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A
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TÄGLICHER LEBENSBEDARF
B
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ARBEITSVERFAHREN; TRANSPORTIEREN
C
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CHEMIE; HÜTTENWESEN
D
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TEXTILIEN; PAPIER
E
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BAUWESEN; ERDBOHREN; BERGBAU
F
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MASCHINENBAU; BELEUCHTUNG; HEIZUNG; WAFFEN; SPRENGEN
G
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PHYSIK
G01
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INSTRUMENTE
G01
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MESSEN (Zählen G06M)PRÜFEN
G02
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OPTIK (Herstellung optischer Elemente oder Geräte B24B , B29D 11/00 , C03 oder andere passende Unterklassen oder Klassen; Materialien an sich, siehe die zuständigen Stellen, z. B. C03B , C03C)
G03
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PHOTOGRAPHIEKINEMATOGRAPHIEANALOGE TECHNIKEN UNTER VERWENDUNG VON NICHT OPTISCHEN WELLENELEKTROGRAPHIEHOLOGRAPHIE (Aufzeichnen durch Abtasten und Umwandeln in elektrische Signale H04N) [4]
G03B
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GERÄTE ODER ANORDNUNGEN ZUM AUFNEHMEN, PROJIZIEREN ODER BETRACHTEN VON PHOTOGRAPHIENGERÄTE ODER ANORDNUNGEN, DIE SICH ANALOGER TECHNIKEN UNTER VERWENDUNG VON NICHT OPTISCHEN WELLEN BEDIENENZUBEHÖR DAFÜR (optische Teile für solche Apparate G02B; Systeme zum automatischen Erzeugen von Scharfeinstellsignalen für optische Elemente an sich G02B 7/28; lichtempfindliche Materialien oder Verfahren für photographische Zwecke G03C; Geräte für die Behandlung von belichteten photographischen Materialien G03D) [4]
G03C
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LICHTEMPFINDLICHE MATERIALIEN FÜR PHOTOGRAPHISCHE ZWECKE (für photomechanische Zwecke G03F)PHOTOGRAPHISCHE VERFAHREN, z. B. KINEMATOGRAPHISCHE, RÖNTGEN-, FARB-, STEREOPHOTOGRAPHISCHE VERFAHRENHILFSVERFAHREN IN DER PHOTOGRAPHIE (photographische Verfahren gekennzeichnet durch Gebrauch oder Verwendung von Apparaten an sich G03B , siehe G03B; photomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen G03F; Elektrographie, Elektrophotographie, Magnetographie G03G)
G03D
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GERÄTE FÜR DIE BEHANDLUNG VON BELICHTETEN PHOTOGRAPHISCHEN MATERIALIEN (Geräte speziell ausgebildet für photomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen G03F)ZUBEHÖR DAFÜR (lichtempfindliche Materialien für photographische Zwecke G03C; elektrographische, elektrophotographische oder magnetographische Methoden oder Geräte G03G)
G03F
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PHOTOMECHANISCHE HERSTELLUNG STRUKTURIERTER ODER GEMUSTERTER OBERFLÄCHEN, z. B. ZUM DRUCKEN, ZUM HERSTELLEN VON HALBLEITERBAUELEMENTENMATERIALIEN DAFÜRKOPIERVORLAGEN DAFÜRVORRICHTUNGEN BESONDERS AUSGEBILDET DAFÜR (Lichtsetzmaschinen B41B; lichtempfindliche Materialien oder photographische Verfahren G03C; Elektrographie, lichtempfindliche Schichten oder Verfahren dafür G03G)
G03F 1/00
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Herstellung von Kopiervorlagen für die photomechanische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen (photomechanische Verfahren allgemein G03F 7/00) [3]
G03F 3/00
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FarbtrennungBerichtigung des Farbwertes (photographische Kopierapparate allgemein G03B)
G03F 5/00
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RasterverfahrenRaster dafür
G03F 7/00
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Photomechanische, z.B. photolithographische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. DruckflächenMaterialien dafür, z.B. mit Photolacken [Resists]Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür (Photolackstrukturen für spezielle Herstellungsverfahren siehe die entsprechenden Stellen z.B. B44C , H01L , z.B. H01L 21/00 , H05K) [3, 5]
G03F 7/004
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.Lichtempfindliche Materialien (G03F 7/12 , G03F 7/14 haben Vorrang) [5]
G03F 7/008
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. .Azide (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/012
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. . .Makromolekulare Azidemakromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5]
G03F 7/016
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. .Diazoniumsalze oder -verbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/02
(umfasst von G03F 7/00G03F 7/26)
G03F 7/021
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. . .Makromolekulare Diazoniumverbindungenmakromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5]
G03F 7/022
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. .Chinondiazide (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/023
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. . .Makromolekulare Chinondiazidemakromolekulare Zusätze, z.B. Bindemittel [5]
G03F 7/025
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. .Nicht-makromolekulare photopolymerisierbare Verbindungen mit Kohlenstoff- Kohlenstoff-Dreifachbindung, z.B. Acetylenverbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/027
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. .Nicht-makromolekulare photopolymerisierbare Verbindungen mit Kohlenstoff- Kohlenstoff Doppelbindung, z.B. Ethylenverbindungen (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/028
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. . .mit Zusätzen zum Erhöhen der Lichtempfindlichkeit, z.B. Photoinitiatoren [5]
G03F 7/029
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. . . .Anorganische VerbindungenOniumverbindungenorganische Verbindungen mit anderen Heteroatomen als Sauerstoff, Stickstoff oder Schwefel [5]
G03F 7/031
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. . . .Organische Verbindungen soweit nicht von G03F 7/029 umfaßt [5]
G03F 7/032
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. . .mit Bindemitteln [5]
G03F 7/033
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. . . .mit Polymeren als Bindemittel, die ausschließlich durch Reaktionen von ungesättigten Kohlenstoff-Kohlenstoff Bindungen erhalten werden, z.B. Vinylpolymere [5]
G03F 7/035
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. . . .mit Polyurethanen als Bindemittel [5]
G03F 7/037
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. . . .mit Polyamiden oder Polyimiden als Bindemittel [5]
G03F 7/038
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. .makromolekulare Verbindungen, die unlöslich oder unterschiedlich benetzbar gemacht werden (G03F 7/075 hat Vorrang; makromolekulare Azide G03F 7/012; makromolekulare Diazoniumverbindungen G03F 7/021) [5]
G03F 7/039
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. .Makromolekulare photodepolymerisierbare Verbindungen, z.B. positiv arbeitende elektronenempfindliche Photolacke [Resists] (G03F 7/075 hat Vorrang; makromolekulare Chinondiazide G03F 7/023) [5]
G03F 7/04
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. .Chromate (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/06
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. .Silbersalze (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/07
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. . .für Diffusionsübertragung [5]
G03F 7/075
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. .Siliziumhaltige Verbindungen [5]
G03F 7/08
(überführt nach G03F 7/016G03F 7/022)
G03F 7/085
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. .Lichtempfindliche Zusammensetzungen gekennzeichnet durch haftungsverbessernde nicht- makromolekulare Zusätze (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/09
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. .gekennzeichnet durch Einzelheiten des Aufbaus, z.B. Schichtträger, Hilfsschichten (Schichtträger für Druckformen allgemein B41N) [5]
G03F 7/095
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. . .mit mehr als einer lichtempfindlichen Schicht (G03F 7/075 hat Vorrang) [5]
G03F 7/10
(überführt nach G03F 7/004)
G03F 7/105
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. . .mit Substanzen, z.B. Indikatoren, zum Sichtbarmachen der Strukturen [5]
G03F 7/11
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. . .mit Deck- oder Zwischenschichten, z.B. Trennschichten [5]
G03F 7/115
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. . .mit Schichtträgern oder Schichten zum Erhalt eines Rastereffektes oder zum Verbessern des Kontaktes beim Kontaktkopieren in einem Vakuumrahmen [5]
G03F 7/12
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.Herstellen von Siebdruck- oder ähnlichen Druckformen, z.B. Schablonen
G03F 7/14
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.Herstellen von Lichtdruckformen
G03F 7/16
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.BeschichtungsverfahrenVorrichtungen dafür (Aufbringen von Beschichtungen auf Trägermaterialien allgemein B05; Aufbringen lichtempfindlicher Zusammensetzungen auf den Schichtträger für photographische Zwecke G03C 1/74)
G03F 7/18
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. .Beschichten gekrümmter Oberflächen
G03F 7/20
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.BelichtenVorrichtungen dafür (photographische Kopiergeräte G03B 27/00) [4]
G03F 7/207
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. .Vorrichtungen zum Scharfeinstellen, z. B. selbsttätig (Kombinationen von Positionieren und Scharfeinstellen G03F 9/02; Vorichtungen zum selbsttätigen Scharfeinstellen von Projektions-Kopier- Geräten G03B 27/34; Systeme zum automatischen Erzeugen von Scharfeinstellungssignalen allgemein G02B 7/28) [4]
G03F 7/213
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. .gleichzeitiges Belichten von verschiedenen Stellen derselben Oberfläche mit demselben Lichtmuster (G03F 7/207 hat Vorrang) [4]
G03F 7/22
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. .aufeinanderfolgendes Belichten von verschiedenen Stellen derselben Oberfläche mit demselben Lichtmuster (G03F 7/207 hat Vorrang) [4]
G03F 7/23
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. . .selbsttätige Vorrichtungen dafür [4]
G03F 7/24
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. .Gekrümmte Oberflächen
G03F 7/26
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.Verarbeitung von lichtempfindlichen MaterialienVorrichtungen dafür (G03F 7/12-G03F 7/24 haben Vorrang) [3, 5]
G03F 7/28
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. .zur Herstellung von Pulverbildern (G03F 3/10 hat Vorrang) [5]
G03F 7/30
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. .Bildmäßiges Entfernen mit Hilfe von Flüssigkeiten [5]
G03F 7/32
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. . .Flüssigkeitszusammensetzungen dafür, z.B. Entwickler [5]
G03F 7/34
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. .Bildmäßiges Entfernen durch selektive Übertragung, z.B. Abziehverfahren [5]
G03F 7/36
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. .Bildmäßiges Entfernen, soweit nicht von den Gruppen G03F 7/30-G03F 7/34 umfaßt, z.B. mittels eines Gasstromes, Plasmas [5]
G03F 7/38
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. .Vorbehandlung vor dem bildmäßigen Entfernen, z.B. Vorbacken [5]
G03F 7/40
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. .Nachbehandlung nach dem bildmäßigen Entfernen, z.B. Backen [5]
G03F 7/42
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. .Abziehen oder Agenzien dafür [5]
G03F 9/00
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Registergerechtes oder sonstiges Positionieren von Kopiervorlagen, Masken, Rastern, photographischen Folien oder strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z. B. selbsttätig (G03F 7/22 hat Vorrang; Herstellen von Kopiervorlagen G03F 1/00; bei photographischen Kopiergeräten zur Herstellung von Kopien G03B 27/00) [4]
G03G
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ELEKTROGRAPHIEELEKTROPHOTOGRAPHIEMAGNETOGRAPHIE (Informationsspeicher mit Relativbewegung zwischen Aufzeichnungsträger und Wandler G11B; statische Speicher mit Einrichtungen zum Einschreiben oder Auslesen von Informationen G11C; Aufzeichnen von Fernsehsignalen H04N 5/76)
G03H
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HOLOGRAPHISCHE VERFAHREN ODER VORRICHTUNGEN (Hologramme, z. B. Punkthologramme, verwendet als reguläre optische Elemente G02B 5/32; Erzielung stereoskopischer oder anderer dreidimensionaler Wirkungen G02B 27/22; Beugungsgittersysteme G02B 27/44; Systeme mit Moir. e-Mustern [Streifen] G02B 27/60; optische logische Elemente G02F 3/00; Stereo-Photographie G03B 35/00 , lichtempfindliche Materialien oder Verfahren für photographische Zwecke G03C; Geräte für die Behandlung von belichteten photographischen Materialien G03D; Analogrechner, die mathematische Operationen mit Hilfe optischer Elemente ausführen, G06E 3/00; Echtheitserkennung durch Strahlung, von verborgener Information, die von Hologrammen oder Beugungsgittern getragen wird G06K 19/16; holographische digitale Speicher G11C 13/00) [2]
G04
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ZEITMESSUNG
G05
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STEUERNREGELN (für bestimmte Anwendungsgebiete, siehe die entsprechenden Stellen dafür, z. B. A62C 37/00 , B23Q)
G06
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DATENVERARBEITUNGRECHNENZÄHLEN (Zählvorrichtungen für Spiele A63B 71/06 , A63D 15/20A63F 1/18; Kombinationen von Schreibgeräten mit Rechenvorrichtungen B43K 29/08)
G07
Hierarchie anzeigen
KONTROLLVORRICHTUNGEN
G08
Hierarchie anzeigen
SIGNALWESEN (Anzeige- oder Sichtvorrichtungen an sich G09F; Übertragung von Bildern H04N; Anordnungen für Selektivruf von einer Station zu einer anderen H04Q 9/00)
G09
Hierarchie anzeigen
UNTERRICHTGEHEIMSCHRIFTANZEIGEREKLAMESIEGEL
G10
Hierarchie anzeigen
MUSIKINSTRUMENTEAKUSTIK
G11
Hierarchie anzeigen
INFORMATIONSSPEICHERUNG
G12
Hierarchie anzeigen
EINZELHEITEN VON INSTRUMENTEN
G21
Hierarchie anzeigen
KERNPHYSIK
G21
Hierarchie anzeigen
KERNPHYSIKKERNTECHNIK
H
Hierarchie anzeigen
ELEKTROTECHNIK

Zu vergleichende IPC-Stelle: Es wurden im Verzeichnis noch keine IPC-Stellen für die Vergleichsansicht vorgemerkt. [Version , Sprache ]