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Titel |
TI |
[DE] Verfahren und Einrichtung zur genauen Bestimmung der Absolutposition für Weg- und Winkelmesssysteme
[EN] Accurate determination facilitating method for absolute phase position of track, involves correcting errors in coarse position value of item by adding fixed value to corrected coarse position value of item |
| 71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
GEMAC-Gesellschaft für Mikroelektronikanwendung Chemnitz mbH, 09116, Chemnitz, DE
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| 72 |
Erfinder |
IN |
Friese, Holger, 09116, Chemnitz, DE
;
Neumann, Franz, 07745, Jena, DE
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| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
11.06.2010 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
102010023361 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
05.01.2012 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
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| 51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
G01B 21/02
(2006.01)
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| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
G01B 21/02
G01B 21/22
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
G01B 21/02
(2006.01)
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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Zusammenfassung |
AB |
[DE] Aufgabe der Erfindung ist es, eine Einrichtung und ein Verfahren zur Auflösungserhöhung eines inkrementalen Weg- oder Winkelmesssystems und zur Bestimmung des Absolutwertes für Weg- und Winkel mit Hilfe eines zweiten mechanisch gekoppelten inkrementalen Weg- oder Winkelmesssystems zu schaffen, bei der bzw. dem mit geringem technischen Aufwand die genaue Positionsbestimmung über einen großen Eingangsfrequenzbereich und unter Berücksichtigung großer Beträge der in den Eingangssignalen enthaltenen Fehler gewährleistet wird. Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, dass in bekannter Weise aus Eingangswerten (S1, S2, C1, C2) aus dem ersten Lagewertpaar [S1 C1] ein erster periodischer Lagewert (PHI1) und aus dem zweiten Lagewertpaar [S2 C2] ein zweiter periodischer Lagewert (PHI2) ermittelt wird, dass aus den beiden periodischen Lagewerten (PHI1, PHI2) ein zu korrgierender fehlerbehafteter erster Grobpositionswert (P1), gewonnen wird, C2]) und einer mindestens einmalig berechneten Korrekturmatrix (KMC) ein Korrekturwert (K) bestimmt wird, dass einer von den zwei periodischen Lagewerten (PHI1; PHI2) dem ersten Grobpositionswert (P1) und dem Korrekturwert (K) überlagert wird, und zwar derart, dass der verbleibende Fehler des so gebildeten zweiten Grobpositionswertes (P2) mit Hilfe eines erzeugten korrigierten Grobpositionswertes (P1K) durch Addition eines festen Wertes zum korrigierten Positionswert (P) korrigiert wird. Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Einrichtung zur genauen Bestimmung der Absolutposition für Weg- und Winkelmesssysteme.
[EN] The method involves determining two periodical values (PHI1, PHI2) from input values (C1, C2, S1, S2). A coarse position value (P1) of item is determined from the input values and a unique computed correction matrix (KMC). A correction value (K) for the periodical values is determined. Errors in another coarse position value (P2) of item are corrected by adding a fixed value to a corrected coarse position value (P1K) of item. A value of the correction matrix is adjusted based on a mistake vector. An independent claim is also included for a device for facilitating accurate determination of an absolute position of an angle measuring system. |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
DE000010332413B3
DE000019849554C1
DE000019934478A1
DE102004038621B3
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
G01B 21/02
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