Bibliografische Daten

Dokument DE102016202607A1 (Seiten: 15)

Bibliografische Daten Dokument DE102016202607A1 (Seiten: 15)
INID Kriterium Feld Inhalt
54 Titel TI [DE] Verfahren zur Fertigung einer Schicht mit perowskitischem Material und Vorrichtung mit einer solchen Schicht
71/73 Anmelder/Inhaber PA Siemens Aktiengesellschaft, 80333, München, DE ; Universität Bayreuth, 95447, Bayreuth, DE
72 Erfinder IN Fleischer, Maximilian, Prof., 85635, Höhenkirchen-Siegertsbrunn, DE ; Gujar, Tanaji, Dr., 95444, Bayreuth, DE ; Hanft, Dominik, 95447, Bayreuth, DE ; Moos, Ralf, Prof., 95447, Bayreuth, DE ; Panzer, Fabian, 95448, Bayreuth, DE ; Thelakkat, Mukundan, Prof., 95447, Bayreuth, DE
22/96 Anmeldedatum AD 19.02.2016
21 Anmeldenummer AN 102016202607
Anmeldeland AC DE
Veröffentlichungsdatum PUB 16.11.2017
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31
32
Priorität PRC
PRN
PRD


51 IPC-Hauptklasse ICM H01L 51/48 (2006.01)
51 IPC-Nebenklasse ICS C07F 7/24 (2006.01)
C23C 24/04 (2006.01)
H01L 51/46 (2006.01)
IPC-Zusatzklasse ICA
IPC-Indexklasse ICI
Gemeinsame Patentklassifikation CPC C23C 24/04
C23C 28/04
H01G 9/0036
H01G 9/2009
H10K 2102/351
H10K 30/15
H10K 30/30
H10K 30/50
H10K 39/36
H10K 50/11
H10K 50/135
H10K 71/16
H10K 71/811
H10K 85/30
H10K 85/50
Y02E 10/542
Y02E 10/549
Y02P 70/50
MCD-Hauptklasse MCM H01L 51/48 (2006.01)
MCD-Nebenklasse MCS C07F 7/24 (2006.01)
C23C 24/04 (2006.01)
H01L 51/46 (2006.01)
MCD-Zusatzklasse MCA
57 Zusammenfassung AB [DE] Das Verfahren dient zur Fertigung einer elektrooptischen und/oder optoelektronischen Schicht. Bei dem Verfahren wird die Schicht mit perowskitischem Material der Zusammensetzung ABX3 mittels Kaltgasspritzens zumindest eines das perowskitische Material aufweisenden Ausgangsmaterials gebildet. X ist dabei mit mindestens einem Halogen oder einer Mischung mehrerer Halogene gebildet. Bei dem Verfahren zur Herstellung einer elektrooptischen oder optoelektronischen Vorrichtung mit mindestens einer elektrooptischen oder optoelektronischen Schicht wird die zumindest eine elektrooptische oder optoelektronische Schicht mit einem perowskitischen Material mittels des zuvor genannten Verfahrens gebildet. Die Vorrichtung ist insbesondere eine elektrooptische oder optoelektronische Vorrichtung, idealerweise ein Energiewandler und/oder eine Solarzelle oder eine Leuchtdiode oder ein Röntgendetektor. Die Vorrichtung weist eine solche elektrooptische Schicht auf.
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt
CT US000007553376B2
US020090179155A1
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt
CT
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt
CTNP HANFT, D. [u.a.]: An Overview of the Aerosol Deposition Method: Process Fundamentals and New Trends in Materials Applications. In: Journal of Ceramic Science and Technology, 6, 2015, 3, S. 147-182. - ISSN 2190-9385 p 0;
KE, W. [u.a.]: Efficient planar perovskite solar cells using room-temperature vacuum-processed C60 electron selective layers. In: J. Mater. Chem. A, 3, 13.08.2015, S. 17971-17976. - ISSN 2050-7488 p 0;
YAKUNIN, S. [u.a.]: Detection of X-ray photons by solution-processed organic-inorganic perovskites. In: Nature Photonics, 2015, S. 1 - 18. - ISSN 1749-4885 p 0
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt
CTNP
Zitierende Dokumente Dokumente ermitteln
Sequenzprotokoll
Prüfstoff-IPC ICP C07F 7/24
C23C 24/04
H01G 9/00
H01G 9/20
H01L 51/46
H01L 51/48