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IPC-Stelle: G03F 1/00 Hauptgruppe [Version 2014.01, Sprache DE - Deutsch]

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Definitionen

Anmerkungen

Sachverzeichnisse

Stich- und Schlagworte

Hierarchielinien

DEKLA-Gruppen

Symbol		Titel
A Hierarchieinformationen		Sektion A — Täglicher Lebensbedarf
B Hierarchieinformationen		Sektion B — Arbeitsverfahren; Transportieren
C Hierarchieinformationen		Sektion C — Chemie; Hüttenwesen
D Hierarchieinformationen		Sektion D — Textilien; Papier
E Hierarchieinformationen		Sektion E — Bauwesen; Erdbohren; Bergbau
F Hierarchieinformationen		Sektion F — Maschinenbau; Beleuchtung; Heizung; Waffen; Sprengen
G Hierarchieinformationen		Sektion G — Physik
G01 Hierarchieinformationen		Instrumente
G01 Hierarchieinformationen		Messen; Prüfen
G02 Hierarchieinformationen		Optik
G03 Hierarchieinformationen		Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie [4]
G03B Hierarchieinformationen		Geräte oder Anordnungen zum Aufnehmen, Projizieren oder Betrachten von Fotografien; Geräte oder Anordnungen, die sich vergleichbarer Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen bedienen; Zubehör dafür (optische Teile für solche Apparate G02B; lichtempfindliche Materialien oder Verfahren für fotografische Zwecke G03C; Geräte für die Behandlung von belichteten fotografischen Materialien G03D) [4]
G03C Hierarchieinformationen		Lichtempfindliche Materialien für fotografische Zwecke; fotografische Verfahren, z.B. kinematografische, Röntgen-, Farb- oder stereofotografische Verfahren; Hilfsverfahren in der Fotografie (fotografische Verfahren gekennzeichnet durch Gebrauch oder Verwendung von Apparaten an sich G03B, siehe G03B)
G03D Hierarchieinformationen		Geräte für die Behandlung von belichteten fotografischen Materialien; Zubehör dafür
G03F Hierarchieinformationen		Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür (Lichtsetzmaschinen B41B; lichtempfindliche Materialien oder fotografische Verfahren G03C; Elektrografie, lichtempfindliche Schichten oder Verfahren dafür G03G)
G03F 1/00 Hierarchieinformationen		Kopiervorlagen für die fotomechanische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Masken, Fotomasken oder Zielmarken; zugehörige Maskenrohlinge oder Pellicles; besonders hierfür ausgebildete Behälter; Herstellung derselben [3, 2012.01]
G03F 1/20 Hierarchieinformationen		. Masken oder Maskenrohlinge zur Abbildung mittels Strahlung geladener Teilchen, z.B. mittels Elektronenstrahlung; Herstellung derselben [2012.01]
G03F 1/22 Hierarchieinformationen		. Masken oder Maskenrohlinge zur Abbildung mittels Strahlung von 100 nm oder kürzerer Wellenlänge, z.B. Röntgen-Masken, EUV-Masken; Herstellung derselben [2012.01]
G03F 1/24 Hierarchieinformationen		. . Reflexionsmasken; Herstellung derselben [2012.01]
G03F 1/26 Hierarchieinformationen		. Phasenverschiebungsmasken (PSM); PSM-Rohlinge; Herstellung derselben [2012.01]
G03F 1/28 Hierarchieinformationen		. . mit drei oder mehr unterschiedlichen Phasen auf derselben PSM; Herstellung derselben [2012.01]
G03F 1/29 Hierarchieinformationen		. . Rim-PSM oder Outrigger-PSM; Herstellung derselben [2012.01]
G03F 1/30 Hierarchieinformationen		. . Alternierende PSM, z.B. Levenson-Shibuya-PSM; Herstellung derselben [2012.01]
G03F 1/32 Hierarchieinformationen		. . Abschwächende PSM (attenuating PSM, att PSM), z.B. PSM mit einem halbdurchlässigen Phasenverschiebungsbereich, Halbton-PSM; Herstellung derselben [2012.01]
G03F 1/34 Hierarchieinformationen		. . Phasenkanten-PSM, z.B. chromlose PSM; Herstellung derselben [2012.01]
G03F 1/36 Hierarchieinformationen		. Masken mit Strukturen zur Proximity Correction; Herstellung derselben, z.B. Entwurfsprozesse (Optical Proximity Correction [OPC]) [2012.01]
G03F 1/38 Hierarchieinformationen		. Masken mit Hilfsstrukturen, z.B. speziellen Beschichtungen oder Ausrichtungsmarken oder Prüfmarken; Herstellung derselben [2012.01]
G03F 1/40 Hierarchieinformationen		. . Besonderheiten, die auf die elektrostatische Entladung [ESD] bezogen sind, z.B. antistatische Beschichtungen oder ein elektrisch leitfähiger Metallmantel, der das Äußere des Maskensubstrates umschließt [2012.01]
G03F 1/42 Hierarchieinformationen		. . Strukturen für Ausrichtung, Registrierung oder Identifizierung der Maske, z.B. Ausrichtungsmarken auf den Maskensubstraten [2012.01]
G03F 1/44 Hierarchieinformationen		. . Prüf- oder Messstrukturen, z.B. Gitterstrukturen, Strukturen zur Fokusüberwachung, Sägezahn- oder Kerbskalen [2012.01]
G03F 1/46 Hierarchieinformationen		. . Antireflexbeschichtungen [2012.01]
G03F 1/48 Hierarchieinformationen		. . Schutzbeschichtungen [2012.01]
G03F 1/50 Hierarchieinformationen		. Maskenrohlinge, die nicht durch die Gruppen G03F 1/20-G03F 1/26 abgedeckt werden; Herstellung derselben [2012.01]
G03F 1/52 Hierarchieinformationen		. Reflektoren [2012.01]
G03F 1/54 Hierarchieinformationen		. Absorber, z.B. opakes Material [2012.01]
G03F 1/56 Hierarchieinformationen		. . Organische Absorber, z.B. Fotolack [2012.01]
G03F 1/58 Hierarchieinformationen		. . mit zwei oder mehr verschiedenen Absorberschichten, z.B. Mehrlagenabsorber [2012.01]
G03F 1/60 Hierarchieinformationen		. Substrate [2012.01]
G03F 1/62 Hierarchieinformationen		. Pellikel oder Pellikelanordnungen, z.B. Anordnung eines Pellikels auf einem Stützrahmen; Herstellung derselben [2012.01]
G03F 1/64 Hierarchieinformationen		. . charakterisiert durch die Rahmen, z.B. deren Struktur oder Material [2012.01]
G03F 1/66 Hierarchieinformationen		. Behälter, besonders ausgebildet für Masken, Maskenrohlinge oder Pellikel; Herstellung derselben [2012.01]
G03F 1/68 Hierarchieinformationen		. Herstellungsprozesse, die nicht durch die Gruppen G03F 1/20-G03F 1/50 abgedeckt sind [2012.01]
G03F 1/70 Hierarchieinformationen		. . Anpassung des grundlegenden Entwurfs oder des Aufbaus der Masken an die Anforderungen des lithografischen Prozesses, z.B. Zweischrittkorrektur von Maskenmustern für Abbildungsverfahren [2012.01]
G03F 1/72 Hierarchieinformationen		. . Reparatur oder Korrektur von Maskenfehlern [2012.01]
G03F 1/74 Hierarchieinformationen		. . . mittels Strahlung geladener Teilchen, z.B. fokussierter Ionenstrahl [2012.01]
G03F 1/76 Hierarchieinformationen		. . Erstellen von Mustern auf Masken durch Abbildungsverfahren [2012.01]
G03F 1/78 Hierarchieinformationen		. . . mittels Strahlung geladener Teilchen, z.B. Elektronenstrahlung [2012.01]
G03F 1/80 Hierarchieinformationen		. . Ätzen [2012.01]
G03F 1/82 Hierarchieinformationen		. . Hilfsprozesse, z.B. Reinigen [2012.01]
G03F 1/84 Hierarchieinformationen		. . . Überprüfen [2012.01]
G03F 1/86 Hierarchieinformationen		. . . . mittels Strahlung geladener Teilchen [2012.01]
G03F 1/88 Hierarchieinformationen		. hergestellt mittels fotografischer Arbeitsgänge, um Kopiervorlagen zu bilden, die ein Relief simulieren [2012.01]
G03F 1/90 Hierarchieinformationen		. hergestellt durch Montageverfahren [2012.01]
G03F 1/92 Hierarchieinformationen		. hergestellt ausgehend von Druckflächen [2012.01]
G03F 3/00 Hierarchieinformationen		Farbtrennung; Berichtigung des Farbwertes (fotografische Kopierapparate allgemein G03B)
G03F 5/00 Hierarchieinformationen		Rasterverfahren; Raster dafür
G03F 7/00 Hierarchieinformationen		Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür (Fotolackstrukturen für spezielle Herstellungsverfahren siehe die entsprechenden Stellen z.B. B44C , H01L , z.B. H01L 21/00 , H05K) [3, 5]
G03F 9/00 Hierarchieinformationen		Registergerechtes oder sonstiges Positionieren von Kopiervorlagen, Masken, Rastern, fotografischen Folien oder strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. selbsttätig (G03F 7/22 hat Vorrang; Herstellen von Kopiervorlagen G03F 1/00; bei fotografischen Kopiergeräten zur Herstellung von Kopien G03B 27/00) [4]
G03G Hierarchieinformationen		Elektrografie; Elektrofotografie; Magnetografie (Informationsspeicher mit Relativbewegung zwischen Aufzeichnungsträger und Wandler G11B; statische Speicher mit Einrichtungen zum Einschreiben oder Auslesen von Informationen G11C; Aufzeichnen von Fernsehsignalen H04N 5/76)
G03H Hierarchieinformationen		Holografische Verfahren oder Vorrichtungen (Hologramme, z.B. Punkthologramme, verwendet als reguläre optische Elemente G02B 5/32; Analogrechner, die mathematische Operationen mit Hilfe optischer Elemente ausführen, G06E 3/00; holografische Speicher G11B 7/0065, G11C 13/04) [2]
G04 Hierarchieinformationen		Zeitmessung
G05 Hierarchieinformationen		Steuern; Regeln
G06 Hierarchieinformationen		Datenverarbeitung; Rechnen; Zählen
G07 Hierarchieinformationen		Kontrollvorrichtungen
G08 Hierarchieinformationen		Signalwesen
G09 Hierarchieinformationen		Unterricht; Geheimschrift; Anzeige; Reklame; Siegel
G10 Hierarchieinformationen		Musikinstrumente; Akustik
G11 Hierarchieinformationen		Informationsspeicherung
G12 Hierarchieinformationen		Einzelheiten von Instrumenten
G21 Hierarchieinformationen		Kernphysik
G21 Hierarchieinformationen		Kernphysik; Kerntechnik
G99 Hierarchieinformationen		Sachverhalte, soweit nicht anderweitig in dieser Sektion vorgesehen [2006.01]
H Hierarchieinformationen		Sektion H — Elektrotechnik

Zu vergleichende IPC-Stelle: Es wurden im Verzeichnis noch keine IPC-Stellen für die Vergleichsansicht vorgemerkt. [Version , Sprache ]