54 |
Titel |
TI |
[DE] Qualitätsabhängige Modellierung von Radar-Rückstreuung |
71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V., 51147, Köln, DE
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72 |
Erfinder |
IN |
Rizzoli, Paola, 80686, München, DE
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22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
05.08.2011 |
21 |
Anmeldenummer |
AN |
102011109503 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
24.01.2019 |
33 31 32 |
Priorität |
PRC PRN PRD |
EP
11172899
20110706
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51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
G01S 7/41
(2006.01)
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51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
G01S 13/89
(2006.01)
G01S 13/90
(2006.01)
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
G01S 13/90
G01S 7/41
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
G01S 7/41
(2006.01)
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
G01S 13/89
(2006.01)
G01S 13/90
(2006.01)
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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57 |
Zusammenfassung |
AB |
[DE] Verfahren zur Bestimmung eines einfallswinkelabhängigen Radar-Rückstreuungs-Modells, wobei das Verfahren durch die folgenden Schritte gekennzeichnet ist:- Bereitstellen gemessener Radardaten einer Oberfläche, die Paare aus einem Rückstreuungsintensitätswert und dem zugehörigen lokalen Einfallswinkel aufweisen,- Bereitstellen von Oberflächeneigenschaftsklassen für die Rückstreuungsintensitätswerte,- Unterscheiden der Rückstreuungsintensitätswerte in Abhängigkeit von den Oberflächeneigenschaftsklassen,- für mindestens eine der Oberflächeneigenschaftsklassen, zusätzliches Unterscheiden der Rückstreuungsintensitätswerte in Abhängigkeit von vorbestimmten Lokal-Einfallswinkel-Intervallen,- für die mindestens eine der Oberflächeneigenschaftsklassen, Quantifizieren einer Zuverlässigkeit der Rückstreuungsintensitätswerte für jedes Lokal-Einfallswinkel-Intervall,- für die mindestens eine der Oberflächeneigenschaftsklassen und für jedes Lokal-Einfallswinkel-Intervall, Ermitteln des mit größter Wahrscheinlichkeit zugehörigen Rückstreuungsintensitätswerts,- Bereitstellen eines einfallswinkelabhängigen parametrisierten Modells der Rückstreuungsintensitätswerte, wobei das Modell durch eine Anzahl von Parametern definiert ist, und- Schätzen derartiger Modellparameter durch Anwenden eines nichtlinearen gewichteten Fitting-Prozesses an den wahrscheinlichsten Rückstreuungsintensitätswerten, wobei die in dem Fitting-Prozess verwendeten Wichtungen unter Berücksichtigung der Zuverlässigkeit der Rückstreuungsintensitätswerte bestimmt werden,- wobei das Quantifizieren der Zuverlässigkeit der Rückstreuungsintensitätswerte durchgeführt wird auf der Basis (i) der Anzahl gemessener Radardaten, die berücksichtigt werden, wobei die Zuverlässigkeit direkt proportional zu der Anzahl der berücksichtigten gemessenen Radardaten ist, und (ii) eines Schätzfehlers zwischen einerseits der Verteilung der Rückstreuungsintensitätswerte für jedes Lokal-Einfallswinkel-Intervall innerhalb der mindestens einen der Oberflächeneigenschaftsklassen und andererseits einer Funktion der theoretischen Wahrscheinlichkeitsdichte, mit der an der Verteilung der Rückstreuungsintensitätswerte ein Fitting-Prozess vorgenommen wird, wobei die Zuverlässigkeit umgekehrt proportional zu dem Betrag des Schätzfehlers ist. |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate, in Recherche ermittelt |
CT |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate, vom Anmelder genannt |
CT |
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Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate, in Recherche ermittelt |
CTNP |
SABEL, D. u.a.: Sigma Nought Statistics over Land Activity - Final report (2009) (ESA contract No. 22122/08/NL/JA), Institute of Photogrammetry and Remote Sensing, Technische Universität Wien, Österreich p 0; ULABY, F.T.; DOBSON, M.C.: Handbook of Radar Scattering Statistics for Terrain, Artech House, 1989, S. 88-97 p 0
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Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate, vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
G01S 13/89
G01S 13/90
G01S 7/41
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