 | UGR1 | . | durch Raster für Tiefdruck |
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G03F 5/22 | UGR1 | . | durch Kombination verschiedener Raster; Beseitigung von Moire. |
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G03F 5/24 | UGR1 | . | durch mehrfache Belichtung, z.B. Kombination von Strich- und Linienraster |
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G03F 7/00 | HGR | Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür (Fotolackstrukturen für spezielle Herstellungsverfahren siehe die entsprechenden Stellen z.B. B44C , H01L , z.B. H01L 21/00 , H05K) [3, 5] |
G03F 7/004 | UGR1 | |
G03F 7/008 | UGR2 | |
G03F 7/012 | UGR3 | . . . | Makromolekulare Azide; makromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5] |
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G03F 7/016 | UGR2 | . . | Diazoniumsalze oder -verbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5] |
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G03F 7/021 | UGR3 | . . . | Makromolekulare Diazoniumverbindungen; makromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5] |
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G03F 7/022 | UGR2 | |
G03F 7/023 | UGR3 | . . . | Makromolekulare Chinondiazide; makromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5] |
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G03F 7/025 | UGR2 | . . | Nicht-makromolekulare fotopolymerisierbare Verbindungen mit Kohlenstoff- Kohlenstoff-Dreifachbindung, z.B. Acetylenverbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5] |
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G03F 7/027 | UGR2 | . . | Nicht-makromolekulare fotopolymerisierbare Verbindungen mit Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung, z.B. Ethylenverbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5] |
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G03F 7/028 | UGR3 | . . . | mit Zusätzen zum Erhöhen der Lichtempfindlichkeit, z.B. Fotoinitiatoren [5] |
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G03F 7/029 | UGR4 | . . . . | Anorganische Verbindungen; Oniumverbindungen; organische Verbindungen mit anderen Heteroatomen als Sauerstoff, Stickstoff oder Schwefel [5] |
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G03F 7/031 | UGR4 | . . . . | Organische Verbindungen soweit nicht von G03F 7/029 umfasst [5] |
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G03F 7/032 | UGR3 | . . . | mit Bindemitteln [5] |
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G03F 7/033 | UGR4 | . . . . | mit Polymeren als Bindemittel, erhalten durch Reaktionen, an denen nur ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindungen beteiligt sind, z.B. Vinylpolymere [5] |
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G03F 7/035 | UGR4 | . . . . | mit Polyurethanen als Bindemittel [5] |
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G03F 7/037 | UGR4 | . . . . | mit Polyamiden oder Polyimiden als Bindemittel [5] |
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G03F 7/038 | UGR2 | . . | makromolekulare Verbindungen, die unlöslich oder unterschiedlich benetzbar gemacht werden (G03F 7/075 hat Vorrang; makromolekulare Azide G03F 7/012; makromolekulare Diazoniumverbindungen G03F 7/021) [5] |
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G03F 7/039 | UGR2 | . . | Makromolekulare fotodepolymerisierbare Verbindungen, z.B. positiv arbeitende elektronenempfindliche Fotolacke [Resists] (G03F 7/075 hat Vorrang; makromolekulare Chinondiazide G03F 7/023) [5] |
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G03F 7/04 | UGR2 | |
G03F 7/06 | UGR2 | |
G03F 7/07 | UGR3 | . . . | für Diffusionsübertragung [5] |
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G03F 7/075 | UGR2 | . . | Siliciumhaltige Verbindungen [5] |
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G03F 7/085 | UGR2 | . . | Lichtempfindliche Zusammensetzungen, gekennzeichnet durch haftungsverbessernde nicht- makromolekulare Zusätze (G03F 7/075 hat Vorrang) [5] |
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G03F 7/09 | UGR2 | . . | gekennzeichnet durch Einzelheiten des Aufbaus, z.B. Schichtträger, Hilfsschichten (Schichtträger für Druckformen allgemein B41N) [5] |
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G03F 7/095 | UGR3 | . . . | mit mehr als einer lichtempfindlichen Schicht (G03F 7/075 hat Vorrang) [5] |
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G03F 7/105 | UGR3 | . . . | mit Substanzen, z.B. Indikatoren, zum Sichtbarmachen der Strukturen [5] |
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G03F 7/11 | UGR3 | . . . | mit Deck- oder Zwischenschichten, z.B. Trennschichten [5] |
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G03F 7/115 | UGR3 | . . . | mit Schichtträgern oder Schichten zum Erhalt eines Rastereffektes oder zum Verbessern des Kontaktes beim Kontaktkopieren in einem Vakuumrahmen [5] |
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G03F 7/12 | UGR1 | . | Herstellen von Siebdruck- oder ähnlichen Druckformen, z.B. Schablonen |
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G03F 7/14 | UGR1 | . | Herstellen von Lichtdruckformen |
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G03F 7/16 | UGR1 | . | Beschichtungsverfahren; Vorrichtungen dafür (Aufbringen von Beschichtungen auf Trägermaterialien allgemein B05; Aufbringen lichtempfindlicher Zusammensetzungen auf den Schichtträger für fotografische Zwecke G03C 1/74) |
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G03F 7/18 | UGR2 | . . | Beschichten gekrümmter Oberflächen |
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G03F 7/20 | UGR1 | . | Belichten; Vorrichtungen dafür (fotografische Kopiergeräte G03B 27/00) [4] |
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G03F 7/207 | UGR2 | . . | Vorrichtungen zum Scharfeinstellen, z.B. selbsttätig (Kombinationen von Positionieren und Scharfeinstellen G03F 9/02; Systeme zum automatischen Erzeugen von Scharfeinstellungssignalen allgemein G02B 7/28); Vorrichtungen zum selbsttätigen Scharfeinstellen von Projektions-Kopier- Geräten G03B 27/34 [4] |
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G03F 7/213 | UGR2 | . . | gleichzeitiges Belichten von verschiedenen Stellen derselben Oberfläche mit demselben Lichtmuster (G03F 7/207 hat Vorrang) [4] |
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G03F 7/22 | UGR2 | . . | aufeinanderfolgendes Belichten von verschiedenen Stellen derselben Oberfläche mit demselben Lichtmuster (G03F 7/207 hat Vorrang) [4] |
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G03F 7/23 | UGR3 | . . . | selbsttätige Vorrichtungen dafür [4] |
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G03F 7/24 | UGR2 | |
G03F 7/26 | UGR1 | . | Verarbeitung von lichtempfindlichen Materialien; Vorrichtungen dafür (G03F 7/12-G03F 7/24 haben Vorrang) [3, 5] |
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G03F 7/28 | UGR2 | . . | zur Herstellung von Pulverbildern (G03F 3/10 hat Vorrang) [5] |
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G03F 7/30 | UGR2 | . . | Bildmäßiges Entfernen mit Hilfe von Flüssigkeiten [5] |
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G03F 7/32 | UGR3 | . . . | Flüssigkeitszusammensetzungen dafür, z.B. Entwickler [5] |
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G03F 7/34 | UGR2 | . . | Bildmäßiges Entfernen durch selektive Übertragung, z.B. Abziehverfahren [5] |
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G03F 7/36 | UGR2 | . . | Bildmäßiges Entfernen, soweit nicht von den Gruppen G03F 7/30-G03F 7/34 umfasst, z.B. mittels eines Gasstromes, Plasmas [5] |
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G03F 7/38 | UGR2 | . . | Vorbehandlung vor dem bildmäßigen Entfernen, z.B. Vorbacken [5] |
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G03F 7/40 | UGR2 | . . | Nachbehandlung nach dem bildmäßigen Entfernen, z.B. Backen [5] |
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G03F 7/42 | UGR2 | . . | Abziehen oder Agenzien dafür [5] |
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G03F 9/00 | HGR | Registergerechtes oder sonstiges Positionieren von Kopiervorlagen, Masken, Rastern, fotografischen Folien oder strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. selbsttätig (G03F 7/22 hat Vorrang; Herstellen von Kopiervorlagen G03F 1/00; bei fotografischen Kopiergeräten zur Herstellung von Kopien G03B 27/00) [4] |
G03F 9/02 | UGR1 | . | kombiniert mit Mitteln zum automatischen Scharfeinstellen (automatisches Scharfeinstellen allgemein G02B 7/09; Systeme zum automatischen Erzeugen von Scharfeinstellsignalen G02B 7/28) [4] |
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