IPC-Stelle: C23C 14/06 [Version 2025.01 (aktuell)]

SymbolTypTitel
CSKSektion C — ChemieHüttenwesen
C23KLBeschichten metallischer WerkstoffeBeschichten von Werkstoffen mit metallischen StoffenChemische OberflächenbehandlungDiffusionsbehandlung von metallischen WerkstoffenBeschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der DampfphaseInhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein [2]
C23CUKLBeschichten metallischer WerkstoffeBeschichten von Werkstoffen mit metallischen StoffenOberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder SubstitutionBeschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase (Herstellen metallbeschichteter Gegenstände durch Strangpressen B21C 23/22; Beschichten mit Metall durch Verbinden vorgebildeter Schichten mit Gegenständen siehe die entsprechenden Stellen, z.B. B21D 39/00, B23K; Metallisieren von Glas C03C; Metallisieren von Mörtel, Beton, Kunststein, Keramiken oder Natursteinen C04B 41/00; Emaillieren von Metallen oder Aufbringen glasiger Schichten auf Metalle C23D; Behandeln metallischer Oberflächen oder Beschichten von Metallen durch Elektrolyse oder Elektrophorese C25D; Einkristall-Schichtwachstum C30B; Metallisieren von Textilstoffen D06M 11/83; Flächenverzierung auf Textilstoffen durch örtliches Metallisieren D06Q 1/04) [4]
C23C 2/00ZWBeschichten durch Aufbringen des Beschichtungsmaterials im geschmolzenen Zustand [4]
C23C 2/00HGRHeißtauchverfahren oder Immersionsverfahren zum Aufbringen des Beschichtungsmaterials im geschmolzenen Zustand ohne Beeinflussung der FormVorrichtungen hierfür [4, 2006.01]
C23C 2/02UGR1
.Vorbehandlung des zu beschichtenden Werkstoffs, z.B. zum Beschichten ausgewählter Oberflächenbereiche (C23C 2/30 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 2/04UGR1
.gekennzeichnet durch das Beschichtungsmaterial [4, 2006.01]
C23C 2/06UGR2
. .Zink oder Cadmium oder Legierungen auf deren Basis [4, 2006.01]
C23C 2/08UGR2
. .Zinn oder Legierungen auf dessen Basis [4, 2006.01]
C23C 2/10UGR2
. .Blei oder Legierungen auf dessen Basis [4, 2006.01]
C23C 2/12UGR2
. .Aluminium oder Legierungen auf dessen Basis [4, 2006.01]
C23C 2/14UGR1
.Entfernen des Überschusses geschmolzener ÜberzügeSteuern oder Regeln der Schichtdicke [4, 2006.01]
C23C 2/16UGR2
. .unter Verwendung fließfähiger Stoffe unter Druck, z.B. von Luftbürsten [4, 2006.01]
C23C 2/18UGR3
. . .Entfernen des Überschusses geschmolzener Überzüge von langgestreckten Gegenständen [4, 2006.01]
C23C 2/20UGR4
. . . .von Bändernvon Blechen [4, 2006.01]
C23C 2/22UGR2
. .durch Abstreifen, z.B. unter Verwendung von Messern [4, 2006.01]
C23C 2/24UGR2
. .unter Verwendung magnetischer oder elektrischer Felder [4, 2006.01]
C23C 2/26UGR1
.Nachbehandlung (C23C 2/14 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 2/28UGR2
. .Thermische Nachbehandlung, z.B. Behandlung im Ölbad [4, 2006.01]
C23C 2/30UGR1
.Flussmittel oder Abdeckmittel auf geschmolzenen Bädern (C23C 2/22 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 2/32UGR1
.unter Verwendung von auf das Bad oder das Substrat einwirkender Schwingungsenergie (C23C 2/14 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 2/34UGR1
.gekennzeichnet durch die Form des zu behandelnden Materials (C23C 2/14 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 2/36UGR2
. .langgestrecktes Material [4, 2006.01]
C23C 2/38UGR3
. . .DrähteRohre [4, 2006.01]
C23C 2/40UGR3
. . .BlecheBänder [4, 2006.01]
C23C 4/00HGRBeschichten durch Aufspritzen des Beschichtungsmaterials im geschmolzenen Zustand, z.B. durch Flammen, Plasma oder elektrische Entladung (Auftragschweißen B23K, z.B. B23K 5/18, B23K 9/04) [4, 2006.01, 2016.01]
C23C 4/01UGR1
.Selektivbeschichten, z.B. Beschichten in Form von Mustern, ohne Vorbehandlung des zu beschichtenden Materials [2016.01]
C23C 4/02UGR1
.Vorbehandlung des zu beschichtenden Werkstoffs, z.B. zum Beschichten ausgewählter Oberflächenbereiche [4, 2006.01]
C23C 4/04UGR1
.gekennzeichnet durch das Beschichtungsmaterial [4, 2006.01]
C23C 4/06UGR2
. .Metallische Stoffe [4, 2006.01, 2016.01]
C23C 4/067UGR3
. . .freie Teilchen nicht-metallischer Elemente enthaltend, z.B. Kohlenstoff, Silicium, Bor, Phosphor oder Arsen [2016.01]
C23C 4/073UGR3
. . .MCrAl- oder MCrAlY-Legierungen enthaltend, wobei M Nickel, Cobalt oder Eisen ist, mit oder ohne nicht-metallische Elemente [2016.01]
C23C 4/08UGR3
. . .nur metallische Elemente enthaltend (C23C 4/073 hat Vorrang) [4, 2006.01, 2016.01]
C23C 4/10UGR2
. .Oxide, Boride, Carbide, Nitride oder Silicidederen Gemische [4, 2006.01, 2016.01]
C23C 4/11UGR3
. . .Oxide [2016.01]
C23C 4/12UGR1
.gekennzeichnet durch das Spritzverfahren [4, 2006.01, 2016.01]
C23C 4/123UGR2
. .Spritzen von geschmolzenem Metall [2016.01]
C23C 4/126UGR2
. .Detonationsspritzen [2016.01]
C23C 4/129UGR2
. .Flammspritzen [2016.01]
C23C 4/131UGR2
. .Lichtbogendrahtspritzen [2016.01]
C23C 4/134UGR2
. .Plasmaspritzen [2016.01]
C23C 4/137UGR2
. .Spritzen im Vakuum oder in inerter Atmosphäre [2016.01]
C23C 4/14UGR2
. .zum Beschichten von langgestrecktem Material [4, 2006.01, 2016.01]
C23C 4/16UGR3
. . .von Drähtenvon Rohren [4, 2006.01, 2016.01]
C23C 4/18UGR1
.Nachbehandlung [4, 2006.01]
C23C 6/00HGRBeschichten durch Aufgießen geschmolzener Stoffe auf das Substrat [4, 2006.01]
C23C 8/00ZWDiffusion in die Oberfläche metallischer Werkstoffe im festen Zustand [4]
C23C 8/00HGRDiffusion im festen Zustand nur von nichtmetallischen Elementen in Oberflächen metallischer Werkstoffe (Diffusion von Silicium C23C 10/00)Chemische Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Reaktion der Oberfläche mit einem reagierenden Gas, wobei die Reaktionsprodukte des Oberflächenmaterials im Überzug verbleiben, z.B. Umwandlungsschichten, Passivierung von Metallen (C23C 14/00 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 8/02UGR1
.Vorbehandlung des zu beschichtenden Werkstoffs (C23C 8/04 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 8/04UGR1
.Behandlung ausgewählter Oberflächenbereiche, z.B. unter Verwendung von Masken [4, 2006.01]
C23C 8/06UGR1
.unter Verwendung von Gasen [4, 2006.01]
C23C 8/08UGR2
. .wobei nur ein einziges Element aufgebracht wird [4, 2006.01]
C23C 8/10UGR3
. . .Oxidieren [4, 2006.01]
C23C 8/12UGR4
. . . .unter Verwendung von elementarem Sauerstoff oder von Ozon [4, 2006.01]
C23C 8/14UGR5
. . . . .Oxidieren eisenhaltiger Oberflächen [4, 2006.01]
C23C 8/16UGR4
. . . .unter Verwendung sauerstoffhaltiger Verbindungen, z.B. H2O, CO2 [4, 2006.01]
C23C 8/18UGR5
. . . . .Oxidieren eisenhaltiger Oberflächen [4, 2006.01]
C23C 8/20UGR3
. . .Aufkohlen [Karburieren] [4, 2006.01]
C23C 8/22UGR4
. . . .von eisenhaltigen Oberflächen [4, 2006.01]
C23C 8/24UGR3
. . .Nitrieren [4, 2006.01]
C23C 8/26UGR4
. . . .von eisenhaltigen Oberflächen [4, 2006.01]
C23C 8/28UGR2
. .wobei mehrere Elemente in einer einzigen Stufe aufgebracht werden [4, 2006.01]
C23C 8/30UGR3
. . .Carbonitrieren [4, 2006.01]
C23C 8/32UGR4
. . . .von eisenhaltigen Oberflächen [4, 2006.01]
C23C 8/34UGR2
. .wobei mehrere Elemente in mehreren Stufen aufgebracht werden [4, 2006.01]
C23C 8/36UGR2
. .unter Verwendung ionisierter Gase, z.B. Ionitrieren [4, 2006.01]
C23C 8/38UGR3
. . .Behandlung von eisenhaltigen Oberflächen [4, 2006.01]
C23C 8/40UGR1
.unter Verwendung von Flüssigkeiten, z.B. von Salzbädern, von flüssigen Suspensionen [4, 2006.01]
C23C 8/42UGR2
. .wobei nur ein einziges Element aufgebracht wird [4, 2006.01]
C23C 8/44UGR3
. . .Aufkohlen [Karburieren] [4, 2006.01]
C23C 8/46UGR4
. . . .von eisenhaltigen Oberflächen [4, 2006.01]
C23C 8/48UGR3
. . .Nitrieren [4, 2006.01]
C23C 8/50UGR4
. . . .von eisenhaltigen Oberflächen [4, 2006.01]
C23C 8/52UGR2
. .wobei mehrere Elemente in einer einzigen Stufe aufgebracht werden [4, 2006.01]
C23C 8/54UGR3
. . .Carbonitrieren [4, 2006.01]
C23C 8/56UGR4
. . . .von eisenhaltigen Oberflächen [4, 2006.01]
C23C 8/58UGR2
. .wobei mehrere Elemente in mehreren Stufen aufgebracht werden [4, 2006.01]
C23C 8/60UGR1
.unter Verwendung von Feststoffen, z.B. von Pulvern, von Pasten (unter Verwendung flüssiger Suspensionen von Feststoffen C23C 8/40) [4, 2006.01]
C23C 8/62UGR2
. .wobei nur ein einziges Element aufgebracht wird [4, 2006.01]
C23C 8/64UGR3
. . .Aufkohlen [Karburieren] [4, 2006.01]
C23C 8/66UGR4
. . . .von eisenhaltigen Oberflächen [4, 2006.01]
C23C 8/68UGR3
. . .Borieren [4, 2006.01]
C23C 8/70UGR4
. . . .von eisenhaltigen Oberflächen [4, 2006.01]
C23C 8/72UGR2
. .wobei mehrere Elemente in einer einzigen Stufe aufgebracht werden [4, 2006.01]
C23C 8/74UGR3
. . .Carbonitrieren [4, 2006.01]
C23C 8/76UGR4
. . . .von eisenhaltigen Oberflächen [4, 2006.01]
C23C 8/78UGR2
. .wobei mehrere Elemente in mehreren Stufen aufgebracht werden [4, 2006.01]
C23C 8/80UGR1
.Nachbehandlung [4, 2006.01]
C23C 10/00HGRDiffusion im festen Zustand nur von metallischen Elementen oder von Silicium in Oberflächen metallischer Werkstoffe [4, 2006.01]
C23C 10/02UGR1
.Vorbehandlung des zu überziehenden Werkstoffs (C23C 10/04 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 10/04UGR1
.Diffusion in ausgewählte Oberflächenbereiche, z.B. unter Verwendung von Masken [4, 2006.01]
C23C 10/06UGR1
.unter Verwendung von Gasen [4, 2006.01]
C23C 10/08UGR2
. .wobei nur ein einziges Element diffundiert wird [4, 2006.01]
C23C 10/10UGR3
. . .Inchromieren [4, 2006.01]
C23C 10/12UGR4
. . . .von eisenhaltigen Oberflächen [4, 2006.01]
C23C 10/14UGR2
. .wobei mehrere Elemente in einer einzigen Stufe diffundiert werden [4, 2006.01]
C23C 10/16UGR2
. .wobei mehrere Elemente in mehreren Stufen diffundiert werden [4, 2006.01]
C23C 10/18UGR1
.unter Verwendung von Flüssigkeiten, z.B. von Salzbädern, von flüssigen Suspensionen [4, 2006.01]
C23C 10/20UGR2
. .wobei nur ein einziges Element diffundiert wird [4, 2006.01]
C23C 10/22UGR3
. . .unter Verwendung einer das zu diffundierende Element enthaltenden Metallschmelze [4, 2006.01]
C23C 10/24UGR3
. . .unter Verwendung eines das zu diffundierende Element enthaltenden Salzbades [4, 2006.01]
C23C 10/26UGR2
. .wobei mehrere Elemente diffundiert werden [4, 2006.01]
C23C 10/28UGR1
.unter Verwendung von Feststoffen, z.B. von Pulvern, von Pasten [4, 2006.01]
C23C 10/30UGR2
. .unter Verwendung einer Pulverschicht oder Pastenschicht auf der Oberfläche (unter Verwendung flüssiger Suspensionen von Feststoffen C23C 10/18) [4, 2006.01]
C23C 10/32UGR3
. . .Inchromieren [4, 2006.01]
C23C 10/34UGR2
. .durch Einbetten in ein Pulvergemisch, d.h. Packzementieren [4, 2006.01]
C23C 10/36UGR3
. . .wobei nur ein einziges Element diffundiert wird [4, 2006.01]
C23C 10/38UGR4
. . . .Inchromieren [4, 2006.01]
C23C 10/40UGR5
. . . . .von eisenhaltigen Oberflächen [4, 2006.01]
C23C 10/42UGR6
. . . . . .in Gegenwart flüchtiger Transporthilfsmittel, z.B. halogenierter Substanzen [4, 2006.01]
C23C 10/44UGR4
. . . .Silicieren [4, 2006.01]
C23C 10/46UGR5
. . . . .von eisenhaltigen Stoffen [4, 2006.01]
C23C 10/48UGR4
. . . .Aluminisieren [4, 2006.01]
C23C 10/50UGR5
. . . . .von eisenhaltigen Oberflächen [4, 2006.01]
C23C 10/52UGR3
. . .wobei mehrere Elemente in einer einzigen Stufe diffundiert werden [4, 2006.01]
C23C 10/54UGR4
. . . .Diffundieren mindestens von Chrom [4, 2006.01]
C23C 10/56UGR5
. . . . .und mindestens von Aluminium [4, 2006.01]
C23C 10/58UGR3
. . .wobei mehrere Elemente in mehreren Stufen diffundiert werden [4, 2006.01]
C23C 10/60UGR1
.Nachbehandlung [4, 2006.01]
C23C 12/00HGRDiffusion im festen Zustand mindestens eines nichtmetallischen Elements außer Silicium und mindestens eines metallischen Elements oder von Silicium in die Oberfläche metallischer Werkstoffe [4, 2006.01]
C23C 12/02UGR1
.Diffusion in einer einzigen Stufe [4, 2006.01]
C23C 14/00ZWBeschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation [4]
C23C 14/00HGRBeschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials [4, 2006.01]
C23C 14/02UGR1
.Vorbehandlung des zu beschichtenden Werkstoffs (C23C 14/04 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 14/04UGR1
.Beschichten ausgewählter Oberflächenbereiche, z.B. unter Verwendung von Masken [4, 2006.01]
C23C 14/06UGR1
.gekennzeichnet durch das Beschichtungsmaterial (C23C 14/04 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 14/08UGR2
. .Oxide (C23C 14/10 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 14/10UGR2
. .Glas oder Siliciumdioxid [4, 2006.01]
C23C 14/12UGR2
. .Organische Stoffe [4, 2006.01]
C23C 14/14UGR2
. .Metallische Stoffe, Bor oder Silicium [4, 2006.01]
C23C 14/16UGR3
. . .Aufbringen auf metallische Substrate oder auf Substrate aus Bor oder Silicium [4, 2006.01]
C23C 14/18UGR3
. . .Aufbringen auf andere anorganische Substrate [4, 2006.01]
C23C 14/20UGR3
. . .Aufbringen auf organische Substrate [4, 2006.01]
C23C 14/22UGR1
.gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren [4, 2006.01]
C23C 14/24UGR2
. .Vakuumbedampfen [4, 2006.01]
C23C 14/26UGR3
. . .durch Widerstandsbeheizung oder induktives Erhitzen der Quelle [4, 2006.01]
C23C 14/28UGR3
. . .durch Wellenenergie oder Teilchenbestrahlung (C23C 14/32-C23C 14/48 haben Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 14/30UGR4
. . . .durch Elektronenbeschuss [4, 2006.01]
C23C 14/32UGR3
. . .durch Explosiondurch Verdampfen und anschließendes Ionisieren der Dämpfe (C23C 14/34-C23C 14/48 haben Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 14/34UGR2
. .durch Aufstäuben [4, 2006.01]
C23C 14/35UGR3
. . .durch Anwendung eines magnetischen Feldes, z.B. Magnetron-Zerstäubung [5, 2006.01]
C23C 14/36UGR3
. . .durch Diodenaufstäuben (C23C 14/35 hat Vorrang) [4, 5, 2006.01]
C23C 14/38UGR4
. . . .durch Gleichstrom-Glimmentladung [4, 2006.01]
C23C 14/40UGR4
. . . .mit Wechselstromentladung, z.B. Hochfrequenzentladung [4, 2006.01]
C23C 14/42UGR3
. . .durch Triodenaufstäuben (C23C 14/35 hat Vorrang) [4, 5, 2006.01]
C23C 14/44UGR4
. . . .durch Anwendung von Hochfrequenz und zusätzlicher Gleichspannung [4, 2006.01]
C23C 14/46UGR3
. . .durch von einer externen Ionenquelle erzeugte Ionenstrahlen (C23C 14/40 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 14/48UGR2
. .Ionenimplantation [4, 2006.01]
C23C 14/50UGR2
. .Substrathalter [4, 2006.01]
C23C 14/52UGR2
. .Mittel zur Beobachtung des Beschichtungsvorganges [4, 2006.01]
C23C 14/54UGR2
. .Steuern oder Regeln des Beschichtungsvorganges [4, 2006.01]
C23C 14/56UGR2
. .für kontinuierliches Beschichten besonders ausgebildete VorrichtungenEinrichtungen zur Aufrechterhaltung des Vakuums, z.B. Vakuumschleusen [4, 2006.01]
C23C 14/58UGR1
.Nachbehandlung [4, 2006.01]
C23C 16/00ZWChemisches Abscheiden oder Beschichten durch ZersetzungKontaktbeschichten [4]
C23C 16/00HGRChemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase [Chemical Vapour Deposition = CVD] (reaktives Aufstäuben oder Vakuumbedampfen C23C 14/00) [4, 2006.01]
C23C 16/01UGR1
.auf Hilfssubstraten, z.B. auf Substraten, die nachträglich durch Ätzen entfernt werden [7, 2006.01]
C23C 16/02UGR1
.Vorbehandlung des zu beschichtenden Werkstoffs (C23C 16/04 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 16/04UGR1
.Beschichten ausgewählter Oberflächenbereiche, z.B. unter Verwendung von Masken [4, 2006.01]
C23C 16/06UGR1
.gekennzeichnet durch das Abscheiden metallischer Stoffe [4, 2006.01]
C23C 16/08UGR2
. .aus Metallhalogeniden [4, 2006.01]
C23C 16/10UGR3
. . .Alleiniges Abscheiden von Chrom [4, 2006.01]
C23C 16/12UGR3
. . .Alleiniges Abscheiden von Aluminium [4, 2006.01]
C23C 16/14UGR3
. . .Alleiniges Abscheiden nur eines anderen metallischen Elements [4, 2006.01]
C23C 16/16UGR2
. .aus Metallcarbonylverbindungen [4, 2006.01]
C23C 16/18UGR2
. .aus metallorganischen Verbindungen [4, 2006.01]
C23C 16/20UGR3
. . .Alleiniges Abscheiden von Aluminium [4, 2006.01]
C23C 16/22UGR1
.gekennzeichnet durch das Abscheiden anderer anorganischer Stoffe als metallischer Stoffe [4, 2006.01]
C23C 16/24UGR2
. .Alleiniges Abscheiden von Silicium [4, 2006.01]
C23C 16/26UGR2
. .Alleiniges Abscheiden von Kohlenstoff [4, 2006.01]
C23C 16/27UGR3
. . .nur Diamant [7, 2006.01]
C23C 16/28UGR2
. .Alleiniges Abscheiden nur eines anderen nichtmetallischen Elements [4, 2006.01]
C23C 16/30UGR2
. .Abscheiden von Verbindungen, Gemischen oder festen Lösungen, z.B. von Boriden, Carbiden, Nitriden [4, 2006.01]
C23C 16/32UGR3
. . .von Carbiden [4, 2006.01]
C23C 16/34UGR3
. . .von Nitriden [4, 2006.01]
C23C 16/36UGR3
. . .von Carbonitriden [4, 2006.01]
C23C 16/38UGR3
. . .von Boriden [4, 2006.01]
C23C 16/40UGR3
. . .von Oxiden [4, 2006.01]
C23C 16/42UGR3
. . .von Siliciden [4, 2006.01]
C23C 16/44UGR1
.gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren (C23C 16/04 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 16/442UGR2
. .unter Verwendung von Fließbettverfahren [7, 2006.01]
C23C 16/448UGR2
. .gekennzeichnet durch das Verfahren zum Erzeugen von Reaktionsgasströmen, z.B. durch Verdampfung oder Sublimation von Vorläufermaterialien [7, 2006.01]
C23C 16/452UGR3
. . .durch Aktivieren der Reaktionsgasströme vor Einführung in den Reaktionsraum, z.B. durch Ionisierung oder durch Zuführung reaktiver Komponenten [7, 2006.01]
C23C 16/453UGR2
. .Hindurchführen der Reaktionsgase durch Brenner oder Plasmabrenner, z.B. Normaldruck-CVD (C23C 16/513 hat Vorrang; Flamm- oder Plasmaspritzen des Beschichtungsmaterials in flüssigem Zustand C23C 4/00) [7, 2006.01]
C23C 16/455UGR2
. .gekennzeichnet durch das Verfahren zum Einführen von Gasen in den Reaktionsraum oder zum Modifizieren von Gasströmungen im Reaktionsraum [7, 2006.01]
C23C 16/458UGR2
. .gekennzeichnet durch die Art der Substrat-Halterung im Reaktionsraum [7, 2006.01]
C23C 16/46UGR2
. .gekennzeichnet durch das Verfahren zum Erhitzen des Substrats (C23C 16/48 , C23C 16/50 haben Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 16/48UGR2
. .durch Bestrahlung, z.B. durch Fotolyse, durch Radiolyse, durch Teilchenbestrahlung [4, 2006.01]
C23C 16/50UGR2
. .unter Anwendung elektrischer Entladungen [4, 2006.01]
C23C 16/503UGR3
. . .unter Anwendung von Gleichstromentladungen oder Wechselstromentladungen [7, 2006.01]
C23C 16/505UGR3
. . .unter Anwendung von Hochfrequenzentladungen [7, 2006.01]
C23C 16/507UGR4
. . . .unter Verwendung externer Elektroden, z.B. in Tunnelreaktoren [7, 2006.01]
C23C 16/509UGR4
. . . .unter Verwendung interner Elektroden [7, 2006.01]
C23C 16/511UGR3
. . .unter Anwendung von Mikrowellenentladungen [7, 2006.01]
C23C 16/513UGR3
. . .unter Anwendung von Plasmastrahlen [7, 2006.01]
C23C 16/515UGR3
. . .unter Anwendung gepulster Entladungen [7, 2006.01]
C23C 16/517UGR3
. . .unter Anwendung einer Kombination von Entladungen, die von mindestens zwei der Gruppen C23C 16/503-C23C 16/515 umfasst sind [7, 2006.01]
C23C 16/52UGR2
. .Steuern oder Regeln des Beschichtungsvorgangs [4, 2006.01]
C23C 16/54UGR2
. .für kontinuierliches Beschichten besonders ausgebildete Vorrichtungen [4, 2006.01]
C23C 16/56UGR1
.Nachbehandlung [4, 2006.01]
C23C 18/00HGRChemisches Beschichten durch Zersetzen entweder flüssiger Verbindungen oder der Lösungen der den Überzug bildenden Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im ÜberzugKontaktbeschichten [4, 2006.01]
C23C 18/02UGR1
.durch thermische Zersetzung [4, 2006.01]
C23C 18/04UGR2
. .Vorbehandlung des zu überziehenden Werkstoffs (C23C 18/06 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 18/06UGR2
. .Beschichten ausgewählter Oberflächenbereiche, z.B. unter Verwendung von Masken [4, 2006.01]
C23C 18/08UGR2
. .gekennzeichnet durch das Abscheiden metallischer Stoffe [4, 2006.01]
C23C 18/10UGR3
. . .Alleiniges Abscheiden von Aluminium [4, 2006.01]
C23C 18/12UGR2
. .gekennzeichnet durch das Abscheiden anderer anorganischer Stoffe als metallischer Stoffe [4, 2006.01]
C23C 18/14UGR1
.Zersetzung durch Bestrahlung, z.B. durch Fotolyse, durch Teilchenstrahlung [4, 2006.01]
C23C 18/16UGR1
.durch Reduktion oder Substitution, d.h. stromloses Beschichten (C23C 18/54 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 18/18UGR2
. .Vorbehandlung des zu beschichtenden Werkstoffs [4, 2006.01]
C23C 18/20UGR3
. . .organischer Oberflächen, z.B. Harze [4, 2006.01]
C23C 18/22UGR4
. . . .Aufrauen, z.B. durch Ätzen [4, 2006.01]
C23C 18/24UGR5
. . . . .unter Verwendung saurer wässriger Lösungen [4, 2006.01]
C23C 18/26UGR5
. . . . .unter Verwendung organischer Flüssigkeiten [4, 2006.01]
C23C 18/28UGR4
. . . .Sensibilisieren oder Aktivieren [4, 2006.01]
C23C 18/30UGR5
. . . . .Aktivieren [4, 2006.01]
C23C 18/31UGR2
. .Beschichten mit Metallen [5, 2006.01]
C23C 18/32UGR3
. . .Beschichten entweder nur mit Eisen oder nur mit Cobalt oder nur mit NickelBeschichten mit Mischungen von Phosphor oder Bor mit einem dieser Metalle [4, 5, 2006.01]
C23C 18/34UGR4
. . . .unter Verwendung von Reduktionsmitteln [4, 5, 2006.01]
C23C 18/36UGR5
. . . . .unter Verwendung von Hypophosphiten [4, 5, 2006.01]
C23C 18/38UGR3
. . .Beschichten mit Kupfer [4, 5, 2006.01]
C23C 18/40UGR4
. . . .unter Verwendung von Reduktionsmitteln [4, 5, 2006.01]
C23C 18/42UGR3
. . .Beschichten mit Edelmetallen [4, 5, 2006.01]
C23C 18/44UGR4
. . . .unter Verwendung von Reduktionsmitteln [4, 5, 2006.01]
C23C 18/48UGR2
. .Beschichten mit Legierungen [4, 5, 2006.01]
C23C 18/50UGR3
. . .mit Legierungen auf Basis von Eisen, Cobalt oder Nickel (C23C 18/32 hat Vorrang) [4, 5, 2006.01]
C23C 18/52UGR2
. .unter Verwendung von Reduktionsmitteln zum Beschichten mit metallischen Stoffen, soweit nicht in einer einzelnen der Gruppen C23C 18/32-C23C 18/50 vorgesehen [4, 2006.01]
C23C 18/54UGR1
.Kontaktbeschichten, d.h. stromlose elektrochemische Austauschmetallisierung [4, 2006.01]
C23C 20/00HGRChemisches Beschichten durch Zersetzen entweder fester Verbindungen oder von Suspensionen der den Überzug bildenden Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug [4, 2006.01]
C23C 20/02UGR1
.Beschichten mit metallischen Stoffen [4, 2006.01]
C23C 20/04UGR2
. .mit Metallen [4, 2006.01]
C23C 20/06UGR1
.Beschichten mit anderen anorganischen Stoffen als metallischen Stoffen [4, 2006.01]
C23C 20/08UGR2
. .mit Verbindungen, Gemischen oder festen Lösungen, z.B. mit Boriden, mit Carbiden, mit Nitriden [4, 2006.01]
C23C 22/00ZWE
C23C 22/00HGRChemische Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Reaktion der Oberfläche mit einer reagierenden Flüssigkeit, wobei Reaktionsprodukte des Oberflächenmaterials im Überzug verbleiben, z.B. Umwandlungsschichten, Passivierung von Metallen [4, 2006.01]
C23C 22/02UGR1
.unter Verwendung nichtwässriger Lösungen [4, 2006.01]
C23C 22/03UGR2
. .Phosphorverbindungen enthaltend [4, 2006.01]
C23C 22/04UGR2
. .Verbindungen des sechswertigen Chroms enthaltend [4, 2006.01]
C23C 22/05UGR1
.unter Verwendung wässriger Lösungen [5, 2006.01]
C23C 22/06UGR2
. .unter Verwendung saurer wässriger Lösungen mit pH-Wert < 6 [4, 5, 2006.01]
C23C 22/07UGR3
. . .Phosphate enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/08UGR4
. . . .Orthophosphate [4, 5, 2006.01]
C23C 22/10UGR5
. . . . .Oxidationsmittel enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/12UGR5
. . . . .Zink-Kationen enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/13UGR6
. . . . . .zusätzlich Nitrat- oder Nitrit-Anionen enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/14UGR6
. . . . . .zusätzlich Chlorat-Anionen enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/16UGR6
. . . . . .zusätzlich Peroxiverbindungen enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/17UGR6
. . . . . .zusätzlich organische Säuren enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/18UGR5
. . . . .Mangan-Kationen enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/20UGR5
. . . . .Aluminium-Kationen enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/22UGR5
. . . . .Erdalkalimetall-Kationen enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/23UGR4
. . . .kondensierte Phosphate [4, 5, 2006.01]
C23C 22/24UGR3
. . .Verbindungen des sechswertigen Chroms enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/26UGR4
. . . .zusätzlich organische Verbindungen enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/27UGR5
. . . . .Säuren [4, 5, 2006.01]
C23C 22/28UGR5
. . . . .Makromolekulare Verbindungen [4, 5, 2006.01]
C23C 22/30UGR4
. . . .zusätzlich Verbindungen des dreiwertigen Chroms enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/32UGR4
. . . .zusätzlich Metallpulver enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/33UGR4
. . . .zusätzlich Phosphate enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/34UGR3
. . .Fluoride oder komplexe Fluoride enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/36UGR4
. . . .zusätzlich Phosphate enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/37UGR4
. . . .zusätzlich Verbindungen des sechswertigen Chroms enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/38UGR5
. . . . .zusätzlich Phosphate enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/40UGR3
. . .Molybdate, Wolframate oder Vanadate enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/42UGR4
. . . .zusätzlich Phosphate enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/43UGR4
. . . .zusätzlich Verbindungen des sechswertigen Chroms enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/44UGR4
. . . .zusätzlich Fluoride oder komplexe Fluoride enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/46UGR3
. . .Oxalate enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/47UGR4
. . . .zusätzlich Phosphate enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/48UGR3
. . .keine Phosphate, Verbindungen des sechswertigen Chroms, Fluoride oder komplexe Fluoride, Molybdate, Wolframate, Vanadate oder Oxalate enthaltend [4, 5, 2006.01]
C23C 22/50UGR4
. . . .Behandlung von Eisen oder von Legierungen auf dessen Basis [4, 5, 2006.01]
C23C 22/52UGR4
. . . .Behandlung von Kupfer oder von Legierungen auf dessen Basis [4, 5, 2006.01]
C23C 22/53UGR4
. . . .Behandlung von Zink oder von Legierungen auf dessen Basis [4, 5, 2006.01]
C23C 22/54UGR4
. . . .Behandlung von hochtemperaturbeständigen Metallen oder von Legierungen auf deren Basis [4, 5, 2006.01]
C23C 22/56UGR4
. . . .Behandlung von Aluminium oder von Legierungen auf dessen Basis [4, 5, 2006.01]
C23C 22/57UGR4
. . . .Behandlung von Magnesium oder von Legierungen auf dessen Basis [4, 5, 2006.01]
C23C 22/58UGR4
. . . .Behandlung von anderen metallischen Werkstoffen [4, 5, 2006.01]
C23C 22/60UGR2
. .unter Verwendung von alkalischen wässrigen Lösungen mit pH-Wert > 8 [4, 5, 2006.01]
C23C 22/62UGR3
. . .Behandlung von Eisen oder von Legierungen auf dessen Basis [4, 5, 2006.01]
C23C 22/63UGR3
. . .Behandlung von Kupfer oder von Legierungen auf dessen Basis [4, 5, 2006.01]
C23C 22/64UGR3
. . .Behandlung von hochtemperaturbeständigen Metallen oder von Legierungen auf deren Basis [4, 5, 2006.01]
C23C 22/66UGR3
. . .Behandlung von Aluminium oder von Legierungen auf dessen Basis [4, 5, 2006.01]
C23C 22/67UGR4
. . . .mit Lösungen, die sechswertiges Chrom enthalten [4, 5, 2006.01]
C23C 22/68UGR2
. .unter Verwendung von Lösungen mit pH-Werten zwischen 6 und 8 [4, 5, 2006.01]
C23C 22/70UGR1
.unter Verwendung von Schmelzen [4, 2006.01]
C23C 22/72UGR2
. .Behandlung von Eisen oder von Legierungen auf dessen Basis [4, 2006.01]
C23C 22/73UGR1
.gekennzeichnet durch das Verfahren [4, 2006.01]
C23C 22/74UGR2
. .zur Herstellung von eingebrannten Umwandlungsschichten [4, 2006.01]
C23C 22/76UGR2
. .Aufbringen der Flüssigkeit durch Sprühen [4, 2006.01]
C23C 22/77UGR2
. .Steuern oder Regeln des Beschichtungsvorgangs [4, 2006.01]
C23C 22/78UGR1
.Vorbehandlung des zu beschichtenden Werkstoffs [4, 2006.01]
C23C 22/80UGR2
. .mit Lösungen, die Titan- oder Zirkoniumverbindungen enthalten [4, 2006.01]
C23C 22/82UGR1
.Nachbehandlung [4, 2006.01]
C23C 22/83UGR2
. .Chemische Nachbehandlung [4, 2006.01]
C23C 22/84UGR2
. .Färben [4, 2006.01]
C23C 22/86UGR1
.Regenerierung von Beschichtungsbädern [4, 2006.01]
C23C 24/00HGRBeschichten, ausgehend von anorganischem Pulver (Aufsprühen des Beschichtungsmaterials im geschmolzenen Zustand C23C 4/00; Diffusion im festen Zustand C23C 8/00-C23C 12/00) [4, 2006.01]
C23C 24/02UGR1
.durch alleiniges Anwenden von Druck [4, 2006.01]
C23C 24/04UGR2
. .kinetische oder Aufprallbeschichtung [4, 2006.01]
C23C 24/06UGR2
. .Komprimieren von gepulvertem Beschichtungsmaterial, z.B. durch Walzen [4, 2006.01]
C23C 24/08UGR1
.durch Anwendung von Hitze oder von Druck und Hitze (C23C 24/04 hat Vorrang) [4, 2006.01]
C23C 24/10UGR2
. .unter vorübergehender Bildung einer flüssigen Phase in der Schicht [4, 2006.01]
C23C 26/00HGRBeschichten, soweit nicht in den Gruppen C23C 2/00-C23C 24/00 vorgesehen [4, 2006.01]
C23C 26/02UGR1
.Aufbringen geschmolzenen Materials auf das Substrat [4, 2006.01]
C23C 28/00HGRBeschichten zur Herstellung von mindestens zwei übereinanderliegenden Schichten entweder durch Verfahren, die nicht in einer einzelnen der Hauptgruppen C23C 2/00-C23C 26/00 vorgesehen sind, oder durch Kombinationen von in den Unterklassen C23C und C25D vorgesehenen Verfahren [4, 2006.01]
C23C 28/02UGR1
.nur Schichten aus metallischen Stoffen [4, 2006.01]
C23C 28/04UGR1
.nur Schichten aus anorganischen nichtmetallischen Stoffen [4, 2006.01]
C23C 30/00HGRBeschichten mit metallischen Stoffen, gekennzeichnet nur durch die Zusammensetzung des metallischen Stoffes, d.h. nicht durch das Beschichtungsverfahren gekennzeichnet (C23C 26/00 , C23C 28/00 haben Vorrang) [4, 2006.01]