Bibliografische Daten

Dokument US020060043470A1 (Seiten: 11)

Bibliografische Daten Dokument US020060043470A1 (Seiten: 11)
INID Kriterium Feld Inhalt
54 Titel TI [EN] Method for producing a buried N-doped semiconductor zone in a semiconductor body and semiconductor component
71/73 Anmelder/Inhaber PA LUTZ JOSEF ; NIEDERNOSTHEIDE FRANZ-JOSEF ; SCHULZE HANS-JOACHIM ; SIEMIENIEC RALF
72 Erfinder IN LUTZ JOSEF, DE ; NIEDERNOSTHEIDE FRANZ-JOSEF, DE ; SCHULZE HANS-JOACHIM, DE ; SIEMIENIEC RALF, AT
22/96 Anmeldedatum AD 11.08.2005
21 Anmeldenummer AN 20187405
Anmeldeland AC US
Veröffentlichungsdatum PUB 02.03.2006
33
31
32
Priorität PRC
PRN
PRD
DE
102004039208
20040812
51 IPC-Hauptklasse ICM H01L 29/76 (2006.01)
51 IPC-Nebenklasse ICS H01L 21/22 (2006.01)
IPC-Zusatzklasse ICA
IPC-Indexklasse ICI
Gemeinsame Patentklassifikation CPC H01L 21/263
H01L 21/26506
H01L 21/266
H01L 29/0878
H01L 29/66333
H01L 29/66712
H01L 29/7395
MCD-Hauptklasse MCM H01L 29/76 (2006.01)
MCD-Nebenklasse MCS H01L 21/22 (2006.01)
MCD-Zusatzklasse MCA
57 Zusammenfassung AB [EN] A method for producing a buried n-doped semiconductor zone in a semiconductor body. In one embodiment, the method includes producing an oxygen concentration at least in the region to be doped in the semiconductor body. The semiconductor body is irradiated via one side with nondoping particles for producing defects in the region to be doped. A thermal process is carried out. The invention additionally relates to a semiconductor component with a field stop zone.
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt
CT US000004379306A
US000006351024B1
US000006475876B2
US000006610572B1
US020030054641A1
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt
CT
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt
CTNP
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt
CTNP
Zitierende Dokumente Dokumente ermitteln
Sequenzprotokoll
Prüfstoff-IPC ICP H01L 21/22
H01L 29/739
H01L 29/76
H01L 29/78