| 54 |
Title |
TI |
[DE] Verfahren und Vorrichtung zum Vermessen eines Höhenprofils einer Oberfläche entlang einer Vermessungsrichtung |
| 71/73 |
Applicant/owner |
PA |
Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V., 51147, Köln, DE
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| 72 |
Inventor |
IN |
Engels, Jost, 85049, Ingolstadt, DE
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| 22/96 |
Application date |
AD |
Jul 18, 2017 |
| 21 |
Application number |
AN |
102017116095 |
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Country of application |
AC |
DE |
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Publication date |
PUB |
Jan 24, 2019 |
33
31
32 |
Priority data |
PRC
PRN
PRD |
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| 51 |
IPC main class |
ICM |
G01C 7/02
(2006.01)
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| 51 |
IPC secondary class |
ICS |
G01B 11/03
(2006.01)
G01C 3/08
(2006.01)
G01C 5/00
(2006.01)
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IPC additional class |
ICA |
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IPC index class |
ICI |
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Cooperative patent classification |
CPC |
G01B 11/03
G01B 5/20
G01C 3/08
G01C 5/00
G01C 7/02
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MCD main class |
MCM |
G01C 7/02
(2006.01)
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MCD secondary class |
MCS |
G01B 11/03
(2006.01)
G01C 3/08
(2006.01)
G01C 5/00
(2006.01)
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MCD additional class |
MCA |
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Abstract |
AB |
[DE] Zum Vermessen eines Höhenprofils einer Oberfläche (4) entlang einer Vermessungsrichtung (7) wird eine bewegliche Einheit (2) gegenüber einer stationären Einheit (1) ohne mechanische Führung an der stationären Einheit (1) in der Vermessungsrichtung (7) über die Oberfläche (4) verfahren. Dabei wird von einer der Einheiten zu der anderen der Einheiten mindestens ein Lichtstrahl (6, 8, 9) längs der Oberfläche (4) ausgesandt, der in Höhenrichtung eine definierte Ausrichtung zu der Vermessungsrichtung (7) aufweist. Der Lichtstrahl (6, 8, 9) wird von der anderen der Einheiten direkt mit einem optischen Positionssensor (10) empfangen, der in der Höhenrichtung über mindestens 10 cm ausgedehnt ist, so dass es für eine Relativlage der anderen der Einheiten und des Lichtstrahls (6, 8, 9) in der Höhenrichtung empfindlich ist. An der beweglichen Einheit (2) wird eine Höhenlage der Oberfläche (4) gegenüber dem Lichtstrahl (6, 8, 9) festgehalten oder erfasst. |
| 56 |
Cited documents identified in the search |
CT |
JP002000009463A
US000006292258B1
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| 56 |
Cited documents indicated by the applicant |
CT |
DE000010149206A1
DE000010155488A1
DE000019856510A1
DE102008045386A1
EP000001703300A1
EP000002639548A1
US000001428520A
US000003026164A
US000004422322A
US000005549412A
US000006750953B1
US020100131237A1
WO002002010681A1
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| 56 |
Cited non-patent literature identified in the search |
CTNP |
JP 2000 - 9 463 A (Patent Translate) p 0
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| 56 |
Cited non-patent literature indicated by the applicant |
CTNP |
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Citing documents |
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Determine documents
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Sequence listings |
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Search file IPC |
ICP |
G01B 11/03
G01C 3/08
G01C 5/00
G01C 7/02
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