| 54 |
Titel |
TI |
[DE] Anlage zum Waschen von Tiefdruckwalzen im Siebdruckbereich |
| 71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
Daunquart, Alfred, 71711, Steinheim, DE
|
| 72 |
Erfinder |
IN |
|
| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
11.08.2020 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
202020003436 |
|
Anmeldeland |
AC |
DE |
|
Veröffentlichungsdatum |
PUB |
22.10.2020 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
|
| 51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
B41F 35/02
(2006.01)
|
| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
|
|
IPC-Zusatzklasse |
ICA |
|
|
IPC-Indexklasse |
ICI |
|
|
Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
B41F 35/02
|
|
MCD-Hauptklasse |
MCM |
B41F 35/02
(2006.01)
|
|
MCD-Nebenklasse |
MCS |
|
|
MCD-Zusatzklasse |
MCA |
|
| 57 |
Zusammenfassung |
AB |
[DE] Anlage (WA) zum Waschen von Gegenständen,insbesondere Tiefdruckwalzen (TW), dadurch gekennzeichnet, dass die Anlage (WA) zwei Rollen-Aufnahmen (RA) zum Einhängen der Tiefdruckwalzen (TW) aufweist. |
| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
|
| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
|
| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
|
| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
|
|
Zitierende Dokumente |
|
Dokumente ermitteln
|
|
Sequenzprotokoll |
|
|
|
Prüfstoff-IPC |
ICP |
B41F 35/02
|
