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Titel |
TI |
[DE] Verfahren zur Herstellung eines Graphen-Komposits |
| 71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
Universität Duisburg-Essen, 45141, Essen, DE
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| 72 |
Erfinder |
IN |
Münzer, Adrian, 47058, Duisburg, DE
;
Schulz, Christof, 50674, Köln, DE
;
Wiggers, Hartmut, 48734, Reken, DE
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| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
19.12.2018 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
102018132896 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
25.06.2020 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
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| 51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
C01B 32/184
(2017.01)
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| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
B01J 21/18
(2006.01)
H01G 11/32
(2013.01)
H01M 10/052
(2010.01)
H01M 4/133
(2010.01)
H01M 4/134
(2010.01)
H01M 4/38
(2006.01)
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
C01B 32/184
H01G 11/36
H01G 11/38
H01G 11/46
H01M 10/0525
H01M 4/133
H01M 4/134
H01M 4/38
H01M 4/583
H01M 4/625
Y02E 60/10
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
C01B 32/184
(2017.01)
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
B01J 21/18
(2006.01)
H01G 11/32
(2013.01)
H01M 10/052
(2010.01)
H01M 4/133
(2010.01)
H01M 4/134
(2010.01)
H01M 4/38
(2006.01)
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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Zusammenfassung |
AB |
[DE] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Graphen-Komposits mittels durch Umsetzen kohlenstoffhaltiger Verbindungen in einem Plasma, umfassend die Schritte: - Durchleiten einer flüssigförmigen und/oder gasförmigen kohlenstoffhaltigen Verbindung durch ein Plasmafeld, wobei die kohlenstoffhaltige Verbindung im Plasma dissoziiert; und - Nukleieren der dissoziierten kohlenstoffhaltigen Produkte in oder hinter dem Plasmafeld und Ausbilden eines Graphen-haltigen Materials, wobei man in einem vorgelagerten Verfahrensschritt Partikel einer Metall- und/oder Halbmetallkomponente in der kohlenstoffhaltigen Verbindung dispergiert, und nachfolgend die gebildete Dispersion im Plasma umsetzt, wobei man ein Komposit umfassend Graphen und Nanopartikel der Metall- und/oder Halbmetallkomponente und/oder der umgesetzten Metall- und/oder Halbmetallkomponente erhält. |
| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
US020100301212A1
US020170050853A1
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| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
WO002015189643A1
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
INCEOGLU, O. Y.; ZHONG, L.; MANGOLINI, L.: Core/shell silicon/polyaniline particles via in-flight plasma-induced polymerization. In: Journal of Physics D: Applied Physics, 48, 2015, 314009. - ISSN 0022-3727 p 0;
MANGOLINI, L.; KORTSHAGEN, U.: Plasma-Assisted Synthesis of Silicon Nanocrystal Inks. In: Advanced Materials, 19, 2007, 2513 - 2519. - ISSN 0935-9648 p 0;
TATAROVA, E. [u.a.]: Towards large-scale in free-standing graphene and N-graphene sheets. In: Scientific Reports, Vol. 7, 2017, Artikelnummer: 10175 (S. 1-8). - ISSN 2045-2322. DOI: 10.1038/s41598-017-10810-3. URL: https://www.nature.com/articles/s41598-017-10810-3.pdf [abgerufen am 2019-03-21] p 0
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Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
A. Münzer et al. beschreiben in Materials Today: Proceedings 4, 2017, S 118-S 127 1;
A. Münzer et al. in Electrochimica Acta, 2018, Vol. 272, Seiten 52-59 1
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
H01G 11/32
H01M 10/052
H01M 4/133
H01M 4/134
H01M 4/38
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