Bibliografische Daten

Dokument DE102011056896A1 (Seiten: 5)

Bibliografische Daten Dokument DE102011056896A1 (Seiten: 5)
INID Kriterium Feld Inhalt
54 Titel TI [DE] Verfahren zum Herstellen und Verwendung von Graphen auf polykristallinem Siliziumcarbid
71/73 Anmelder/Inhaber PA Leibniz-Institut für Neue Materialien gemeinnützige GmbH, 66123, Saarbrücken, DE
72 Erfinder IN Aslan, Mesut, Dr.-Ing., 66989, Höheischweiler, DE ; Bennewitz, Roland, Prof. Dr., 66123, Saarbrücken, DE ; Wählisch, Christian Felix, Dipl.-Ing., 66386, St. Ingbert, DE
22/96 Anmeldedatum AD 22.12.2011
21 Anmeldenummer AN 102011056896
Anmeldeland AC DE
Veröffentlichungsdatum PUB 27.06.2013
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31
32
Priorität PRC
PRN
PRD


51 IPC-Hauptklasse ICM C04B 41/80 (2012.01)
51 IPC-Nebenklasse ICS C04B 35/565 (2012.01)
F16C 33/00 (2012.01)
IPC-Zusatzklasse ICA
IPC-Indexklasse ICI
Gemeinsame Patentklassifikation CPC B82Y 30/00
B82Y 40/00
C01B 32/184
C04B 2111/00353
C04B 2235/3821
C04B 2235/424
C04B 2235/5409
C04B 2235/668
C04B 2235/77
C04B 2235/786
C04B 35/565
C04B 41/009
C04B 41/5001
C04B 41/85
MCD-Hauptklasse MCM C04B 41/80 (2006.01)
MCD-Nebenklasse MCS C04B 35/565 (2006.01)
F16C 33/00 (2006.01)
MCD-Zusatzklasse MCA
57 Zusammenfassung AB [DE] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen sowie die Verwendung von Graphen auf polykristallinem Siliziumcarbid. Um ein Verfahren zum Herstellen von Oberflächen mit sehr geringer Reibung zu schaffen, werden im Rahmen der Erfindung folgende Verfahrensschritte vorgeschlagen: • Polieren der Oberflächen von Siliziumcarbidkörpern mit einer homogenen Verteilung von Kohlenstoff, • Reinigen der Siliziumcarbidkörper und • Graphenisieren mindestens einer der polierten Oberflächen durch eine Glühbehandlung bei Temperaturen von 1500 bis 1700°C während 10 bis 20 min in fließendem Argon. Es hat sich im Rahmen der Erfindung überraschend gezeigt, daß auf polierten Schichten aus festphasengesintertem Siliziumcarbid Oberflächen realisiert werden können, die sich durch eine sehr niedrige Reibung auszeichnen, was auf der Anwesenheit von Graphenschichten auf den Oberflächen aus Siliziumcarbidkörnern unterschiedlicher Orientierung beruht.
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt
CT DE000019537714A1
DE000060011683T2
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt
CT EP000000591698A2
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt
CTNP
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt
CTNP "Low friction and rotational dynamics of crystalline flakes in solid lubrication", A. S. de Wijn, A. Fasolino, A. E. Filippov and M. Urbakh, EPL 95 (2011) 66002 1
Zitierende Dokumente Dokumente ermitteln
Sequenzprotokoll
Prüfstoff-IPC ICP C04B 35/565
C04B 41/80