Bibliografische Daten

Dokument DE000019842576A1 (Seiten: 6)

Bibliografische Daten Dokument DE000019842576A1 (Seiten: 6)
INID Kriterium Feld Inhalt
54 Titel TI [DE] Verfahren zur Beschichtung von Schüttgütern
[EN] Non-contact coating of bulk materials in powder or granule form with multilayers takes place in vacuum or gas as they fall or fly past metallic vapor deposition sources
71/73 Anmelder/Inhaber PA Parthy, Kai, Dipl.-Ing., 50823 Köln, DE
72 Erfinder IN
22/96 Anmeldedatum AD 17.09.1998
21 Anmeldenummer AN 19842576
Anmeldeland AC DE
Veröffentlichungsdatum PUB 23.03.2000
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31
32
Priorität PRC
PRN
PRD


51 IPC-Hauptklasse ICM C23C 14/24
51 IPC-Nebenklasse ICS C03C 17/09
IPC-Zusatzklasse ICA
IPC-Indexklasse ICI
Gemeinsame Patentklassifikation CPC C03C 17/09
C03C 2217/25
C03C 2218/15
C04B 41/4584
C04B 41/81
C09C 1/0078
C09C 3/00
C23C 14/22
C23C 14/223
MCD-Hauptklasse MCM
MCD-Nebenklasse MCS C03C 17/09 (2006.01)
C04B 41/45 (2006.01)
C04B 41/81 (2006.01)
C09C 1/00 (2006.01)
C09C 3/00 (2006.01)
C23C 14/22 (2006.01)
MCD-Zusatzklasse MCA
57 Zusammenfassung AB [DE] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur kostengünstigen Beschichtung von pulvrigen Substraten, wie z. B. Kunststoff-Granulate, mineralische Pulver, wie Glimmer oder reflektierende Glas-Perlen. DOLLAR A Die Partikel fallen frei beweglich an einer Verdampferquelle vorbei und werden durch die seitliche Abstrahlung der Quelle beschichtet.
[EN] The loose particles or granules fall past or fly over one or more vapor sources in vacuum or gas. Preferred features: Deposition onto the particles from vapor in either atomic or ionic form occurs close to the vapor sources. Particles comprise plastic granules, metal powder, pharmaceutical actives, mineral powder e.g. mica, ceramic powder, glass beads or granules of extremely thin transparent plastic film. Particles are thrown through a flight path above the metal vapor source(s). Particles are introduced into the feed vessel via a vacuum lock. They are coated only on sides facing the source. They are alternatively coated from several sides, passing two or more sources vaporizing the same, or different materials. Particles pass a succession of adjacent sources. Materials are vaporized, at suitable rates. Sources are screened from each other by shades or diaphragms. Sources are electrical resistance-heated metal spirals and boats (vaporization crucibles). Vaporization and deposition are plasma-assisted. Electron beam vaporizers are employed, alternatively cathode sputtering or combinations of the foregoing may be used in the same chamber. Particles are accelerated, preferably by a horizontal conveyor or rotating scatter-disc, to fly over the vapor sources.
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt
CT
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt
CT
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt
CTNP
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt
CTNP
Zitierende Dokumente Dokumente ermitteln
Sequenzprotokoll
Prüfstoff-IPC ICP C03C 17/09
C23C 14/24