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Document DE102016014802B4 (Pages: 35)

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INID Criterion Field Contents
54 Title TI [DE] Anordnung und Verfahren zur robusten Zweistrahl-Interferometrie mit einer Dreifach-Reflexions-Anordnung
71/73 Applicant/owner PA Universität Stuttgart, 70174, Stuttgart, DE
72 Inventor IN Körner, Klaus, Dr., 70563, Stuttgart, DE ; Osten, Wolfgang, Prof. Dr., 70569, Stuttgart, DE
22/96 Application date AD Dec 13, 2016
21 Application number AN 102016014802
Country of application AC DE
Publication date PUB Sep 27, 2018
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32
Priority data PRC
PRN
PRD


51 IPC main class ICM G01B 9/02 (2006.01)
51 IPC secondary class ICS G01B 11/14 (2006.01)
G01B 11/22 (2006.01)
G01B 11/24 (2006.01)
IPC additional class ICA
IPC index class ICI
Cooperative patent classification CPC A61B 5/0066
G01B 2290/15
G01B 2290/60
G01B 9/0203
G01B 9/02032
G01B 9/02049
G01B 9/0209
G01B 9/02091
G01B 9/04
G02B 5/122
MCD main class MCM G01B 9/02 (2006.01)
MCD secondary class MCS G01B 11/14 (2006.01)
G01B 11/22 (2006.01)
G01B 11/24 (2006.01)
MCD additional class MCA
57 Abstract AB [DE] Anordnung zur robusten Zweistrahl-Interferometrie, welche folgende Mittel umfasst:eine Quelle kurzkohärenter elektromagnetischer Strahlung (1,103, 104) zur Beleuchtung eines Objekts (10, 107, 108, 109, 110),ein Interferometer mit einem Objektstrahlengang (O), einem Referenzstrahlengang (R) und einer Messebene (ME) im Objektstrahlengang, in der sich zumindest näherungsweise die optisch anzumessenden Oberflächen- oder Volumenelemente des Objekts (10, 107, 108, 109, 110) befinden; undmindestens einen gerasterten Detektor (20, 201, 202) zur Detektion elektromagnetischer Strahlung in Form mindestens eines räumlichen Interferogramms, wobei:im Referenzstrahlengang (R) des Interferometers mindestens ein End-Reflektor als Referenzreflektor angeordnet ist, wobei der End-Reflektor als eine Dreifach-Reflexions-Anordnung (111, 112, 113) mit drei Reflexionsflächen ausgebildet ist,die drei Reflexionsflächen jeweils zumindest näherungsweise senkrecht zu einer gemeinsamen Bezugsebene (BE) liegen; unddie drei Spurgeraden der Ebenen, welche durch die drei Reflexionsflächen dargestellt werden, in der Bezugsebene (BE) ein Dreieck ABC mit einem stumpfen Winkel bilden, wobei die erste Reflexionsfläche (13, 131, 132) auf einer Geraden liegt, auf welcher die Punkte C und B liegen, die zweite Reflexionsfläche (14, 141, 142) auf einer Geraden (m) liegt, auf welcher die Punkte A und C liegen und die dritte Reflexionsfläche (15, 151, 152) auf einer Geraden (k) liegt, auf welcher die Punkte A und B liegen,der Strahlengang der Dreifach-Reflexions-Anordnung (111, 112, 113) gekreuzt oder ein W-Strahlengang ist,die zweite Reflexionsfläche (14, 141) als zweite der drei Reflexionsflächen zur Reflexion eines fokussierten Bündels FB genutzt wird und die erste Reflexionsfläche (13, 131) als erste oder dritte der drei Reflexionsflächen zur Reflexion genutzt wird,die erste Reflexionsfläche (13, 131, 132) und die zweite Reflexionsfläche (14, 141, 142) in einem spitzen Winkel relativ zueinander angeordnet sind,die erste Reflexionsfläche (13, 131) und die dritte Reflexionsfläche (15, 151) in einem stumpfen Winkel CBD relativ zueinander angeordnet sind, undes eine Normale N_m vom Punkt B auf die zweite Reflexionsfläche (14, 141) gibt,gekennzeichnet dadurch, dass für die Dreifach-Reflexions-Anordnung (111, 112, 113) ein Winkel gamma zwischen einem Randstrahl (RAS) des ein- oder des austretenden Bündels und der zweiten Reflexionsfläche (14, 141) besteht und dabei für den Winkel gamma < 12° gilt.
56 Cited documents identified in the search CT DE102006007172B4
DE102010046907A1
DE102010056122B3
EP000002526373B1
EP000002843360A1
US000007330274B2
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56 Cited non-patent literature identified in the search CTNP
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G01B 11/22
G01B 9/02