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Bibliographic data Document DE102016218451A1 (Pages: 5)
INID	Criterion	Field	Contents
54	Title	TI	[DE] Leistungselektronische Schaltung und Verfahren zu deren Herstellung
71/73	Applicant/owner	PA	Siemens Aktiengesellschaft, 80333, M�nchen, DE
72	Inventor	IN	Blum, Manuel, 85521, Ottobrunn, DE ; Galek, Marek, 82398, Polling, DE ; Schulz, Martin, 80689, M�nchen, DE ; Seidel, Julian, 80339, M�nchen, DE
22/96	Application date	AD	Sep 26, 2016
21	Application number	AN	102016218451
	Country of application	AC	DE
	Publication date	PUB	Mar 29, 2018
33 31 32	Priority data	PRC PRN PRD
51	IPC main class	ICM	H01L 23/373 (2006.01)
51	IPC secondary class	ICS	H01L 23/473 (2006.01)
	IPC additional class	ICA
	IPC index class	ICI
	Cooperative patent classification	CPC	H01L 2224/48227 H01L 23/3735 H01L 23/3736 H01L 23/473 H01L 25/071 H01L 25/072 H01L 25/112 H01L 25/115 H01L 2924/13055
	MCD main class	MCM	H01L 23/373 (2006.01)
	MCD secondary class	MCS	H01L 23/473 (2006.01)
	MCD additional class	MCA
57	Abstract	AB	[DE] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer leistungselektronischen Schaltung, bei dem – ein K�hlk�rper (11) durch Strangpressung hergestellt wird, – eine Isolationsschicht (12, 21) auf wenigstens eine erste Oberfl�che des K�hlk�rpers (11) aufgebracht wird, – eine elektrisch leitf�hige Schicht (13, 22) auf die Isolationsschicht (12, 21) aufgebracht wird, – wenigstens ein leistungselektronisches Bauteil (14, 15, 23, 24) auf die elektrisch leitf�hige Schicht (13, 22) aufgebracht wird.
56	Cited documents identified in the search	CT	DE000010140328A1 DE000060202476T2
56	Cited documents indicated by the applicant	CT
56	Cited non-patent literature identified in the search	CTNP
56	Cited non-patent literature indicated by the applicant	CTNP
	Citing documents		DE102022114113A1 EP000004287801A1
	Sequence listings
	Search file IPC	ICP	H01L 23/373 H01L 23/473