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Titel |
TI |
[DE] Verfahren zur Reflexionskorrektur von Abbildungen und diesbezügliche Vorrichtungen |
71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
Carl Zeiss Microscopy GmbH, 07745, Jena, DE
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72 |
Erfinder |
IN |
Milde, Thomas, 07616, Nausnitz, DE
;
Stoppe, Lars, 07743, Jena, DE
;
Winterot, Johannes, 07745, Jena, DE
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22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
30.04.2015 |
21 |
Anmeldenummer |
AN |
102015208080 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
03.11.2016 |
33 31 32 |
Priorität |
PRC PRN PRD |
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51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
G01B 11/24
(2006.01)
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51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
G01B 11/00
(2006.01)
G01B 9/04
(2006.01)
G02B 21/06
(2006.01)
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
G02B 21/06
G02B 21/367
G06T 2207/10056
G06T 2207/10152
G06T 2207/20224
G06T 5/50
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
G01B 11/24
(2006.01)
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
G01B 11/00
(2006.01)
G01B 9/04
(2006.01)
G02B 21/06
(2006.01)
H04N 23/75
(2023.01)
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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57 |
Zusammenfassung |
AB |
[DE] Die Erfindung betrifft ein Reflexionskorrekturverfahren zur Korrektur von digitalen mikroskopischen Abbildungen. Dabei weist das Reflexionskorrekturverfahren auf: Illuminieren (10) eines Objektes, wobei das Illuminieren (10) des Objektes mindestens zwei Illuminationsmuster (11, 12) aufweist. Erstellen (20) eines Illuminationsmusterbildes (21, 22) des Objektes für jedes Illuminationsmuster (11, 12). Berechnen (60) mindestens eines Teilreflexionsbildes (61), jeweils mittels einer Kombination entsprechender zweier Illuminationsmusterbilder (21, 22). Berechnen (90) eines reflexionskorrigierten Bildes (99) des Objektes mittels geeigneter Kombination mindestens eines Illuminationsmusterbildes (21, 22) und mindestens eines Teilreflexionsbildes (61). Und dabei weist jedes Illuminationsmuster (11, 12) mindestens eine aktive Illuminationsquelle (111) auf, und jedes Illuminationsmuster (11, 12) ist voneinander verschieden. Ferner betrifft die Erfindung eine zugehörige reflexionskorrigierende Vorrichtung (100). |
56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate, in Recherche ermittelt |
CT |
US020040212725A1
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56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate, vom Anmelder genannt |
CT |
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56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate, in Recherche ermittelt |
CTNP |
A. Agrawal, R. Raskar, S. Nayar, Y. Li: Removing Photography Artifacts using Gradient Projection and Flash-Exposure Sampling. In: ACM Transactions on Graphics 24,3 (2005), S.828-835 p 0; A. Artusi, F. Banterle, D. Chetverikov: A Survey of Specularity Removal Methods. In: Computer Graphics Forum, Vol. 30 (2011) 8, S.2208-2230 p 0; R. Feris, R. Raskar, K.-H. Tan, M. Turk: Specular Reflection Reduction with Multi-Flash Imaging. In: Proceedings of the XVII Brazilian Symposium on Computer Graphics and Image Processing (SIBGRAPI'04), 2004, Vol.42, S.316-321 p 0
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56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate, vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
G01B 11/00
G01B 11/24
G01B 9/04
G02B 21/06
G02B 21/36
H04N 5/238
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