| 54 |
Titel |
TI |
[DE] VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES REFLEXIONSMINDERNDEN SCHICHTSYSTEMS UND REFLEXIONSMINDERNDES SCHICHTSYSTEM
[EN] METHOD FOR PRODUCING A REFLECTION-REDUCING LAYER SYSTEM AND REFLECTION-REDUCING COATING SYSTEM
[FR] PROCEDE DE FABRICATION D'UN SYSTEME DE COUCHE REDUISANT LA REFLEXION ET SYSTEME DE COUCHE REDUISANT LA REFLEXION |
| 71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
FRAUNHOFER GES FORSCHUNG, DE
|
| 72 |
Erfinder |
IN |
FÜCHSEL KEVIN, DE
;
HEISSE HANNO, DE
;
KAISER NORBERT, DE
;
KNOPF HEIKO, DE
;
MUNZERT PETER, DE
;
RICKELT FRIEDRICH, DE
;
SCHULZ ULRIKE, DE
|
| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
26.01.2016 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
16152789 |
|
Anmeldeland |
AC |
EP |
|
Veröffentlichungsdatum |
PUB |
03.08.2016 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
DE
102015101135
20150127
|
| 51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
G02B 1/111
(2015.01)
|
| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
B29C 59/14
(2006.01)
G02B 1/118
(2015.01)
|
|
IPC-Zusatzklasse |
ICA |
|
|
IPC-Indexklasse |
ICI |
|
|
Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
B05D 1/60
B05D 1/62
B05D 3/145
B05D 3/148
B29C 59/14
C23C 14/06
C23C 14/10
C23C 14/12
C23C 14/28
C23C 14/32
G02B 1/111
G02B 1/118
G02B 1/14
|
|
MCD-Hauptklasse |
MCM |
G02B 1/111
(2015.01)
|
|
MCD-Nebenklasse |
MCS |
B29C 59/14
(2006.01)
G02B 1/118
(2015.01)
|
|
MCD-Zusatzklasse |
MCA |
|
| 57 |
Zusammenfassung |
AB |
[DE] Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines reflexionsmindernden Schichtsystems auf einem Substrat (10) angegeben, umfassend die Schritte:
- Abscheidung einer Brechzahlgradientenschicht (1) auf das Substrat (10) durch Ko-Verdampfung eines anorganischen Materials und eines organischen Materials, wobei die Brechzahlgradientenschicht (1) eine in Wachstumsrichtung abnehmende Brechzahl aufweist,
- Abscheidung einer organischen Schicht (2) über der Brechzahlgradientenschicht (1), und
- Erzeugung einer Nanostruktur (12) in der organischen Schicht (2) durch einen Plasmaätzprozess. Weiterhin wird ein auf diese Weise herstellbares reflexionsminderndes Schichtsystem beschrieben. |
| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
DE102008018866A1
|
| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
DE000010241708B4
WO002014202375A1
|
| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
SCHULZ U ET AL: "Antireflection of transparent polymers by advanced plasma etching procedures", OPTICS EXPRESS, OSA (OPTICAL SOCIETY OF AMERICA), WASHINGTON DC, (US), vol. 15, no. 20, 26 September 2007 (2007-09-26), pages 13108 - 13113, XP002532644, ISSN: 1094-4087, DOI: 10.1364/OE.15.013108 0;
WONCHUL JOO ET AL: "Broadband Antireflection Coating Covering from Visible to Near Infrared Wavelengths by Using Multilayered Nanoporous Block Copolymer Films", LANGMUIR, AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, US, vol. 26, no. 7, 3 December 2009 (2009-12-03), pages 5110 - 5114, XP002608871, ISSN: 0743-7463, [retrieved on 20091203], DOI: 10.1021/LA9035858 0
|
| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
S.R. KENNEDY; M.J. BRETT: "Porous Broadband Antireflection Coating by Glancing Angle Deposition", APPL OPT., vol. 42, 2003, pages 4573 - 4579, XP002616697, DOI: doi:10.1364/AO.42.004573 1;
W. JOO; H.J. KIM; J.K. KIM: "Broadband Antireflection Coating Covering from Visible to Near Infrared Wavelengths by Using Multilayered Nanoporous Block Copolymer Films", LANGMUIR, vol. 26, no. 7, 2010, pages 5110 - 5114, XP002608871, DOI: doi:10.1021/la9035858 1
|
|
Zitierende Dokumente |
|
Dokumente ermitteln
|
|
Sequenzprotokoll |
|
|
|
Prüfstoff-IPC |
ICP |
B05D 1/00
B29C 59/14
B32B 9/00
C23C 14/06
C23C 14/10
C23C 14/12
C23C 14/58
G02B 1/10
G02B 1/111
G02B 1/118
G02B 1/11
G02B 1/14
|
