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Titel |
TI |
[DE] Verfahren zur Auslegung eines Bauteils sowie Computerprogramm |
| 71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC (n. d. Ges. d. Staates Delaware), Mich., Detroit, US
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| 72 |
Erfinder |
IN |
Biasutti, Manfredi, 65428, Rüsselsheim, DE
;
Koch, Niels, 65428, Rüsselsheim, DE
;
Rösen, Hartwig, 65428, Rüsselsheim, DE
;
Schuler, Felix, 65428, Rüsselsheim, DE
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| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
25.01.2017 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
102017000655 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
09.08.2018 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
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| 51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
G06F 17/50
(2006.01)
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| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
B21D 22/20
(2006.01)
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
G06F 2111/06
G06F 2113/24
G06F 30/00
G06F 30/17
G06F 30/23
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
G06F 17/50
(2006.01)
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
B21D 22/20
(2006.01)
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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| 57 |
Zusammenfassung |
AB |
[DE] Zur Auslegung von Werkzeugen für Umformprozesse werden regelmäßig Simulationsprogramme herangezogen, welche den Umformprozess simulieren und auf diese Weise Möglichkeiten zur Optimierung des Werkzeugs und/oder des Bauteils geben, ohne das Werkzeug tatsächlich aufbauen zu müssen. Derartige Simulationsprogramme basieren oftmals auf FEM-Analysen und modellieren beispielsweise die Umformprozesse bei der Bearbeitung.Es wird ein Verfahren zur Auslegung eines Bauteils 1 vorgeschlagen, wobei das Bauteil 1 mindestens einen Kantenbereich 7a,b aufweist, wobei der Kantenbereich 7a,b durch einen Umformprozess hergestellt wird, wobei in dem Umformprozess ein Stempel 12 in einer Wirkrichtung 14 in eine Matrize 14 eingeführt wird, wobei der Kantenbereich 7a,b in seiner Längserstreckung in einer oder mehreren Ebenen gewinkelt oder senkrecht zu der Wirkrichtung W verläuft, wobei der Kantenbereich 7a,b in einem Querschnitt senkrecht zu seiner Längserstreckung einen Kehlenbereich 5a,b und/oder einen Schulterbereich 6a,b und/oder aufweist, wobei der Kehlenbereich 5a,b durch einen ersten Doppel-S-Verlauf 8,11 und/oder der Schulterbereich 6a,b durch einen zweiten Doppel-S-Verlauf 9,10 gebildet ist, wobei in einer Optimierung des Bauteils mindestens ein Doppel-S-Verlauf 8,9,10,11 als Optimierungsparameterfeld variiert wird. |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
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| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
DE000010040973A1
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
B21D 22/20
G06F 17/50
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