DEPATISnet | Bibliografische Daten

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Bibliografische Daten Dokument DE102006037510B3 (Seiten: 14)
INID	Kriterium	Feld	Inhalt
54	Titel	TI	[DE] Verfahren zum Herstellen einer Grabenstruktur, die Verwendung dieses Verfahrens zur Herstellung einer Halbleiteranordnung und Halbleiteranordnung mit einer Grabenstruktur
71/73	Anmelder/Inhaber	PA	Infineon Technologies Austria AG, Villach, AT
72	Erfinder	IN	Hirler, Franz, Dr., 84424 Isen, DE ; Mauder, Anton, Dr., 83059 Kolbermoor, DE ; Rueb, Michael, Dr., Faak am See, AT ; Schulze, Hans-Joachim, Dr., 85521 Ottobrunn, DE ; Strack, Helmut, Dr., 80804 M�nchen, DE
22/96	Anmeldedatum	AD	10.08.2006
21	Anmeldenummer	AN	102006037510
	Anmeldeland	AC	DE
	Veröffentlichungsdatum	PUB	10.04.2008
33 31 32	Priorität	PRC PRN PRD
51	IPC-Hauptklasse	ICM	H01L 21/336 (2006.01)
51	IPC-Nebenklasse	ICS	H01L 21/762 H01L 29/772
	IPC-Zusatzklasse	ICA
	IPC-Indexklasse	ICI
	Gemeinsame Patentklassifikation	CPC	H01L 21/3247 H01L 21/76224 H01L 29/0653 H01L 29/407 H01L 29/66621 H01L 29/7803 H01L 29/7804
	MCD-Hauptklasse	MCM	H01L 21/336 (2006.01)
	MCD-Nebenklasse	MCS	H01L 21/762 H01L 29/772
	MCD-Zusatzklasse	MCA
57	Zusammenfassung	AB	[DE] Bei einem Verfahren zur Herstellung einer Grabenstruktur wird ein erster Grabenabschnitt von einer Oberfl�che eines Halbleiterk�rpers ausgehend in den Halbleiterk�rper hinein erzeugt. Eine Halbleiterschicht wird �ber der Oberfl�che und �ber den ersten Grabenabschnitt erzeugt. Ein weiterer Grabenabschnitt wird in der Halbleiterschicht derart erzeugt, dass der erste Grabenabschnitt und der weitere Grabenabschnitt eine durchg�ngige Grabenstruktur bilden. Eine Halbleiteranordnung weist eine Grabenstruktur auf, die aus mehreren vertikalen Grabenabschnitten und mindestens einem Verbindungselement zusammengesetzt ist.
56	Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate, in Recherche ermittelt	CT	DE102005039331A1 US000007052941B2
56	Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate, vom Anmelder genannt	CT
56	Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate, in Recherche ermittelt	CTNP
56	Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate, vom Anmelder genannt	CTNP
	Zitierende Dokumente		Dokumente ermitteln
	Sequenzprotokoll
	Prüfstoff-IPC	ICP	H01L 21/336 H01L 21/762 T