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Titel |
TI |
[DE] SPIRALFEDER UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG
[EN] SPIRAL SPRING AND METHOD FOR PRODUCING SAME
[FR] RESSORT SPIRAL ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION |
| 71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
DAMASKO UHRENMANUFAKTUR KG, DE
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| 72 |
Erfinder |
IN |
MÄNNICKE STEFAN, DE
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| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
25.06.2015 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
2015054783 |
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Anmeldeland |
AC |
IB |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
30.12.2015 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
DE
102014108942
26.06.2014
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33
31
32 |
PRC
PRN
PRD |
DE
102014119731
30.12.2014
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| 51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
G04B 17/06
(2006.01)
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| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
G04B 17/066
G04B 17/325
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
G04B 17/06
(2006.01)
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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Zusammenfassung |
AB |
[DE] Beschrieben wird eine Spiralfeder (4) und ein Verfahren zur Herstellung einer Spiralfeder (4). Die Spiralfeder (4) ist mit einem Spiralfederbefestigungsabschnitt (4.1) und einem daran anschließenden Schwingungsbereich (LA) versehen, der mindestens eine Windung (9) besitzt. Der Kern (17) der Spiralfeder (4) is aus Silizium. Mindestens zwei lange Seitenflächen (22) verbinden mindestens zwei kurze Seitenflächen (24) miteinander. In mindestens einer oberen Seitenfläche (26) und entlang einer Windung (9) des Schwingungsbereichs (LA) ist mindestens eine Vertiefung (18) in einem zweiten Teilbereich (11) in der SiO2 - Schicht (20) ausgebildet, deren Tiefe (T) zumindest bis auf den Kern (17) aus Silizium reicht.
[EN] The invention relates to a spiral spring (4) and a method for producing a spiral spring (4). The spiral spring (4) is provided with a spiral spring securing portion (4.1) and an oscillating region (LA) which is attached to the securing portion and which has at least one winding (9). The core (17) of the spiral spring (4) is made of silicon. At least two long lateral surfaces (22) connect at least two short lateral surfaces (24) to each other. At least one depression (18) is formed in a second subregion (11) in the SiO2 layer (20) in at least one upper lateral surface (26) and along a winding (9) of the oscillating region (LA), the depth (T) of said depression reaching at least the core (17) made of silicon.
[FR] L'invention concerne un ressort spiral (4) et un procédé de fabrication d'un ressort spiral (4). Le ressort spiral (4) est muni d'une partie de fixation (4.1) du ressort spiral et d'une zone d'oscillation (LA) raccordée à celle-ci et comportant au moins une spire (9). Le noyau (17) du ressort spiral (4) est en silicium. Au moins deux surfaces latérales longues (22) relient au moins deux surfaces latérales courtes (24) les unes aux autres. Dans au moins une surface latérale supérieure (26) et le long d'une spire (9) de la zone d'oscillation (LA) est configurée au moins une cavité (18) dans une seconde zone partielle (11) dans la couche de SiO2 (20), dont la profondeur (T) parvient au moins jusqu'au noyau (17) en silicium. |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
DE102013104248B3
EP000002407831A1
WO002014203086A1
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| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
CH000000699780A2
EP000001422436A1
EP000002284628A2
EP000002589568A1
US000008562206B2
WO002011072960A1
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Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
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Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
G04B 17/06
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