Bibliografische Daten

Dokument DE102006033280A1 (Seiten: 20)

Bibliografische Daten Dokument DE102006033280A1 (Seiten: 20)
INID Kriterium Feld Inhalt
54 Titel TI [DE] Kompositzusammensetzung für mikrostrukturierte Schichten
71/73 Anmelder/Inhaber PA Canon K.K., Tokio/Tokyo, JP ; Leibniz-Institut für Neue Materialien gemeinnützige GmbH, 66123 Saarbrücken, DE
72 Erfinder IN Becker-Willinger, Carsten, 66130 Saarbrücken, DE ; Hino, Etsuko, Tokyo, JP ; Kalmes, Pamela, 66589 Merchweiler, DE ; Noguchi, Mitsutoshi, Tokyo, JP ; Ohkuma, Norio, Tokyo, JP ; Saito, Yoshikazu, Tokyo, JP ; Veith, Michael, 66386 St. Ingbert, DE
22/96 Anmeldedatum AD 18.07.2006
21 Anmeldenummer AN 102006033280
Anmeldeland AC DE
Veröffentlichungsdatum PUB 24.01.2008
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Priorität PRC
PRN
PRD


51 IPC-Hauptklasse ICM C08L 101/12 (2006.01)
51 IPC-Nebenklasse ICS G03F 7/00 (2006.01)
C08L 101/02 (2006.01)
G03F 7/004 (2006.01)
H01L 21/02 (2006.01)
G03F 7/075 (2006.01)
IPC-Zusatzklasse ICA
IPC-Indexklasse ICI
Gemeinsame Patentklassifikation CPC Neues Fenster: Externer Link Gemeinsame Patentklassifikation Y10T 428/31663 Y10T 428/31663
Neues Fenster: Externer Link Gemeinsame Patentklassifikation G03F 7/038 G03F 7/038
Neues Fenster: Externer Link Gemeinsame Patentklassifikation G03F 7/0757 G03F 7/0757
Neues Fenster: Externer Link Gemeinsame Patentklassifikation G03F 7/0047 G03F 7/0047
Neues Fenster: Externer Link Gemeinsame Patentklassifikation Y10T 428/24802 Y10T 428/24802
MCD-Hauptklasse MCM C08L 101/12 (2006.01)
MCD-Nebenklasse MCS C08L 101/02 (2006.01)
G03F 7/00 (2006.01)
G03F 7/075 (2006.01)
G03F 7/004 (2006.01)
H01L 21/02 (2006.01)
MCD-Zusatzklasse MCA
57 Zusammenfassung AB [DE] Die Erfindung liefert eine Kompositzusammensetzung, umfassend ein kationisch polymerisierbares organisches Harz, einen kationischen Photoinitiator, ein Hydrolysat und/oder Kondensatz von mindestens einer hydrolysierbaren Silanverbindung und anorganische Nanopartikel. Die Kompositzusammensetzung eignet sich zur Herstellung von strukturierten Formkörpern und Substraten mit einer strukturierten Beschichtung, insbesondere durch Photolithographie. Die erhaltenen Mikromuster zeigen verbesserte Eigenschaften, wie hohe Formstabilität und einen ausgezeichneten Elastizitätsmodul.
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt
CT
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt
CT
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt
CTNP
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt
CTNP
Zitierende Dokumente Dokumente ermitteln
Sequenzprotokoll
Prüfstoff-IPC ICP C08L 101/02 ; C08L 101/12 ; G03F 7/004 ; G03F 7/038 ; G03F 7/075 ; H01L 21/02