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Document DE102009047179A1 (Pages: 16)

Bibliographic data Document DE102009047179A1 (Pages: 16)
INID Criterion Field Contents
54 Title TI [DE] Projektionsobjetiv
71/73 Applicant/owner PA Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Oberkochen, DE
72 Inventor IN Walser, Reinhold, 89077 Ulm, DE
22/96 Application date AD Nov 26, 2009
21 Application number AN 102009047179
Country of application AC DE
Publication date PUB Jun 9, 2011
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31
32		 Priority data PRC
PRN
PRD

51 IPC main class ICM G02B 17/06 (2006.01)
51 IPC secondary class ICS G02B 13/14 (2006.01)
IPC additional class ICA
IPC index class ICI
Cooperative patent classification CPC G02B 17/0647
G03F 7/70233
G03F 7/70308
G03F 7/70316
MCD main class MCM G02B 17/06 (2006.01)
MCD secondary class MCS G02B 13/14 (2006.01)
MCD additional class MCA
57 Abstract AB [DE] Um die Gesamttransmission eines Projektionsobjektivs insbesondere für die EUV-Lithographie zu erhöhen, wird ein Projektionsobjektiv (7) zur Abbildung eines in einer Objektebene (5) angeordneten Musters in eine Bildebene (9) mit Hilfe von elektromagnetischer Strahlung (3) aus dem extremen Ultraviolettbereich (EUV), wobei zwischen der Objektebene (5) und der Bildebene (9) mehrere mit Reflexbeschichtungen versehene, abbildende Spiegel (M1–M8) angeordnet sind und wobei mindestens einer der Spiegel (M1–M8) eine gradierte Reflexbeschichtung aufweist, vorgeschlagen, bei dem die gradierte Reflexbeschichtung einen elliptischen, parabolischen oder hyperbolischen Schichtdickenverlauf aufweist.
56 Cited documents identified in the search CT EP000001282011A2
56 Cited documents indicated by the applicant CT US000006927901B2
56 Cited non-patent literature identified in the search CTNP
56 Cited non-patent literature indicated by the applicant CTNP
Citing documents Determine documents
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Search file IPC ICP G02B 17/06
G03B 27/54