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Titel |
TI |
[DE] Verfahren zur metallischen oder keramischen Beschichtung |
| 71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung, 70469, Stuttgart, DE
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| 72 |
Erfinder |
IN |
Hofmann, Patrick, 71665, Vaihingen, DE
;
Tiedemann, Dominik, 70197, Stuttgart, DE
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| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
08.09.2020 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
102020211265 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
10.03.2022 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
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| 51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
C23C 16/54
(2006.01)
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| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
C23C 16/452
(2006.01)
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
C23C 16/503
C23C 16/54
H01J 37/32403
H01J 37/32596
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
C23C 16/54
(2006.01)
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
C23C 16/452
(2006.01)
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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| 57 |
Zusammenfassung |
AB |
[DE] Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur metallischen oder keramischen Beschichtung magnetischer oder nicht-magnetischer zu beschichtender diskreter Körper (10) oder zu beschichtender kontinuierlicher Körper (54), wobei zumindest nachfolgende Verfahrensschritte durchlaufen werden: Es erfolgt eine Zuführung von und Förderung zu beschichtender diskreter Körper (10) oder zu beschichtender kontinuierlicher Körper (54) durch eine Hohlkathode (18). Dieser wird ein Arbeitsgas oder ein Reaktivgas aus einem Gasreservoir (72) zugeführt. Die Hohlkathode (18) ist mit einer hochfrequenten Spannung eines Hochfrequenzgenerators (20) beaufschlagt, wodurch ein Plasma (22) erzeugt wird. Durch das Plasma (22) erfolgen eine Ionisation und Aufspaltung des Arbeitsgases oder Reaktivgases zur chemischen Gasphasenabscheidung und/oder eine Erzeugung einer physikalischen Gasphasenabscheidung durch Ionen des Plasmas (22). Dadurch wird auf den in Förderrichtung (48) durch das Plasma (22) im Kathodenraum (24) beförderten diskreten Körpern (10) oder den kontinuierlichen Körpern (54) mindestens eine ganzheitliche Schicht (16) erzeugt. Darüber hinaus bezieht sich die Erfindung auf ein In-Line-Beschichtungssystem (34) und auf die Verwendung des Verfahrens zur ganzheitlichen Beschichtung. |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
DE000019722056A1
US000005228963A
US000006176982B1
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| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
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