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Titel |
TI |
[DE] Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer [EN] Method for electrolytic separation of copper from acid electrolyte during the raffination electrolysis, comprises adding electrolyte solution to bis-(3-sodiumsulfopropyl)disulfide and then adding additive such as glue or gelatin |
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Anmelder/Inhaber |
PA |
Technische Universität Bergakademie Freiberg, 09599, Freiberg, DE
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72 |
Erfinder |
IN |
Bombach, Hartmut, Dr., 09599, Freiberg, DE
;
Stelter, Michael, Prof., 09600, Oberschöna, DE
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22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
13.01.2010 |
21 |
Anmeldenummer |
AN |
102010004438 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
14.07.2011 |
33 31 32 |
Priorität |
PRC PRN PRD |
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51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
C25C 1/12
(2006.01)
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51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
C25C 1/12
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
C25C 1/12
(2006.01)
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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Zusammenfassung |
AB |
[DE] Die Erfindung kann in Kupferraffinationselektrolysen, bei denen wegen einer gleichmäßigen kathodischen Abscheidung mit Zusätzen im Elektrolyten gearbeitet wird, zur Anwendung gelangen. Der Erfindung liegt die technische Aufgabe zugrunde, für die Kupferraffinationselektrolyse Zusätze zu finden, die auch bei höheren Stromdichten glatte Katodenoberflächen und niedrige Gehalte an nicht eingebautem Schwefel im Katodenkupfer gewährleisten. Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, dass der Elektrolytlösung neben Leim oder Gelatine Bis-(3-natriumsulfopropyl)disulfid (SPS) zugesetzt wird. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren werden auch bei höheren Stromdichten sehr glatte Kathoden mit extrem niedrigen S-Gehalten erzeugt. [EN] The method for electrolytic separation of copper from acid electrolyte during the raffination electrolysis, comprises adding electrolyte solution to bis-(3-sodiumsulfopropyl)disulfide and then adding additive such as glue or gelatin. The continuous and discontinuous supply of bis-(3-sodiumsulfopropyl)disulfide is carried out in flow density of 100-800 A/m 2>. |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate, in Recherche ermittelt |
CT |
EP000002072642A1 KR102009046952A
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate, vom Anmelder genannt |
CT |
DE000002004209A
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56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate, in Recherche ermittelt |
CTNP |
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56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate, vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
C25C 1/12
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