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Titel |
TI |
[DE] Abrieb- und kratzfeste Beschichtungen mit niedriger Brechzahl auf einem Substrat |
| 71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
INST NEUE MAT GEMEIN GMBH, DE
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| 72 |
Erfinder |
IN |
ARNDT HEIKE, DE
;
JILAVI MOHAMMAD, DE
;
MENNIG MARTIN, DE
;
OLIVEIRA PETER W, DE
;
SCHMIDT HELMUT, DE
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| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
08.06.2004 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
102004027842 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
12.01.2006 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
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| 51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
C23C 30/00
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| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
B05D 7/24
C03C 17/22
G02B 3/00
G02B 1/10
C03C 17/34
C03C 17/23
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
G02B 1/10
C03C 17/22
C03C 2217/29
C03C 2217/285
G02B 1/113
C03C 2217/21
G02B 1/14
C03C 2218/113
G02B 1/105
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
B05D 7/24
(2006.01)
C03C 17/22
(2006.01)
G02B 1/10
(2006.01)
C23C 30/00
(2006.01)
C03C 17/34
(2006.01)
C03C 17/23
(2006.01)
G02B 3/00
(2006.01)
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
G02B 1/11
(2006.01)
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| 57 |
Zusammenfassung |
AB |
[DE] Beschrieben wird ein Substrat mit einer abrieb- und kratzfesten Beschichtung mit niedriger Brechzahl, umfassend Magnesiumfluorid und mindestens ein Metall- oder Halbmetalloxid. Die Beschichtung kann durch Aufbringen einer Beschichtungszusammensetzung, umfassend Magnesiumfluorid oder eine Vorstufe davon, und mindestens ein Metall- oder Halbmetalloxid oder eine Vorstufe davon, auf ein Substrat und anschließende Wärmebehandlung erhalten werden. DOLLAR A Die Beschichtung eignet sich für optische Schichten insbesondere auf lichtdurchlässigen Substraten. Beispiele für geeignete Anwendungen sind Antireflexschichten und Interferenzschichtpakete. |
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Korrekturinformation |
KORRINF |
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| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
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| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
B05D 7/24
;
C03C 17/22
;
C03C 17/23
;
C03C 17/25
;
C03C 17/34
;
C23C 30/00
;
G02B 1/10
;
G02B 3/00
|
