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Titel |
TI |
[DE] NANOSTRUKTURIERTE FORMKÖRPER UND SCHICHTEN UND DEREN HERSTELLUNG ÜBER STABILE WASSERLÖSLICHE VORSTUFEN
[EN] NANOSTRUCTURED FORMS AND LAYERS AND METHOD FOR PRODUCING THEM USING STABLE WATER-SOLUBLE PRECURSORS
[FR] CORPS MOULES ET COUCHES NANOSTRUCTURES ET LEUR PRODUCTION A L'AIDE DE PRECURSEURS STABLES SOLUBLES DANS L'EAU |
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Anmelder/Inhaber |
PA |
ARPAC ERTUGRUL, TR
;
INST NEUE MAT GEMEIN GMBH, DE
;
JONSCHKER GERHARD, DE
;
SCHIRRA HERMANN, DE
;
SCHMIDT HELMUT, DE
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| 72 |
Erfinder |
IN |
ARPAC ERTUGRUL, TR
;
JONSCHKER GERHARD, DE
;
SCHIRRA HERMANN, DE
;
SCHMIDT HELMUT, DE
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| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
08.04.1999 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
9902396 |
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Anmeldeland |
AC |
EP |
|
Veröffentlichungsdatum |
PUB |
20.01.2000 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
DE
19816136
19980409
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| 51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
C08G 77/14
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| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
C08G 77/20
C08G 77/58
C08K 3/36
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
B82B 3/00
B82Y 20/00
C03C 1/008
C03C 14/00
C03C 17/009
C03C 2214/12
C08G 77/14
C09D 183/04
C09D 4/00
Y10T 428/2995
Y10T 428/31663
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
C08K 3/36
(2006.01)
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
C03C 1/00
(2006.01)
C03C 14/00
(2006.01)
C03C 17/00
(2006.01)
C08G 77/14
(2006.01)
C08G 77/20
(2006.01)
C08G 77/58
(2006.01)
C08L 83/04
(2006.01)
C09D 183/04
(2006.01)
C09D 183/07
(2006.01)
C09D 4/00
(2006.01)
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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Zusammenfassung |
AB |
[DE] Beschrieben wird ein Verfahren zur Herstellung einer Zusammensetzung für die Bereitstellung von nanostrukturierten Formkörpern und Schichten, umfassend die Kontaktierung eines wässrigen und/oder alkoholischen Sols einer Verbindung eines aus Silicium und den Haupt- und Nebengruppen-Metallen ausgewählten Elements mit über hydrolysierbare Alkoxygruppen verfügenden Spezies, die mindestens ein organisch modifiziertes Alkoxysilan oder ein davon abgeleitetes Vorkondensat enschliessen, unter Bedingungen, die zu einer (Weiter)hydrolyse der Spezies führen, und die anschliessende Entfernung von gebildetem und gegebenenfalls bereits ursprünglich vorhandenem Alkohol, dadurch gekennzeichnet, dass der Alkohol in einer solchen Menge entfernt wird, dass der Restalkohol-Gehalt in der Zusammensetzung nicht mehr als 20 Gew.-% ausmacht.
[EN] The invention relates to a method for producing a composition for preparing nanostructured forms and layers, consisting of bringing an aqueous and/or alcoholic sol of a compound of an element selected from silicon and the main and sub-group metals into contact with species which have hydrolyzable alkoxy groups and which include at least one organically modified alkoxysilane or a precondensate derived therefrom, in conditions which lead to the (further) hydrolysis of the species and then removing any alcohol which has formed or which may optionally have been present originally. The invention is characterized in that enough alcohol is removed to leave a residual amount of not more than 20 wt.% in the composition.
[FR] L'invention concerne un procédé de production d'une composition destinée à la préparation de corps moulés et de couches nanostructurés. Ce procédé consiste à mettre une saumure aqueuse et/ou alcoolisée d'un composé d'un élément, choisi parmi le silicium et des métaux des groupes principaux et des sous-groupes, en contact avec des espèces qui disposent de groupes alcoxy hydrolysables et qui contiennent au moins un alcoxysilane organiquement modifié ou un précondensé dérivé de ce silane dans des conditions favorisant une hydrolyse (supplémentaire) des espèces. Ce procédé consiste ensuite à éliminer tout alcool formé et éventuellement présent initialement. Ce procédé est caractérisé en ce que l'alcool est éliminé de telle façon que la teneur en alcool résiduel de la composition ne dépasse pas 20 % en poids. |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
EP000000263428A2
EP000000486469A1
WO001998040444A1
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| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
DATABASE WPI Derwent World Patents Index; AN 85-265863, XP002115369 7
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Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
C01B 33/146
C08G 77/02 P1
C08G 77/04 P5
C08G 77/12 P1
C08G 77/14 P2
C08G 77/14 P4
C08G 77/58 P1
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