Bibliografische Daten

Dokument DE102011057180A1 (Seiten: 31)

Bibliografische Daten Dokument DE102011057180A1 (Seiten: 31)
INID Kriterium Feld Inhalt
54 Titel TI [DE] Antireflexionsbeschichtung
71/73 Anmelder/Inhaber PA Leibniz-Institut fr Neue Materialien gemeinntzige GmbH, 66123, Saarbrcken, DE
72 Erfinder IN Carvalho Menezes, Elisabete Henriquetta Soares de, Pernambuco, Recife, BR ; Jilavi, Mohammad, Dr., 66459, Kirkel, DE ; Knig, Peter, 66822, Lebach, DE ; Oliveira, Peter William de, Dr., 66111, Saarbrcken, DE
22/96 Anmeldedatum AD 30.12.2011
21 Anmeldenummer AN 102011057180
Anmeldeland AC DE
Veröffentlichungsdatum PUB 25.07.2013
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Priorität PRC
PRN
PRD


51 IPC-Hauptklasse ICM C09D 183/04 (2012.01)
51 IPC-Nebenklasse ICS
IPC-Zusatzklasse ICA
IPC-Indexklasse ICI
Gemeinsame Patentklassifikation CPC Neues Fenster: Externer Link Gemeinsame Patentklassifikation C08G 77/58 C08G 77/58
Neues Fenster: Externer Link Gemeinsame Patentklassifikation G02B 1/111 G02B 1/111
Neues Fenster: Externer Link Gemeinsame Patentklassifikation Y10T 428/31663 Y10T 428/31663
Neues Fenster: Externer Link Gemeinsame Patentklassifikation C09D 183/14 C09D 183/14
Neues Fenster: Externer Link Gemeinsame Patentklassifikation C09D 5/006 C09D 5/006
Neues Fenster: Externer Link Gemeinsame Patentklassifikation C09D 1/00 C09D 1/00
MCD-Hauptklasse MCM C09D 183/04 (2006.01)
MCD-Nebenklasse MCS
MCD-Zusatzklasse MCA
57 Zusammenfassung AB [DE] Die Anmeldung beschreibt eine Antireflexionsbeschichtung, erhalten aus einer Zusammensetzung mindestens einer Silanverbindung, mindestens einer Metallverbindung und mindestens einer organischen Verbindung mit mindestens zwei funktionellen Gruppen, welche ein Koordinationspolymer bilden knnen, sowie ein Verfahren zur Herstellung einer Antireflexionsbeschichtung.
Korrekturinformation KORRINF
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt
CT
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt
CT
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt
CTNP
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt
CTNP ASTM D3359 1;
ASTM D3363 1;
B. B. Troitskii, Yu. A. Mamaev, A. A. Babin, M.A. Lopatin, V. N. Denisova, M. A. Novikova, L. V. Khokhlova and T. I. Lopatina, Glass Physics and Chemistry, 2010, 36 (5), 609-616 1;
C. Janiak, Dalton Trans., 2003, 2781-2804 1;
Corma, H. Garca and F. X. Llabrs i Xamena, Chem. Rev. 2010, 110, 4606-4655 1;
Guillemot, A. Brunet-Bruneau, E. Bourgeat-Lami, T. Gacoin, E. Barthel and J.-P. Boilot, Chem. Mater. 2010, 22, 2822-2828 1;
J. D. Figueroa; T. Fout; S. Plasynski; H. Mcllyried; R. D. Srivastava, Int. J. Greenhouse Gas Contr. 2008, 2, 9-20 1;
Jesse L.C. Rowsell, Omar M. Yaghi, Microporous and Mesoporous Materials 73 (2004) 3-14 1;
K. Biswas, S. Gangopadhyay, H.-C. Kim and R. D. Miller, Thin Solid Films 2006, 514, 350-354 1;
M. C. Bautista and A. Morales, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2003, 80, 217-225 1;
O. M. Yaghi and H. Li, J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 10401-10402 1;
P. Falcaro, L. Malfatti, T. Kidchob, G. Giannini, A. Falqui, M. F. Casula, H. Amenitsch, B. Marmiroli, G. Grenci and P. Innocenzi, Chem. Mater. 2009, 21, 2055-2061 1
Zitierende Dokumente Dokumente ermitteln
Sequenzprotokoll
Prüfstoff-IPC ICP C09D 5/00 ; C09D 183/04 ; G02B 1/11